JPS5849502B2 - ボロシリケ−ト硝子 - Google Patents
ボロシリケ−ト硝子Info
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- JPS5849502B2 JPS5849502B2 JP53078761A JP7876178A JPS5849502B2 JP S5849502 B2 JPS5849502 B2 JP S5849502B2 JP 53078761 A JP53078761 A JP 53078761A JP 7876178 A JP7876178 A JP 7876178A JP S5849502 B2 JPS5849502 B2 JP S5849502B2
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- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 title 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 9
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 claims description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 101100365657 Mus musculus Scgb2b2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
-
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- C03C3/00—Glass compositions
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- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
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-
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- C03C3/00—Glass compositions
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- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
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- Y10S501/903—Optical glass, e.g. silent on refractive index and/or ABBE number having refractive index less than 1.8 and ABBE number less than 70
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は中程度の屈折率から高屈折率までの範囲の屈折
率と比較的少ないアッペ数を有する、ジルコニウムを多
量に含有する光学用ポロシリヶート硝子とその製造方法
に関する。
率と比較的少ないアッペ数を有する、ジルコニウムを多
量に含有する光学用ポロシリヶート硝子とその製造方法
に関する。
特殊な物理学的数値を有する光学硝子に対する要望は、
最近、光学設計者の為に次第に増大しつつある。
最近、光学設計者の為に次第に増大しつつある。
光学系統の新しい設計、特に顕微鏡および写真用対物レ
ンズの新しい設計のためには、高屈折率n。
ンズの新しい設計のためには、高屈折率n。
を有すると同時にできるだけ少ないアツベ数ν8を有す
る光学硝子がますます必要となり、これらの光学硝子は
他の決定的な物理的数値として、負数の異常部分分散値
−Aν。
る光学硝子がますます必要となり、これらの光学硝子は
他の決定的な物理的数値として、負数の異常部分分散値
−Aν。
を有するものである。
このような特殊な硝子を導入することによって、光学系
統の結像収差を除去又は対物レンズの収差補正状態を改
良することが光学設計者にとって非常にうまく行くので
ある。
統の結像収差を除去又は対物レンズの収差補正状態を改
良することが光学設計者にとって非常にうまく行くので
ある。
異常部分分散値はこの際重要な役割を演ずる。
ドイツ国特許第1496563号明細書に、異常部分分
散値を有する光学硝子の重要性、応用および名称が記載
されている。
散値を有する光学硝子の重要性、応用および名称が記載
されている。
新らしい光学硝子に要求される上記の如き純粋な物理学
的性質のほかに、硝子の専門家はまた化学的・生産技術
的な要望を顧慮しなければならない。
的性質のほかに、硝子の専門家はまた化学的・生産技術
的な要望を顧慮しなければならない。
即ち光学硝子はできるだけ大量生産技術的に製造されな
げればならずそして該光学硝子は著しい結晶傾向を有す
ることは許されない。
げればならずそして該光学硝子は著しい結晶傾向を有す
ることは許されない。
経済的な生産方式のためには余りに高温度の熔融温度を
必要としないこと。
必要としないこと。
最后にこの種類の光学硝子を選択しそして使用した場合
の加工技術上の要素が重要な役割を演ずること等を顧慮
しなげればならない。
の加工技術上の要素が重要な役割を演ずること等を顧慮
しなげればならない。
本質的に珪酸(SiO2)、硼酸(B203)、酸化ジ
ルコニウム( Zr02 )および土類金属酸化物から
戒り立っている硝子の組成がすでに公知となっている。
ルコニウム( Zr02 )および土類金属酸化物から
戒り立っている硝子の組成がすでに公知となっている。
しかしこの硝子は実際に使用する場合において適当なも
のでないことが判っている。
のでないことが判っている。
何故ならばこの硝子は著しい結晶傾向をもっているため
僅かな少量づつ、従って不経済的な単位量だけ熔融する
ことが可能となっているからである。
僅かな少量づつ、従って不経済的な単位量だけ熔融する
ことが可能となっているからである。
この硝子と比較できるような硝子を製造しようとして、
アルカリ金属の酸化物の代りにアルカリ土類金属酸化物
を含有する硝子を製造すれば、いわゆる正常分散を示す
直線からの負数の嬬差、即ち(@Aν8値は本質的に僅
少なものが得られる。
アルカリ金属の酸化物の代りにアルカリ土類金属酸化物
を含有する硝子を製造すれば、いわゆる正常分散を示す
直線からの負数の嬬差、即ち(@Aν8値は本質的に僅
少なものが得られる。
ドイツ国特許第691356号明細書によれば、高屈折
率と僅かな分散を有する光学硝子を製造する方法が公知
となっており、該明細書中には、特にチタン、イットリ
ウム、ジルコニウム、ニオビウム、ランタン、タンタル
およびタングステンの酸化物の一種又は数種が含有され
ていることが記載されている。
率と僅かな分散を有する光学硝子を製造する方法が公知
となっており、該明細書中には、特にチタン、イットリ
ウム、ジルコニウム、ニオビウム、ランタン、タンタル
およびタングステンの酸化物の一種又は数種が含有され
ていることが記載されている。
その他の添加物としてはトリウムおよびハフニウムが挙
げられる。
げられる。
この公知となっている光学硝子はそれのne/ν8 の
数値が他と非常に異なった値を有している。
数値が他と非常に異なった値を有している。
また部分分散値において要望されている異常分散につい
て何等の特記すべきことがない。
て何等の特記すべきことがない。
本発明の目的は上記した如き公知の光学硝子の欠点を除
去し、そして該光学硝子において決定されたn。
去し、そして該光学硝子において決定されたn。
/ν8の値の他に付加的に負の異常部分分散を有し、光
学結像系統の2次スペクトルの補正を可能にする如き光
学硝子を創成することである。
学結像系統の2次スペクトルの補正を可能にする如き光
学硝子を創成することである。
本発明の別の目的は上記の如き光学硝子の製造方法を提
供することである。
供することである。
上記の目的は本発明により次に記載する組成と製造過程
とによって得られる光学硝子によって達或される。
とによって得られる光学硝子によって達或される。
屈折率〜が1. 5 5 < n, < 1. 7 2
の範囲にあり、アツベ数ν が50>ν。
の範囲にあり、アツベ数ν が50>ν。
〉34の範囲にあe
り、負数の異常部分分散値Aν8が−3.0と一7.7
の間にあるジルコニウムを含有する本発明のポロシリケ
ート硝子は次の重量パーセントによって示された組或を
有する。
の間にあるジルコニウムを含有する本発明のポロシリケ
ート硝子は次の重量パーセントによって示された組或を
有する。
(a) 8.4乃至45.58i02、0.9乃至3
30B203、この際( Si02+B203)は31
.6と46.4の間にあること、 (b) 13.5乃至18.9Zr02、この際(S
iO2+B2 03 +Z r02 )は46.1と6
4.4の間にあること、 (c)0乃至5.0Li20,O乃至2 2.3Na2
0, 0乃至10.0K20,O乃至24.ONaF,
この際アルカリ金属酸化物の和: (Li20+Na2
0+K,0) はOと21.8の間にありそして(ア
ルカリ金属酸化物+NaF) の和は8.0と24.
0の間にあること、 (d)0乃至2.OBaO,0乃至2. 3 Z nO
、0乃至0.5CdO,O乃至5.OPbO、この際2
価元素の酸化物の和: (BaO+ZnO+CdO+P
bO)はOと5.5の間にあること、 (e) 0乃至9.9A1203、O乃至24.8L
a203、O乃至23.ISb203、O乃至4.OY
203、この際3価元素の酸化物の和:(Al203+
La203+Sb203 +Y203)はOと26.9
の間にあること、 (f) O乃至5. O Ge0 2、O乃至1.0
Ti02、この際4価元素の酸化物の和:(Zr02+
Ge02+Ti02)は13.5と20.6の間にある
こと、(g) O乃至5.ONb205、O乃至33
.ITa205、この際5価元素の酸化物の和:(Nb
205+Ta205)はOと36、1の間にあること、
(h)0乃至2.1■03. および上記硝子は上記組戒以外に、修正のための添加物
の少くとも1つ:Sn02および/またはP205を重
量パーセント3%までを含有することができる。
30B203、この際( Si02+B203)は31
.6と46.4の間にあること、 (b) 13.5乃至18.9Zr02、この際(S
iO2+B2 03 +Z r02 )は46.1と6
4.4の間にあること、 (c)0乃至5.0Li20,O乃至2 2.3Na2
0, 0乃至10.0K20,O乃至24.ONaF,
この際アルカリ金属酸化物の和: (Li20+Na2
0+K,0) はOと21.8の間にありそして(ア
ルカリ金属酸化物+NaF) の和は8.0と24.
0の間にあること、 (d)0乃至2.OBaO,0乃至2. 3 Z nO
、0乃至0.5CdO,O乃至5.OPbO、この際2
価元素の酸化物の和: (BaO+ZnO+CdO+P
bO)はOと5.5の間にあること、 (e) 0乃至9.9A1203、O乃至24.8L
a203、O乃至23.ISb203、O乃至4.OY
203、この際3価元素の酸化物の和:(Al203+
La203+Sb203 +Y203)はOと26.9
の間にあること、 (f) O乃至5. O Ge0 2、O乃至1.0
Ti02、この際4価元素の酸化物の和:(Zr02+
Ge02+Ti02)は13.5と20.6の間にある
こと、(g) O乃至5.ONb205、O乃至33
.ITa205、この際5価元素の酸化物の和:(Nb
205+Ta205)はOと36、1の間にあること、
(h)0乃至2.1■03. および上記硝子は上記組戒以外に、修正のための添加物
の少くとも1つ:Sn02および/またはP205を重
量パーセント3%までを含有することができる。
上記の組戒な有する光学硝子の製造過程は次の段階に従
って行われる。
って行われる。
(a) 混合物の加熱は白金るつぼの中で1345℃
乃至1400℃の温度で行われる。
乃至1400℃の温度で行われる。
(b) 熔融体を1385゜Cと1450℃の間の温
度で7乃至15分間清澄にする。
度で7乃至15分間清澄にする。
(c) 1360’Cと1400゜Cの間の温度で8
0乃至120分間、絶えず攪拌することによって均質化
する。
0乃至120分間、絶えず攪拌することによって均質化
する。
(d)3乃至8分間の間に1135゜Cから1185゜
Cの間の鋳込み温度に下るまでの間攪拌を続ける。
Cの間の鋳込み温度に下るまでの間攪拌を続ける。
(e) 予備加熱されている型容器の中に注入する。
本発明による光学硝子は、比較的低い鋳込み温度になる
まで結晶が発生することなく攪拌することができるとい
う別の特徴を有している。
まで結晶が発生することなく攪拌することができるとい
う別の特徴を有している。
このことが可能であることによってのみ筋や折出物のな
い光学硝子を大量に得ることができる。
い光学硝子を大量に得ることができる。
添付した第1乃至7表には本発明の実施例(74例)が
示されている。
示されている。
組成はすべて重量%で示されている。
表には個々の成分のほかに戒分の群の和も示され、この
群は複雑な多くの無機化合物の相似的な作用のためまと
めて表現されているものである。
群は複雑な多くの無機化合物の相似的な作用のためまと
めて表現されているものである。
表の下部には物理的な数値が示されており、それは
Aν8二ドイツ国特許第1496563号明細書の添付
図に示された如き通常分散を示す直線から負(マイナス
)方向に偏差した値である。
図に示された如き通常分散を示す直線から負(マイナス
)方向に偏差した値である。
第1表には硝子を形成する主要成分である珪酸(S10
2)および硼酸(B203)並びに重要な成分2酸化ジ
ルコニウム(zrO2)のほかに、ナトリウム化合物並
びにタンタルおよびタングステン酸化物が示されている
。
2)および硼酸(B203)並びに重要な成分2酸化ジ
ルコニウム(zrO2)のほかに、ナトリウム化合物並
びにタンタルおよびタングステン酸化物が示されている
。
この際ナトリウム弗化物(NaF) は一部をナ}
IJウム酸化物で置き換えられる。
IJウム酸化物で置き換えられる。
この表の実施例はSi02とB208とは相互に可成り
の量を交換できることを示している。
の量を交換できることを示している。
第2表にはアルカリ金属の成分の変化のほかに酸化アン
チモン(Sb203)が物理的性質に及ぼす影響を示す
実施例が示されている。
チモン(Sb203)が物理的性質に及ぼす影響を示す
実施例が示されている。
第3乃至第7表には更に多価元素酸化物、例えば酸化ゲ
ルマニウム(Ge02)、2酸化チタン(Ti02)、
酸化ランタン(La203)、酸化イットリウム(Y2
03)、5酸化ニオビウム(Nb20,)、が挙げられ
ている。
ルマニウム(Ge02)、2酸化チタン(Ti02)、
酸化ランタン(La203)、酸化イットリウム(Y2
03)、5酸化ニオビウム(Nb20,)、が挙げられ
ている。
その際実施例57以后には、上記のほかに2価金属酸化
物、例えば酸化バリウム(BaO)、酸化亜鉛(ZnO
)、および酸化カドミウム(CdO)が加えられている
。
物、例えば酸化バリウム(BaO)、酸化亜鉛(ZnO
)、および酸化カドミウム(CdO)が加えられている
。
本発明による硝子を製造する方法は、次に述べる熔融実
施例で詳細に説明される。
施例で詳細に説明される。
即ち
から成り立っている秤量された物質5kgをよく混合し
、1380゜Cに加熱された白金るつぼの中に少量宛挿
入する。
、1380゜Cに加熱された白金るつぼの中に少量宛挿
入する。
混合物が熔融した后で1430℃で10分間清澄にされ
、引続いて1385℃で約100分間絶えず攪拌して均
一にされる。
、引続いて1385℃で約100分間絶えず攪拌して均
一にされる。
それから数分間の間に1150℃の鋳込み温度になるま
で攪拌しながら下げられそして予備加熱された型に注入
される。
で攪拌しながら下げられそして予備加熱された型に注入
される。
上記の方法によって熔融された硝子の物理学的数字は精
密焼鈍后に ne−1.6 4 1 3 23 ν。
密焼鈍后に ne−1.6 4 1 3 23 ν。
=42.23&g=0.4 9 7 0
jν8==−7.02
である。
当然選択された秤量混合物によって適用される熔融条件
(温度、時間)は変化する。
(温度、時間)は変化する。
しかしその変化は前記した本発明の硝子を製造する場合
の製造過程の段階において述べた範囲を超えることはな
い。
の製造過程の段階において述べた範囲を超えることはな
い。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 屈折率neが1.55<〜<1.72の範囲にあり
、アツベ数ν8が50>ν8〉34の範囲にあり、負数
の異常部分分散値Aν8が−3.0と−7.7の間にあ
るジルコニウムを含有するポロシリケート硝子において
、次の(a)〜(i)に示す重量パーセント成分から戒
り立っていることを特徴とするジルコニウムを含有する
ポロシリケート硝子。 ?a) 8.4乃至45.58i02、0.9乃至3
3.0B203、この際(Si02+8203)は31
.6と46.4の間にあること、 (b)13.5乃至18.92r02、この際(SiO
2+B203+ZrO2)は46.1と64.4の間に
あること、 (c)0乃至5.0Li20,0乃至22.3Na20
,0乃至10.0K20,O乃至2 4. O NaF
,この際アルカリ金属酸化物の和:(Li20+Na
20+K20)はOと22.3の間にありそして総和(
アルカリ金属酸化物+NaF) は8.0と24.0
の間にあること、 (d) O乃至2.OBad,0乃至2.3ZnO,
O乃至0. 5 CdO,.O乃至5.OPbO,この
際2価元素の酸化物の和: ( B aO +Z nO
+CdO +PbO )はOと5.5の間にあること
、 (e) O乃至9.9A103、O乃至2 4. 8
L a2 0g、0乃至23.ISb203、0乃至
4.OY203、この際3価元素の酸化物和:(Al2
03+La203+Sb203+Y203)は0と26
.9の間にあること、 (f) O乃至5.OGe02、0乃至1.OTi0
2、この際4価元素の酸化物の和: (Zr02+Ge
02+Ti02)は13.5と20.6の間にあること
、(g) O乃至5. O Nb2 o,、O乃至3
3. I Ta205、この際5価元素の酸化物の和
:(Nb20,+’I’a205)は0と36.1の間
にあること、(h)0乃至2.1WO3、 (i) O乃至3.OSn02、0乃至3.OP20
,、この際(Sn02+P205)は0と3.0の間に
あること。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19772729706 DE2729706A1 (de) | 1977-07-01 | 1977-07-01 | Zirkonhaltige borosilikatglaeser mit brechzahlen n tief e im bereich von 1,55 kleiner als n tief e kleiner als 1,72, abbe-zahlen ny tief e im bereich von 50 groesser als ny tief e groesser als 34 sowie negativen anomalen teildispersionswerten delta ny tief e zwischen -3,0 und -7,7, sowie verfahren zu ihrer herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5439424A JPS5439424A (ja) | 1979-03-26 |
| JPS5849502B2 true JPS5849502B2 (ja) | 1983-11-04 |
Family
ID=6012874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53078761A Expired JPS5849502B2 (ja) | 1977-07-01 | 1978-06-30 | ボロシリケ−ト硝子 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4200467A (ja) |
| JP (1) | JPS5849502B2 (ja) |
| DE (1) | DE2729706A1 (ja) |
| FR (1) | FR2396331B1 (ja) |
| GB (1) | GB2000491B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55151601A (en) * | 1979-05-15 | 1980-11-26 | Minolta Camera Co Ltd | Pentagonal prism for camera finder |
| DE3917614C1 (ja) * | 1989-05-31 | 1990-06-07 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
| JP3113604B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2000-12-04 | 株式会社オハラ | 負の異常分散性を有する光学ガラス |
| DE19906240A1 (de) | 1999-02-15 | 2000-08-17 | Schott Glas | Hochzirkoniumoxidhaltiges Glas und dessen Verwendungen |
| HRP20010552A2 (en) | 1999-02-15 | 2002-08-31 | Schott Glas | Glass with high proportion of zirconium-oxide and its uses |
| JP4799726B2 (ja) * | 2000-10-02 | 2011-10-26 | 株式会社住田光学ガラス | 耐紫外線ガラス |
| CN1313403C (zh) * | 2003-12-31 | 2007-05-02 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 光放大用铒镱共掺多组份氧化物玻璃及其制备方法 |
| CN104909559B (zh) * | 2014-03-13 | 2019-07-09 | 成都光明光电股份有限公司 | 具有负向反常色散的光学玻璃和光学元件 |
| JP6804264B2 (ja) * | 2015-11-11 | 2020-12-23 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 |
| US10370289B2 (en) | 2015-11-11 | 2019-08-06 | Ohara Inc. | Optical glass, preform, and optical element |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE919195C (de) * | 1952-11-22 | 1954-10-14 | Leitz Ernst Gmbh | Optisches Kronglas |
| DE962288C (de) * | 1954-09-14 | 1957-04-18 | Leitz Ernst Gmbh | Optisches Glas |
| GB812576A (en) * | 1956-09-10 | 1959-04-29 | Pittsburgh Plate Glass Co | Improvements in or relating to glass composition |
| BE551390A (ja) * | 1956-09-10 | |||
| DE1303171B (ja) * | 1966-05-03 | 1971-11-25 | Ernst Leitz Gmbh | |
| GB1506916A (en) * | 1974-07-24 | 1978-04-12 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Optical glass |
| DE2660012C2 (de) * | 1975-06-02 | 1983-12-22 | Hoya Glass Works, Ltd, Tokyo | Gläser für Augenlinsen mit einem Brechungsindex von mindestens 1,70, einem Abbe-Wert von 40 und einem spezifischen Gewicht von nicht mehr als 3,0g/cm↑3↑ |
| JPS5269915A (en) * | 1975-12-10 | 1977-06-10 | Hoya Glass Works Ltd | Glass for lens of eyeglasses |
-
1977
- 1977-07-01 DE DE19772729706 patent/DE2729706A1/de active Granted
-
1978
- 1978-06-27 FR FR7819199A patent/FR2396331B1/fr not_active Expired
- 1978-06-28 US US05/919,998 patent/US4200467A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-06-29 GB GB7828383A patent/GB2000491B/en not_active Expired
- 1978-06-30 JP JP53078761A patent/JPS5849502B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2000491B (en) | 1982-05-26 |
| DE2729706C2 (ja) | 1988-03-03 |
| GB2000491A (en) | 1979-01-10 |
| US4200467A (en) | 1980-04-29 |
| FR2396331A1 (ja) | 1979-01-26 |
| FR2396331B1 (ja) | 1983-12-30 |
| JPS5439424A (ja) | 1979-03-26 |
| DE2729706A1 (de) | 1979-01-11 |
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