JPS58519B2 - ロジウムメツキヨク - Google Patents
ロジウムメツキヨクInfo
- Publication number
- JPS58519B2 JPS58519B2 JP9015075A JP9015075A JPS58519B2 JP S58519 B2 JPS58519 B2 JP S58519B2 JP 9015075 A JP9015075 A JP 9015075A JP 9015075 A JP9015075 A JP 9015075A JP S58519 B2 JPS58519 B2 JP S58519B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rhodium
- plating
- acid
- bath
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 title claims description 43
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 title claims description 43
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 43
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 44
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- WMFZVLIHQVUVGO-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanol Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(O)C1=CC=CC=C1 WMFZVLIHQVUVGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 6
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 6
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 6
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- LVRFTAZAXQPQHI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4-methylvaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)C(O)=O LVRFTAZAXQPQHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は広範囲の電流密度で使用でき、かつ光沢のある
厚付は可能なリン酸系ロジウムめっき浴に関するもので
ある。
厚付は可能なリン酸系ロジウムめっき浴に関するもので
ある。
従来のリン酸ロジウムめっき浴は電流密度を高くすると
曇りが生じ、又、厚ロジウムめっきを施そうとしてもロ
ジウムめっき特有の光沢が得られず、かつ1μ以上ロジ
ウムめっきがなされない等の欠点があった。
曇りが生じ、又、厚ロジウムめっきを施そうとしてもロ
ジウムめっき特有の光沢が得られず、かつ1μ以上ロジ
ウムめっきがなされない等の欠点があった。
そこで、本発明者等は上記欠点を改善するため鋭意攻究
の結果、光沢のある厚ロジウムめっきが可能であり、か
つ広範囲の電流密度で使用できるリン酸系ロジウムめっ
き浴を見出したものであも本発明のリン酸系ロジウムめ
っき浴は従来のリン酸ロジウムめっき浴に、有機酸のう
ち水溶性で多塩基の鎖式カルボン酸の内から何れか1種
を添加したことを特徴とするめつき浴であって、このめ
っき浴により広範囲の電流密度で使用でき、かつ光沢の
ある厚めつきが可能な最適のリン酸系めっき浴を提出し
て前記要望に応えんとするものである。
の結果、光沢のある厚ロジウムめっきが可能であり、か
つ広範囲の電流密度で使用できるリン酸系ロジウムめっ
き浴を見出したものであも本発明のリン酸系ロジウムめ
っき浴は従来のリン酸ロジウムめっき浴に、有機酸のう
ち水溶性で多塩基の鎖式カルボン酸の内から何れか1種
を添加したことを特徴とするめつき浴であって、このめ
っき浴により広範囲の電流密度で使用でき、かつ光沢の
ある厚めつきが可能な最適のリン酸系めっき浴を提出し
て前記要望に応えんとするものである。
而して本発明において使用する上記の添加成分分は、ロ
イシン酸、レブリン酸、リンゴ酸、マロン酸、乳酸、セ
バシン酸、酒石酸、シュウ酸、シクロヘキサンジカルボ
ン酸、コハク酸、クエン酸、アクリル酸、その他の多塩
基の鎖式カルボン酸を含むものである。
イシン酸、レブリン酸、リンゴ酸、マロン酸、乳酸、セ
バシン酸、酒石酸、シュウ酸、シクロヘキサンジカルボ
ン酸、コハク酸、クエン酸、アクリル酸、その他の多塩
基の鎖式カルボン酸を含むものである。
本発明は金属ロジウムとしてロジウム0.1〜10g/
lとリン酸30〜1000g/lとよりなるリン酸ロジ
ウムめっき浴に多塩基の鎖式カルボン酸の内の倒れか1
種を0.1〜10g/l添加したリン酸系ロジウムめっ
き浴である。
lとリン酸30〜1000g/lとよりなるリン酸ロジ
ウムめっき浴に多塩基の鎖式カルボン酸の内の倒れか1
種を0.1〜10g/l添加したリン酸系ロジウムめっ
き浴である。
リン酸系ロジウムめっき浴成分において、多塩基の鎖式
カルボン酸の内の何れか1種を添加したことによって得
られる最も大きな効果は、光沢ある厚めつきが広範囲の
電流密度で使用出来ることである。
カルボン酸の内の何れか1種を添加したことによって得
られる最も大きな効果は、光沢ある厚めつきが広範囲の
電流密度で使用出来ることである。
従来の単にリン酸のみのロジウムめっき浴からのロジウ
ムめっきは9A/dm2以上の高電流密度域で白色の曇
りが生じ、又、1μ以上の厚めつきを施すと乳白色に曇
り、光沢のある厚付は可能なロジウムめっきとしては不
適当である。
ムめっきは9A/dm2以上の高電流密度域で白色の曇
りが生じ、又、1μ以上の厚めつきを施すと乳白色に曇
り、光沢のある厚付は可能なロジウムめっきとしては不
適当である。
次に本発明のめつき浴の組成範囲について説明する。
浴中、リン酸30g/l以下では黒く荒れたロジウムめ
っきが得られ、1000g/1以上ではめつき浴の粘性
が高くなり、めつきムラが生じるので、リン酸は30〜
1000g/lが適当である。
っきが得られ、1000g/1以上ではめつき浴の粘性
が高くなり、めつきムラが生じるので、リン酸は30〜
1000g/lが適当である。
金属ロジウムが0.1μ以下ではロジウム含有量が少な
いため曇っためっきが得られ、浴の老化が早く、又、金
属ロジウムが10g/1以上では、くみ出しによるロジ
ウムの減量が無視できないため金属ロジウムは0,1〜
10g/lが適当である。
いため曇っためっきが得られ、浴の老化が早く、又、金
属ロジウムが10g/1以上では、くみ出しによるロジ
ウムの減量が無視できないため金属ロジウムは0,1〜
10g/lが適当である。
又、多塩基の鎖式カルボン酸の内の何れか1種が0.1
g/l以下では広範囲の電流密度での使用ができ、且つ
光沢のある厚付を可能にする本発明の効果が現われず、
10g/1以上では粗く、灰白色のロジウムめっきが得
られるから適当でない。
g/l以下では広範囲の電流密度での使用ができ、且つ
光沢のある厚付を可能にする本発明の効果が現われず、
10g/1以上では粗く、灰白色のロジウムめっきが得
られるから適当でない。
また、多塩基とし、−塩基のギ酸、鉛酸を除いたのは、
ギ酸は還元作用が強くロジウムを還元し。
ギ酸は還元作用が強くロジウムを還元し。
酢酸はロジウムめっき面に付着しやすく、めっき面に悪
い影響を与えるので、いづれも不適当であるためである
。
い影響を与えるので、いづれも不適当であるためである
。
又、多塩基の鎖式カルボン酸を1種としたのは老化した
ロジウムめっき浴からの金属ロジウムの回収や廃液の処
理等の管理面を考えてのことであり、2種以上入れても
1種の場合と比較して際だった効果はなく、管理が大変
になるからである。
ロジウムめっき浴からの金属ロジウムの回収や廃液の処
理等の管理面を考えてのことであり、2種以上入れても
1種の場合と比較して際だった効果はなく、管理が大変
になるからである。
上述のごとき組成を有する本発明のリン酸系ロジウムめ
っき浴は、広範囲の電流密度で使用できかつ光沢のある
厚付は可能なロジウムめっきが得られ、従来のリン酸ロ
ジウムめっき浴にとってかわることのできる優れた性能
を有するものである。
っき浴は、広範囲の電流密度で使用できかつ光沢のある
厚付は可能なロジウムめっきが得られ、従来のリン酸ロ
ジウムめっき浴にとってかわることのできる優れた性能
を有するものである。
次に本発明のめつき浴の効果を一層明瞭ならしめるため
、その具体的実施例をあげその試験結果について詳細に
説明する。
、その具体的実施例をあげその試験結果について詳細に
説明する。
実施例1
金属ロジウムとしてロジウム2g/l、リン酸250g
/lの従来浴と、この浴に更に酒石酸5g/lを添加し
た本発明浴とを50℃の液温で267m1のハルセル中
で5分間3A/dm2の電流密度で金ストライクを施し
た6cm×10cmの黄銅板に各々ロジウムめっきを行
ったところ、本発明浴からのロジウムめっきは0.15
〜15A/drn2の全範囲にわたって銀白色光沢があ
ったが、従来浴によるロジウムめっきは9A/dm2以
上の電流密度で灰白色であった。
/lの従来浴と、この浴に更に酒石酸5g/lを添加し
た本発明浴とを50℃の液温で267m1のハルセル中
で5分間3A/dm2の電流密度で金ストライクを施し
た6cm×10cmの黄銅板に各々ロジウムめっきを行
ったところ、本発明浴からのロジウムめっきは0.15
〜15A/drn2の全範囲にわたって銀白色光沢があ
ったが、従来浴によるロジウムめっきは9A/dm2以
上の電流密度で灰白色であった。
尚、酒石酸の代わりにシュウ酸、クエン酸、マロン酸、
リンゴ酸、レブリン酸、ロイシン酸の内の何れか1種を
0.6g/l添加した本発明浴によるロジウムめっきも
前記同様に銀白色光沢があった。
リンゴ酸、レブリン酸、ロイシン酸の内の何れか1種を
0.6g/l添加した本発明浴によるロジウムめっきも
前記同様に銀白色光沢があった。
実施例2
金属ロジウムとしてロジウム5g/lリン酸500μの
従来浴と、この浴に更に酒石酸8μを添加した本発明浴
とを50℃の温度で5A/dm2の電流密度で2cm×
4cmの黄銅板にニッケルめっきを施したものを30分
間ロジウムめっきしたところ、従来浴からのロジウムめ
っきは10分1μで表面光沢が失われはじめたか、本発
明の浴からのロジウムめっきは30分で3μのロジウム
めっきが得られ、かつ銀白色の光沢のあるものであった
。
従来浴と、この浴に更に酒石酸8μを添加した本発明浴
とを50℃の温度で5A/dm2の電流密度で2cm×
4cmの黄銅板にニッケルめっきを施したものを30分
間ロジウムめっきしたところ、従来浴からのロジウムめ
っきは10分1μで表面光沢が失われはじめたか、本発
明の浴からのロジウムめっきは30分で3μのロジウム
めっきが得られ、かつ銀白色の光沢のあるものであった
。
亦、酒石酸のかわりにクエン酸又はコハク酸を用いても
上記同様の好結果を得た。
上記同様の好結果を得た。
上記の実施例で明らかなように本発明のリン酸系ロジウ
ムめっき浴は従来のリン酸ロジウムめっき浴にくらべ著
しく電流密度範囲が広く、また、厚めつきを施しても銀
白色の光沢が失われない特徴と効果を有する画期的な発
明であって産業上の利用価値は極めて大と云うべきであ
る。
ムめっき浴は従来のリン酸ロジウムめっき浴にくらべ著
しく電流密度範囲が広く、また、厚めつきを施しても銀
白色の光沢が失われない特徴と効果を有する画期的な発
明であって産業上の利用価値は極めて大と云うべきであ
る。
Claims (1)
- 1金属ロジウムとしてロジウム0.1〜10g/lと、
リン酸30〜1000V/lとよりなるリン酸ロジウム
めっき浴に、多塩基の鎖式カルボン酸の内の何れか1種
を0.1〜10ft/を添加したことを特徴とするリン
酸系ロジウムめっき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9015075A JPS58519B2 (ja) | 1975-07-25 | 1975-07-25 | ロジウムメツキヨク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9015075A JPS58519B2 (ja) | 1975-07-25 | 1975-07-25 | ロジウムメツキヨク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5214537A JPS5214537A (en) | 1977-02-03 |
| JPS58519B2 true JPS58519B2 (ja) | 1983-01-06 |
Family
ID=13990459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9015075A Expired JPS58519B2 (ja) | 1975-07-25 | 1975-07-25 | ロジウムメツキヨク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58519B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6921062B2 (en) | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
| WO2019176049A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | 電解ロジウムめっき液 |
| JP7068899B2 (ja) * | 2018-04-03 | 2022-05-17 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | ロジウムリンめっき被膜および積層体材料 |
-
1975
- 1975-07-25 JP JP9015075A patent/JPS58519B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5214537A (en) | 1977-02-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2391289A (en) | Bright copper plating | |
| US3098018A (en) | Sealing anodized aluminum | |
| JPH05271980A (ja) | パラジウム−ニッケル合金メッキ液 | |
| US2676916A (en) | Electroplating on aluminum | |
| US2313756A (en) | Method of electroplating magnesium | |
| US2162789A (en) | Method of preparing metal surface for plating | |
| US3380898A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing a pink gold alloy | |
| US4545871A (en) | Method of making an article having a layer of a nickel-phosphorus alloy and coated with a protective layer | |
| US2457059A (en) | Method for bonding a nickel electrodeposit to a nickel surface | |
| JPS58519B2 (ja) | ロジウムメツキヨク | |
| US2224245A (en) | Protection of magnesium-rich alloys | |
| US2146439A (en) | Zinc plating | |
| US1574289A (en) | Protective coating for magnesium | |
| US4861440A (en) | Electrolytic formation of an aluminum oxide surface | |
| US3312604A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US2740754A (en) | Zinc plating brightener | |
| US2097211A (en) | Protective treatment of metals and alloys | |
| US2534911A (en) | Process of removing hydrogen embrittlement of bright nickel electrodeposits | |
| JPS58520B2 (ja) | ロジウムメツキヨク | |
| US2088429A (en) | Bright zinc | |
| US1491381A (en) | Process for the production of glossy metallic coatings on metals | |
| US2133996A (en) | Art of gold plating | |
| US4071416A (en) | Treatment of chromium-containing iron alloys | |
| US3141836A (en) | Electrodeposition of bright tin-nickel | |
| GB349747A (ja) |