JPS584900U - 低温液化ガスタンクにおける残液気化装置 - Google Patents

低温液化ガスタンクにおける残液気化装置

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JPS584900U
JPS584900U JP9917881U JP9917881U JPS584900U JP S584900 U JPS584900 U JP S584900U JP 9917881 U JP9917881 U JP 9917881U JP 9917881 U JP9917881 U JP 9917881U JP S584900 U JPS584900 U JP S584900U
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JP
Japan
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liquefied gas
gas tank
residual liquid
vaporization device
temperature liquefied
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Application number
JP9917881U
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Inventor
野口　信久
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石川島播磨重工業株式会社
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  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案による低温液化ガスタンクにおける残液
気化装置の一実施例を示す概略縦断面図、第２図は第１
図の■−■線に沿う断面図、第３図は本考案の第２実施
例を示す概略縦断面図、第４図は本考案の第３実施例を
示す概略縦断面図、第５図は本考案の第４実施例を示す
概略横断面図、第６図は本考案の第５実施例を示す概略
横断面図である。　　　　　・ １・・・・・・低温液化ガスタンク、９．　１０．　２
１゜３１．３２・・・・・・リング状の配管、１２・・
・・・・液化ガス、１３，１４，２２．５３・・・・・
・ノズル、１５゜３３．４２・・・・・・ガス供給用配
管、１６・・・・・・ガス加熱器、３４．４３・・・・
・・ガス回収用配管、４１・・・・・・うず巻状の配管
、５２・・・・・・放射状の配管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. タンク内の底部に残留する低温液の、液面上方近傍位置
    よりタンク底部側に熱媒供給用配管を設置してなること
    を特徴とする低温液化ガスタンク−における残液気化装
    置。
JP9917881U 1981-07-03 1981-07-03 低温液化ガスタンクにおける残液気化装置 Pending JPS584900U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008007337A (ja) * 2006-06-27 2008-01-17 Sumitomo Heavy Ind Ltd オゾン濃縮装置
JP2009280458A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Sumitomo Heavy Ind Ltd オゾン濃縮装置及びオゾン濃縮装置の運転方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008007337A (ja) * 2006-06-27 2008-01-17 Sumitomo Heavy Ind Ltd オゾン濃縮装置
JP2009280458A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Sumitomo Heavy Ind Ltd オゾン濃縮装置及びオゾン濃縮装置の運転方法

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