JPS5852964B2 - ジヨソウザイソセイブツ - Google Patents
ジヨソウザイソセイブツInfo
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- JPS5852964B2 JPS5852964B2 JP49147912A JP14791274A JPS5852964B2 JP S5852964 B2 JPS5852964 B2 JP S5852964B2 JP 49147912 A JP49147912 A JP 49147912A JP 14791274 A JP14791274 A JP 14791274A JP S5852964 B2 JPS5852964 B2 JP S5852964B2
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- JP
- Japan
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- thiadiazol
- hydroxy
- thiadiazole
- methyl
- reaction mixture
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D285/00—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D275/00 - C07D283/00
- C07D285/01—Five-membered rings
- C07D285/02—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles
- C07D285/04—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles not condensed with other rings
- C07D285/12—1,3,4-Thiadiazoles; Hydrogenated 1,3,4-thiadiazoles
- C07D285/125—1,3,4-Thiadiazoles; Hydrogenated 1,3,4-thiadiazoles with oxygen, sulfur or nitrogen atoms, directly attached to ring carbon atoms, the nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
- C07D285/135—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な物質組成物に関するものであり、更に詳
しくは本発明は式 (式中、R1はアルキル、アルコキシ、ハロゲンまたは
ヒドロキシで置換されていてもよい炭素原子3〜7のシ
クロアルキルであり、R2はアルキルである。
しくは本発明は式 (式中、R1はアルキル、アルコキシ、ハロゲンまたは
ヒドロキシで置換されていてもよい炭素原子3〜7のシ
クロアルキルであり、R2はアルキルである。
)で表わされる新規な化合物に関する。
本発明の化合物は除草剤として予期しない程有用である
。
。
本発明の好ましい具体例において、R1は低級アルキル
、低級アルコキシ、塩素または臭素で置換されていても
よい炭素原子3〜7のシクロアルキルであり、R2は低
級アルキルである。
、低級アルコキシ、塩素または臭素で置換されていても
よい炭素原子3〜7のシクロアルキルであり、R2は低
級アルキルである。
本明細書中、「低級」なる語は炭素原子6までの直鎖状
または分岐状炭素鎖を意味する。
または分岐状炭素鎖を意味する。
本発明の化合式は式
(式中、R1及びR2は上記と同一の意義を有する。
)で表わされる化合物を希薄な水性酸性反応媒体中で約
10〜60分間加熱することにより容易に製造できる。
10〜60分間加熱することにより容易に製造できる。
約70℃から反応混合物の環流温度までの温度が使用で
きる。
きる。
反応媒体は約0.5〜5%濃度の塩酸のような希薄な水
性無機酸を含むことができる。
性無機酸を含むことができる。
反応完了後、反応混合物を冷却することにより所望の生
成物が沈殿として得られる。
成物が沈殿として得られる。
この生成物はそのままで使用できるし、また、再結晶等
の慣用手段により更に精製することもできる。
の慣用手段により更に精製することもできる。
式■の化合物は1モル量の式
(式中、R1は上記と同一の意義を有する。
)で表わされるイソシアナート二量体を約2モル量の式
(式中、R2は上記と同一の意義を有する。
)で表わされるジメチルアセクールと反応させることに
より製造できる。
より製造できる。
この反応はイソシアナート二量体とアセクールの混合物
をベンゼンのような不活性有機反応媒体中で反応混合物
の環流温度に加熱することにより達成できる。
をベンゼンのような不活性有機反応媒体中で反応混合物
の環流温度に加熱することにより達成できる。
環流下での加熱は約2〜30分間続けると反応が確実に
完了する。
完了する。
その後、反応媒体を蒸発して所望の生成物が得られる。
この生成物はそのまま用いることができ、またこの分野
における標準的な方法により更に精製することもできる
。
における標準的な方法により更に精製することもできる
。
式■で表わされるイソシアナート二量体は、式(式中、
R1は上記と同一の意義を有する。
R1は上記と同一の意義を有する。
)で表わされるチアジアゾールをホスゲンと反応させる
ことにより製造できる。
ことにより製造できる。
この反応はチャジアゾールを酢酸エチルのような適当な
有機溶媒に分散または溶解させたスラリーまたは溶液を
、酢酸エチルのような有機溶媒に溶解させたホスゲンの
飽和溶液に添加することにより達成できる。
有機溶媒に分散または溶解させたスラリーまたは溶液を
、酢酸エチルのような有機溶媒に溶解させたホスゲンの
飽和溶液に添加することにより達成できる。
得られた混合物は周囲温度で約4〜24時間攪拌できる
。
。
この反応混合物は次いで窒素ガスを吹込むことにより未
反応のホスゲンを除去できる。
反応のホスゲンを除去できる。
次いで所望の生成物はもしそれが沈殿として生成したな
らば濾過することにより、またそれが溶液中にあるなら
ば有機溶媒を蒸発させることにより得ることができる。
らば濾過することにより、またそれが溶液中にあるなら
ば有機溶媒を蒸発させることにより得ることができる。
この生成物はそのままでも使用でき、また所望の場合に
更に精製することもできる。
更に精製することもできる。
本発明の化合物を製造するのに有用な式■で表わされる
代表的なチアジアゾールは、5−シクロプロピル−2−
アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5−シクロブチ
ル−2−アミノ−1,3゜4−チアジアゾール、5−シ
クロペンチル−2アミノ−1,3,4−チアジアゾール
、5−シクロヘキシル−2−アミノ−1,3,4−チア
ジアゾール、5−シクロへブチル−2−アミノ−1,3
゜4−チアジアゾール、5−(2メチルシクロブチル)
−2−アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5−(3
−メトキシシクロペンチル)−2−アミノ−1,3,4
−チアジアゾール、5−(3−クロルシクロヘキシル)
−2−アミノ−1,3,4チアジアゾール、5−(1−
メチルシクロヘキシル)−2−アミノ−1,3,4−チ
アジアゾール、5−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)
−2アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5(4−1
0ルシクロヘキシル)−2−アミノ−1゜3.4−チア
ジアゾール、5−(4−ブロムシクロヘキシル)−2−
アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5−(3−エチ
ルシクロヘプチル)2−アミノ−1,3,4−チアジア
ゾール、5(3−プロポキシシクロヘキシル)−2−ア
ミノ1.3.4−チアジアゾール等である。
代表的なチアジアゾールは、5−シクロプロピル−2−
アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5−シクロブチ
ル−2−アミノ−1,3゜4−チアジアゾール、5−シ
クロペンチル−2アミノ−1,3,4−チアジアゾール
、5−シクロヘキシル−2−アミノ−1,3,4−チア
ジアゾール、5−シクロへブチル−2−アミノ−1,3
゜4−チアジアゾール、5−(2メチルシクロブチル)
−2−アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5−(3
−メトキシシクロペンチル)−2−アミノ−1,3,4
−チアジアゾール、5−(3−クロルシクロヘキシル)
−2−アミノ−1,3,4チアジアゾール、5−(1−
メチルシクロヘキシル)−2−アミノ−1,3,4−チ
アジアゾール、5−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)
−2アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5(4−1
0ルシクロヘキシル)−2−アミノ−1゜3.4−チア
ジアゾール、5−(4−ブロムシクロヘキシル)−2−
アミノ−1,3,4−チアジアゾール、5−(3−エチ
ルシクロヘプチル)2−アミノ−1,3,4−チアジア
ゾール、5(3−プロポキシシクロヘキシル)−2−ア
ミノ1.3.4−チアジアゾール等である。
本発明の化合物の製造法を下記の実施例においてより詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例 1
5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナート二量体の製造酢酸エチル(100
mAりに溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器
を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
−イルイソシアナート二量体の製造酢酸エチル(100
mAりに溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器
を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
酢酸エチル(100mのに5−シクロプロピル−2−ア
ミノ−1,3,4−チアジアゾール(6g)を加えたス
ラリーを反応器に添加し、得られた反応混合物を約■6
時間攪拌したところ沈殿が生成した。
ミノ−1,3,4−チアジアゾール(6g)を加えたス
ラリーを反応器に添加し、得られた反応混合物を約■6
時間攪拌したところ沈殿が生成した。
次いで反応混合物中に窒素ガスを吹込んで未反応のホス
ゲンを除去した。
ゲンを除去した。
吹込み終った混合物を濾過することにより所望の生成物
、5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−
2−イルイソシアナート二量体を得た。
、5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−
2−イルイソシアナート二量体を得た。
実施例 2
2−〔1−メチル−3−(5−シクロプロピル1.3,
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセクールの製造 5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体(7g)、2−メチルアミ
ノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(5g)及び
酢酸エチル(50TLl)の混合物を機械的攪拌器及び
環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセクールの製造 5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体(7g)、2−メチルアミ
ノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(5g)及び
酢酸エチル(50TLl)の混合物を機械的攪拌器及び
環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
この反応混合物を約2時間環流下で加熱した。
その後減圧下で混合物から溶媒を除いたところ、所望の
生成物、2−〔1メチル−3−(5−シクロプロピル−
1,3,4チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセ
トアルデヒドのジメチルアセクールを油として得た。
生成物、2−〔1メチル−3−(5−シクロプロピル−
1,3,4チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセ
トアルデヒドのジメチルアセクールを油として得た。
実施例 3
■−(5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 実施例2から得られた2−〔1−メチル−3(5−シク
ロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
ウレイド〕アセトアルデヒドのジメチルアセクール、水
(400ml)及び塩酸(4m0を機械的攪拌器、温度
計及び環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 実施例2から得られた2−〔1−メチル−3(5−シク
ロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
ウレイド〕アセトアルデヒドのジメチルアセクール、水
(400ml)及び塩酸(4m0を機械的攪拌器、温度
計及び環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
次いで反応混合物を熱時濾過し、ろ液を冷却し、沈殿を
生成させた。
生成させた。
沈殿を濾過により回収し、乾燥して酢酸エチルから再結
晶することにより所望の生成物である融点178〜17
9℃の1−(5−シクロプロピル−1,3,4−チアジ
アゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−
1,3−イミダゾリジン−2−オンを得た。
晶することにより所望の生成物である融点178〜17
9℃の1−(5−シクロプロピル−1,3,4−チアジ
アゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−
1,3−イミダゾリジン−2−オンを得た。
実施例 4
5−シクロヘキシル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体の製造酢酸エチル(500
1111)に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪
拌器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
−イルイソシアナートニ量体の製造酢酸エチル(500
1111)に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪
拌器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
5−シクロヘキシル−2−アミノ−1,3,4−チアジ
アゾール(6g)を反応器に添加し、反応混合物を環流
下で約4時間加熱、攪拌したところ、沈殿が生成した。
アゾール(6g)を反応器に添加し、反応混合物を環流
下で約4時間加熱、攪拌したところ、沈殿が生成した。
次いで反応混合物中に窒素ガスを吹込んで未反応のホス
ゲンを除去した。
ゲンを除去した。
吹込み終った混合物は次いで濾過することにより沈殿を
回収した。
回収した。
次いでこの沈殿をジメチルホルムアミドの水の混合物か
ら再結晶することにより所望の生成物である、融点23
7〜239℃の5−シクロヘキシル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナートニ量体を得た。
ら再結晶することにより所望の生成物である、融点23
7〜239℃の5−シクロヘキシル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナートニ量体を得た。
実施例 5
2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘキシル1.3,
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセクールの製造 5−シクロヘキシル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体(12g)、2−メチルア
ミノ−アセトアルデヒドのジメチルアセクール(6,9
g)及びベンゼン(60m7)の混合物を機械的攪拌器
及び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセクールの製造 5−シクロヘキシル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体(12g)、2−メチルア
ミノ−アセトアルデヒドのジメチルアセクール(6,9
g)及びベンゼン(60m7)の混合物を機械的攪拌器
及び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
反応混合物は環流下で約15分間加熱した。
その後、減圧下で混合物から溶媒を除いたところ残渣と
して固状物質が得られた。
して固状物質が得られた。
次いでこの残渣をメタノールから再結晶することにより
所望生成物である融点13−3〜134℃を有する2−
〔1−メチル−3−(5シクロヘキシル−1,3,5−
チアジアゾール2−イル)ウレイド〕アセトアルデヒド
のジメチルアセタールを得た。
所望生成物である融点13−3〜134℃を有する2−
〔1−メチル−3−(5シクロヘキシル−1,3,5−
チアジアゾール2−イル)ウレイド〕アセトアルデヒド
のジメチルアセタールを得た。
実施例 6
■−(5−シクロへキシル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘキシル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(15g)、水(400
1rLl)及び塩酸(4m0を機械的攪拌器、温度計及
び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘキシル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(15g)、水(400
1rLl)及び塩酸(4m0を機械的攪拌器、温度計及
び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
反応混合物は環流下で約15分間加熱した。
次いで反応混合物を熱時濾過し、p液を冷却することに
より沈殿を生成させた。
より沈殿を生成させた。
沈殿は〆過により回収し、乾燥してメタノールから再結
晶することにより、所望の生成物である融点154〜1
55℃の1−(5−シクロヘキシル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル)3−メチル−5−ヒドロキシ−
1,3−イミダプリジン−2−オンを得た。
晶することにより、所望の生成物である融点154〜1
55℃の1−(5−シクロヘキシル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル)3−メチル−5−ヒドロキシ−
1,3−イミダプリジン−2−オンを得た。
実施例 7
5−シクロブチル−1,3,4−チアジアゾール−2−
イルイソシアナートニ量体の製造酢酸エチル(100m
l)に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器を
備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
イルイソシアナートニ量体の製造酢酸エチル(100m
l)に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器を
備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
酢酸エチル(300m0に5シクロブチル−2−アミノ
−1,3,4−チアジアゾール(45g)を加えたスラ
リーを反応器に添加し、得られた混合物を約16時間攪
拌したところ、沈殿が生成した。
−1,3,4−チアジアゾール(45g)を加えたスラ
リーを反応器に添加し、得られた混合物を約16時間攪
拌したところ、沈殿が生成した。
次いでこの反応混合物に窒素ガスを吹込んで未反応のホ
スゲンを除去した。
スゲンを除去した。
吹込み終った混合物は次いで濾過して沈殿を回収した。
次いで沈殿を再結晶することにより所望の生成物5−シ
クロブチル−1,3,4−チアジアゾール−2−イルイ
ソシアナートニ量体を得た。
クロブチル−1,3,4−チアジアゾール−2−イルイ
ソシアナートニ量体を得た。
実施例 8
2−〔1−プロピル−3−(5−シクロブチル1.3.
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセタールの製造 5−シクロブチル−1,3,4−チアジアゾール−2−
イルイソシアナートニ量体(0,05モル)、2−プロ
ピルアミノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(0
,1モル)及びベンゼン(60TLl)の混合物を機械
的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込
んだ。
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセタールの製造 5−シクロブチル−1,3,4−チアジアゾール−2−
イルイソシアナートニ量体(0,05モル)、2−プロ
ピルアミノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(0
,1モル)及びベンゼン(60TLl)の混合物を機械
的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込
んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
その後、減圧下で混合物からベンゼンを除き、残渣とし
て固状生成物を得た。
て固状生成物を得た。
次いでこの残渣を再結晶することにより、所望の生成物
、2−〔1−プロピル−3−(5−シクロブチル−1,
3,4−チアジアゾール−2イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクールを得た。
、2−〔1−プロピル−3−(5−シクロブチル−1,
3,4−チアジアゾール−2イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクールを得た。
実施例 9
l−(5−シクロブチル−1,3,4−チアジアゾール
−2−イル)−3−プロピル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−〔1−プロピル−3−〔5−シクロブチル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(11)、水(400m
A)及び塩酸(4mのを機械的攪拌器、温度計及び環流
冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
−2−イル)−3−プロピル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−〔1−プロピル−3−〔5−シクロブチル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(11)、水(400m
A)及び塩酸(4mのを機械的攪拌器、温度計及び環流
冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
次いで反応混合物を熱時済過し、溶液を冷却して沈殿を
生成させた。
生成させた。
沈殿は濾過により回収して、乾燥し、再結晶することに
より所望の生成物、1−(5−シクロブチル1.3,4
−チアジアゾール−2−イル)−3プロピル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンを得た。
より所望の生成物、1−(5−シクロブチル1.3,4
−チアジアゾール−2−イル)−3プロピル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンを得た。
実施例 10
5−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体の製造酢酸エチル(100
m7)に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器
を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
−イルイソシアナートニ量体の製造酢酸エチル(100
m7)に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器
を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
5−シクロペンチル−2−アミノ−1,3,4−チアジ
アゾール(50g)を酢酸エチル(300mA)に加え
たスラリーを反応器に添加し、反応混合物を約16時間
攪拌したところ沈殿が生成した。
アゾール(50g)を酢酸エチル(300mA)に加え
たスラリーを反応器に添加し、反応混合物を約16時間
攪拌したところ沈殿が生成した。
次いで反応混合物に窒素ガスを吹込んで未反応のホスゲ
ンを除去した。
ンを除去した。
次いで吹込み終った混合物を濾過し、沈殿を回収した。
次いでこの沈殿を再結晶することにより所望の生成物5
−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾール−2−
イルイソシアナートニ量体を得た。
−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾール−2−
イルイソシアナートニ量体を得た。
実施例 11
2−〔l−メチル−3−(5−シクロペンチル1.3,
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセクールの製造 5−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体(0,05モル)、2−メ
チルアミノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(0
,1モル)及びベンゼン(60TLl)の混合物を機械
的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕
込んだ。
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセクールの製造 5−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナートニ量体(0,05モル)、2−メ
チルアミノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(0
,1モル)及びベンゼン(60TLl)の混合物を機械
的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕
込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
その後、減圧下で混合物からベンゼンを除き、残渣とし
て固状生成物を得た。
て固状生成物を得た。
次いで残渣を再結晶することにより所望の生成物2−〔
1−メチル−3−(5−シクロペンチル−1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアルデヒ
ドのジメチルアセクールを得た。
1−メチル−3−(5−シクロペンチル−1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアルデヒ
ドのジメチルアセクールを得た。
実施例 12
1−(5−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2− 〔1−メチル−3−(5−シクロペンチル1.3
,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(15g)、水(400
11LA)及び塩酸(4mのを機械的攪拌器、温度計及
び環流冷起器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2− 〔1−メチル−3−(5−シクロペンチル1.3
,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(15g)、水(400
11LA)及び塩酸(4mのを機械的攪拌器、温度計及
び環流冷起器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
次いで反応混合物を熱時濾過し、F液を冷却して沈殿を
生成させた。
生成させた。
この沈殿を濾過により回収し、乾燥して再結晶すること
により所望の生成物、■−(5−シクロペンチル−1、
3、4−チアジアゾール−2−イル)−3=メチル−5
−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンを得
た。
により所望の生成物、■−(5−シクロペンチル−1、
3、4−チアジアゾール−2−イル)−3=メチル−5
−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンを得
た。
実施例 13
5−シクロヘプチル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナート二量体の製造酢酸エチル(100
m0に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器を
備えたガラス製反応器に仕込んだ。
−イルイソシアナート二量体の製造酢酸エチル(100
m0に溶解させたホスゲンの飽和溶液を機械的攪拌器を
備えたガラス製反応器に仕込んだ。
5−シクロへブチル−2−アミノ−1、3、4−チアジ
アゾール(51)を酢酸エチル(300m0に加えたス
ラリーを反応器に添加し、得られた反応混合物を約16
時間攪拌したところ沈殿が生成した。
アゾール(51)を酢酸エチル(300m0に加えたス
ラリーを反応器に添加し、得られた反応混合物を約16
時間攪拌したところ沈殿が生成した。
次いで反応混合物に窒素ガスを吹込んで未反応のホスゲ
ンを除去した。
ンを除去した。
吹込み終った混合物を次いで濾過して沈殿を回収した。
次いでこの沈殿を再結晶することにより所望の生成物、
5−シクロヘプチル−1、3、5−チアジアゾール−2
−イルイソシアナート二量体を得た。
5−シクロヘプチル−1、3、5−チアジアゾール−2
−イルイソシアナート二量体を得た。
実施例 14
2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘプチル1.3.
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセタールの製造 5−シクロヘプチル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナート二量体(0,05モル)2−メチ
ルアミノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(0,
1モル)及びベンゼン(60ml)の混合物を機械的攪
拌器及び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込ん
だ。
4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトアル
デヒドのジメチルアセタールの製造 5−シクロヘプチル−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルイソシアナート二量体(0,05モル)2−メチ
ルアミノアセトアルデヒドのジメチルアセクール(0,
1モル)及びベンゼン(60ml)の混合物を機械的攪
拌器及び環流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込ん
だ。
反応混合物は環流下で約15分間加熱した。
その後、混合物から減圧下でベンゼンを除去することに
より残渣として固状生成物を得た。
より残渣として固状生成物を得た。
次いでこの残渣を再結晶することにより所望の生成物で
ある2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘプチル−1
,3,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセ
トアルデヒドのジメチルアセクールを得た。
ある2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘプチル−1
,3,4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセ
トアルデヒドのジメチルアセクールを得た。
実施例 15
1−(5−シクロヘプチル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘプチル−1、3
、4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(15g)、水(400
ml)及び酢酸(4mのを機械的攪拌器、温度計及び環
流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
ル−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−〔1−メチル−3−(5−シクロヘプチル−1、3
、4−チアジアゾール−2−イル)ウレイド〕アセトア
ルデヒドのジメチルアセクール(15g)、水(400
ml)及び酢酸(4mのを機械的攪拌器、温度計及び環
流冷却器を備えたガラス製の反応器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
次いで反応混合物を熱時炉遇し、ろ液を冷却して沈殿を
生成させた。
生成させた。
この沈殿により回収し、乾燥して再結晶することにより
所望の生成物、■−(5−シクロヘプチル−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダシリン−2−オンを得た。
所望の生成物、■−(5−シクロヘプチル−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダシリン−2−オンを得た。
実施例 16
5−(1−メチルシクロヘキシル)−1,3゜4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体の製造 酢酸エチル(100ml)に溶解させたホスゲンの飽和
溶液を機械的攪拌器を備えたガラス製反応器に仕込んだ
。
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体の製造 酢酸エチル(100ml)に溶解させたホスゲンの飽和
溶液を機械的攪拌器を備えたガラス製反応器に仕込んだ
。
酢酸エチル(100mAりに5(1−メチルシクロヘキ
シル)−2−アミノ−1゜3.4−チアジアゾール(6
g)を加えたスラリーを反応器に添加し、得られた混合
物を約16時間攪拌したところ、沈殿が生成した。
シル)−2−アミノ−1゜3.4−チアジアゾール(6
g)を加えたスラリーを反応器に添加し、得られた混合
物を約16時間攪拌したところ、沈殿が生成した。
次いで反応混合物に窒素ガスを吹込んで未反応のホスゲ
ンを除去した。
ンを除去した。
吹込み終った混合物を濾過することにより、所望の生成
物、5−(1−メチルシクロヘキシル)−1,3,4−
チアジアゾール−2−イルイソシアナート二量体を得た
。
物、5−(1−メチルシクロヘキシル)−1,3,4−
チアジアゾール−2−イルイソシアナート二量体を得た
。
実施例 17
2−(1−メチル−3−(5−(1−メチルシクロヘキ
シル)−1,3,4−チアジアゾール2−イルヨウレイ
ド)アセトアルデヒドのジメチルアセクールの製造 5−(1−メチルシクロヘキシル)−1,3゜4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体(7,5,
?)、2−メチルアミノアセトアルデヒドのジメチルア
セクール(5g)及び酢酸エチル(50mA’)の混合
物を機械的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製反応
器に仕込んだ。
シル)−1,3,4−チアジアゾール2−イルヨウレイ
ド)アセトアルデヒドのジメチルアセクールの製造 5−(1−メチルシクロヘキシル)−1,3゜4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体(7,5,
?)、2−メチルアミノアセトアルデヒドのジメチルア
セクール(5g)及び酢酸エチル(50mA’)の混合
物を機械的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製反応
器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約2時間加熱した。
その後減圧下でこの混合物より溶媒を除去することによ
り所望の生成物である、2−(1−メチル−3−〔5(
l−メチルシクロヘキシル)−1,3,4−チアジアゾ
ール−2−イルヨウレイド)アセトアルデヒドのジメチ
ルアセクールを得た。
り所望の生成物である、2−(1−メチル−3−〔5(
l−メチルシクロヘキシル)−1,3,4−チアジアゾ
ール−2−イルヨウレイド)アセトアルデヒドのジメチ
ルアセクールを得た。
実施例 18
1−(5−(1−メチルシクロヘキシル)−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イルツー3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−(1−メチル−3(5−1−メチルシクロヘキシル
)−1,3,4−チアジアゾール−2イル〕ウレイド)
アセトアルデヒドのジメチルアセクール、水(400m
の及び塩酸(4m1)を機械的攪拌器、温度計及び環流
冷却器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
−チアジアゾール−2−イルツー3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−(1−メチル−3(5−1−メチルシクロヘキシル
)−1,3,4−チアジアゾール−2イル〕ウレイド)
アセトアルデヒドのジメチルアセクール、水(400m
の及び塩酸(4m1)を機械的攪拌器、温度計及び環流
冷却器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
次いで反応混合物を熱時濾過し、滑液を冷却して沈殿を
虫取させた。
虫取させた。
沈殿を濾過により回収し、乾燥して再結晶することによ
り所望の生成物、1−(5−(1−メチルシクロヘキシ
ル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルツー3−
メチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダシリン−2−
オンを得た。
り所望の生成物、1−(5−(1−メチルシクロヘキシ
ル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルツー3−
メチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダシリン−2−
オンを得た。
実施例 19
5−(4−クロルシクロヘキシル)−1,3゜4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体の製造 酢酸エチル(500m0に溶解させたホスゲンの飽和溶
液を機械的攪拌器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体の製造 酢酸エチル(500m0に溶解させたホスゲンの飽和溶
液を機械的攪拌器を備えたガラス製反応器に仕込んだ。
5−(4−クロロシクロヘキシル)2−アミノ−1,3
,4−チアジアゾール(6g)を反応器に添加し、得ら
れた混合物を環流下で約4時間加熱したところ沈殿が虫
取した。
,4−チアジアゾール(6g)を反応器に添加し、得ら
れた混合物を環流下で約4時間加熱したところ沈殿が虫
取した。
次いで反応混合物に窒素ガスを吹込んで未反応のホスゲ
ンを濾過した。
ンを濾過した。
次いで吹込み終った混合物を濾過し、沈殿を回収した。
次いでこの沈殿を再結晶することにより所望の生成物、
5−(4−クロルシクロヘキシル)−1,3,4−チア
ジアゾール2−イルイソシアナート二量体を得た。
5−(4−クロルシクロヘキシル)−1,3,4−チア
ジアゾール2−イルイソシアナート二量体を得た。
実施例 20
2−(l−エチル−3−(5−(4−クロルシクロヘキ
シル)−1,3,4−チアジアゾール2−イルヨウレイ
ド)アセトアルデヒドのジメチルアセクールの製造 5−(4−クロルシクロヘキシル)−1,3゜4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体(1:1l
l)、2−エチルアミノアセトアルデヒドのジメチルア
セクール(6,9g)及びベンゼン(60mA)の混合
物を機械的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製の反
応器に仕込んだ。
シル)−1,3,4−チアジアゾール2−イルヨウレイ
ド)アセトアルデヒドのジメチルアセクールの製造 5−(4−クロルシクロヘキシル)−1,3゜4−チア
ジアゾール−2−イルイソシアナート二量体(1:1l
l)、2−エチルアミノアセトアルデヒドのジメチルア
セクール(6,9g)及びベンゼン(60mA)の混合
物を機械的攪拌器及び環流冷却器を備えたガラス製の反
応器に仕込んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
その後減圧下でこの混合物よりベンゼンを除去して残渣
として固状生成物を得た。
として固状生成物を得た。
次いで、この残渣を再結晶することにより所望の生成物
、2−(1−エチル−3−(5−4−クロルシクロヘキ
シル)−1゜3.4−チアジアゾール−2−イルヨウレ
イド)アセトアルデヒドを得た。
、2−(1−エチル−3−(5−4−クロルシクロヘキ
シル)−1゜3.4−チアジアゾール−2−イルヨウレ
イド)アセトアルデヒドを得た。
実施例 21
1−(5−(4−クロルシクロヘキシル)−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イルツー3−エチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−(1−エチル−3−(5−(4−クロルシクロヘキ
シル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルヨウレ
イド)アセトアルデヒドのジメチルアセクール(15g
)、水(400mJ)及び塩酸(4mのを機械的攪拌器
、温度計及び環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込
んだ。
−チアジアゾール−2−イルツー3−エチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オンの製造 2−(1−エチル−3−(5−(4−クロルシクロヘキ
シル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルヨウレ
イド)アセトアルデヒドのジメチルアセクール(15g
)、水(400mJ)及び塩酸(4mのを機械的攪拌器
、温度計及び環流冷却器を備えたガラス製反応器に仕込
んだ。
反応混合物を環流下で約15分間加熱した。
反応混合物を次いで熱時済過し、p液を冷却して沈殿を
生成させた。
生成させた。
この沈殿を濾過により回収し、乾燥して再結晶すること
により所望の生成物、1−〔5(4−クロルシクロヘキ
シル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルツー3
−エチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−
2−オンを得た。
により所望の生成物、1−〔5(4−クロルシクロヘキ
シル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルツー3
−エチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−
2−オンを得た。
上記の実施例の方法により製造できる本発明の範囲に入
るその他の化合物としては以下のものが挙げられる。
るその他の化合物としては以下のものが挙げられる。
1−(5−シクロプロピル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−エチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オン、1−(5−シクロプロピ
ル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3−プ
ロピル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2
−オン、1−(5−シクロプロピル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル)−3−ブチル−5−ヒドロキシ
−1,3−イミダゾリジン−2−オン、■−(5−シク
ロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
−3−ペンチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリ
ジン−2−オン、■−(5−シクロプロピル−1,3,
4−チアジアゾール−2−イル)−3−ヘキシル−5−
ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、1−
(5−シクロへキシル−1,3,4−チアジアゾール−
2−イル)−3−エチル−5−ヒドロキシ−1,3−イ
ミダゾリジン−2−オン、■−(5−シクロヘキシル−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3−プロピ
ル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オ
ン、■−(5−シクロヘキシル−1,3,4−チアジア
ゾール−2−イル)−3−ブチル−5−ヒドロキシ−1
,3−イミダゾリジン−2−オン、■−(5−シクロへ
キシル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3
−ペンチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン
−2−オン、1−(5−シクロへキシル−1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)−3−へキシル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、1−(5
−シクロブチル−1,3,4−チアシフソール−2−イ
ル)−3−エチル−ヒドロキシ1.3−イミダゾリジン
−2−オン、 ■−(5−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−エチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オン、■−(5−シクロヘプチ
ル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3−エ
チル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−
オン、1−(5−(2−メチルシクロプロピル)1゜3
.4−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−
ヒドロキシ−1,3−イミダシリン−2−オン、 1−(5−(2−メチルシクロブチル)−1゜3.4−
チアジアゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロ
キシ−1,3−イミダプリジン2−オン 1−(5−(3−メチルシクロペンチル)−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(i−プロピルシクロペンチル)−1,3,
4−チアジアゾール−2−イルヨー3=メチルー5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(3−へキシルシクロヘキシル)1.3.4
−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダプリジン−2−オン、 1−(5−(4−ブロムシクロヘキシル)−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(3−ヒドロキシシクロヘキシル)1.3.
4−チアジアゾール−2−イルヨー3=メチルー5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(4−メトキシシクロヘキシル)−1,3,
4−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダプリジン−2−オン、 1−(5−(4−ブトキシシクロヘキシル)−1,3,
4−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(3−へキシルオキシシクロヘフチル)−1
,3,4−チアジアゾール−2−イル〕3−メチルー5
−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 除草剤として実際に用いるには、本発明の化合物は通常
、不活性担体及び除草剤として毒性を生じる量のこのよ
うな化合物とを含む除草剤組成物に混合される。
ル−2−イル)−3−エチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オン、1−(5−シクロプロピ
ル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3−プ
ロピル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2
−オン、1−(5−シクロプロピル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル)−3−ブチル−5−ヒドロキシ
−1,3−イミダゾリジン−2−オン、■−(5−シク
ロプロピル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
−3−ペンチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリ
ジン−2−オン、■−(5−シクロプロピル−1,3,
4−チアジアゾール−2−イル)−3−ヘキシル−5−
ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、1−
(5−シクロへキシル−1,3,4−チアジアゾール−
2−イル)−3−エチル−5−ヒドロキシ−1,3−イ
ミダゾリジン−2−オン、■−(5−シクロヘキシル−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3−プロピ
ル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オ
ン、■−(5−シクロヘキシル−1,3,4−チアジア
ゾール−2−イル)−3−ブチル−5−ヒドロキシ−1
,3−イミダゾリジン−2−オン、■−(5−シクロへ
キシル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3
−ペンチル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン
−2−オン、1−(5−シクロへキシル−1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)−3−へキシル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、1−(5
−シクロブチル−1,3,4−チアシフソール−2−イ
ル)−3−エチル−ヒドロキシ1.3−イミダゾリジン
−2−オン、 ■−(5−シクロペンチル−1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)−3−エチル−5−ヒドロキシ−1,3
−イミダゾリジン−2−オン、■−(5−シクロヘプチ
ル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)−3−エ
チル−5−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−
オン、1−(5−(2−メチルシクロプロピル)1゜3
.4−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−
ヒドロキシ−1,3−イミダシリン−2−オン、 1−(5−(2−メチルシクロブチル)−1゜3.4−
チアジアゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒドロ
キシ−1,3−イミダプリジン2−オン 1−(5−(3−メチルシクロペンチル)−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イル)−3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(i−プロピルシクロペンチル)−1,3,
4−チアジアゾール−2−イルヨー3=メチルー5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(3−へキシルシクロヘキシル)1.3.4
−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダプリジン−2−オン、 1−(5−(4−ブロムシクロヘキシル)−1゜3.4
−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒド
ロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(3−ヒドロキシシクロヘキシル)1.3.
4−チアジアゾール−2−イルヨー3=メチルー5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(4−メトキシシクロヘキシル)−1,3,
4−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダプリジン−2−オン、 1−(5−(4−ブトキシシクロヘキシル)−1,3,
4−チアジアゾール−2−イルヨー3−メチル−5−ヒ
ドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 1−(5−(3−へキシルオキシシクロヘフチル)−1
,3,4−チアジアゾール−2−イル〕3−メチルー5
−ヒドロキシ−1,3−イミダゾリジン−2−オン、 除草剤として実際に用いるには、本発明の化合物は通常
、不活性担体及び除草剤として毒性を生じる量のこのよ
うな化合物とを含む除草剤組成物に混合される。
このような除草剤の組成物はまた処方とも呼ばれるが、
これらは、活性化合物を雑草のはびこる場所に任意の所
望量で都合よく適用することを可能にする。
これらは、活性化合物を雑草のはびこる場所に任意の所
望量で都合よく適用することを可能にする。
これら組成物は粉体、粒体または湿潤性粉体のような固
体であってもよいし、または、溶液、エアロゾール、ま
たは乳化可能な濃縮液のような液体であってもよい。
体であってもよいし、または、溶液、エアロゾール、ま
たは乳化可能な濃縮液のような液体であってもよい。
例えば、粉体は、活性化合物をタルク、粘土、シリカ、
葉蝋石(pyrophyl I i te )等のよう
な固体の不活性担体と共に粉化、配合することにより製
造できる。
葉蝋石(pyrophyl I i te )等のよう
な固体の不活性担体と共に粉化、配合することにより製
造できる。
粒体処方は通常は適当な溶媒に溶解させたこの化合物を
、通常は約0.3〜1.5mmの粒子サイズを有するア
クパルジャイト類(attapu−Igite )もし
くはひる石類(verm 1cul i te )のよ
うな粒状化した担体の表面及びその中に含浸させること
により製造できる。
、通常は約0.3〜1.5mmの粒子サイズを有するア
クパルジャイト類(attapu−Igite )もし
くはひる石類(verm 1cul i te )のよ
うな粒状化した担体の表面及びその中に含浸させること
により製造できる。
湿潤性粉体は活性化合物の任意の所望の濃度に、水また
は油中へ分散できるが、これらは濃縮した粉体組成物に
湿潤剤を混合することにより製造できる。
は油中へ分散できるが、これらは濃縮した粉体組成物に
湿潤剤を混合することにより製造できる。
ある場合には、この活性化合物はケロセンまたはキシレ
ンのような通常の有機溶媒に充分溶解性があり、従って
、それらを上記溶媒中の溶液として使用することができ
る。
ンのような通常の有機溶媒に充分溶解性があり、従って
、それらを上記溶媒中の溶液として使用することができ
る。
しばしば、除草剤の溶液は加圧下でエアロゾールとして
分散することができる。
分散することができる。
しかしながら、好ましい液体除草剤組成物は乳化可能な
濃縮液であり、これは本発明による活性化合物及び不活
性担体として、溶媒と乳化剤を含有している。
濃縮液であり、これは本発明による活性化合物及び不活
性担体として、溶媒と乳化剤を含有している。
このような乳化可能な濃縮液は雑草のはびこる場所に噴
霧剤として適用するために、水及び/または油で任意の
所望の濃度に希釈できる。
霧剤として適用するために、水及び/または油で任意の
所望の濃度に希釈できる。
この濃縮液中に最も通常に用いられる乳化剤にノニオン
性界面活性剤またはノニオン性及びアニオン性界面活性
剤の混合物である。
性界面活性剤またはノニオン性及びアニオン性界面活性
剤の混合物である。
数種の乳化剤系を用いることにより、雑草繁育個所に直
接適用できる逆転乳濁液が製造できる。
接適用できる逆転乳濁液が製造できる。
本発明による典型的な除草剤組成物を以下の実施例によ
り例示する。
り例示する。
実施例中量は重量部によった。
実施例 22
粉体の製造
実施例3の生成物 10
粉状タルク 90
上記の取分を機械的粉砕配合機中で所望の粒子サイズを
有する均一な流動性のある粉体が得られるまで粉砕した
。
有する均一な流動性のある粉体が得られるまで粉砕した
。
この粉体は雑草のはびこる場所に直接適用するのに適し
ている。
ている。
本発明の組成物は、この技術分野で知られている任意の
方法により除草剤として適用できる。
方法により除草剤として適用できる。
雑草を抑制する一つの方法は、不活性担体及び実質的活
性成分としてその雑草に対し除草剤として毒性を生じる
量の本発明の化合物を含有する除草剤組成物に雑草の生
育個所を接触させることからなる。
性成分としてその雑草に対し除草剤として毒性を生じる
量の本発明の化合物を含有する除草剤組成物に雑草の生
育個所を接触させることからなる。
本発明の新規化合物の除草剤組成物中の濃度は処方形式
及び計画した目的により大きく異なるものであるが、通
常、この除草剤組成物は本発明の活性化合物を約0.0
5〜95重量%含有する。
及び計画した目的により大きく異なるものであるが、通
常、この除草剤組成物は本発明の活性化合物を約0.0
5〜95重量%含有する。
本発明の好ましい実施例において、この除草剤組成物は
約5〜75重量%の活性化合物を含有する。
約5〜75重量%の活性化合物を含有する。
この組成物はまた、例えば、殺虫剤、線虫撲滅剤、殺菌
剤等の他の農薬;安定化剤、拡散剤、死活剤、接着剤、
付着剤、肥料、活性剤、共働薬等の付加的物質を含有し
ていてもよい。
剤等の他の農薬;安定化剤、拡散剤、死活剤、接着剤、
付着剤、肥料、活性剤、共働薬等の付加的物質を含有し
ていてもよい。
本発明の化合物はまた、上述の除草剤組成物中に他の除
草剤及び/または落葉促進剤、乾燥促進剤、生長抑制剤
等と組み合せると有用である。
草剤及び/または落葉促進剤、乾燥促進剤、生長抑制剤
等と組み合せると有用である。
これら他の物質は除草剤組成物中に約5〜95%の活性
成分を含有することができる。
成分を含有することができる。
これら他の除草剤及び/または落葉促進剤、乾燥促進剤
等を本発明の化合物と組合せて使用することにより、雑
草を抑制するのにより効果的な除草剤組成物が与えられ
、モして応々にして、個々の除草剤を別々に組成物にし
たのでは得られない結果が与えられる。
等を本発明の化合物と組合せて使用することにより、雑
草を抑制するのにより効果的な除草剤組成物が与えられ
、モして応々にして、個々の除草剤を別々に組成物にし
たのでは得られない結果が与えられる。
本発明の化合物と共に雑草を抑制するために除草剤組成
物中に使用できる他の除草剤、落葉促進剤、乾燥促進剤
及び生長抑制剤には以下のものが含まれる。
物中に使用できる他の除草剤、落葉促進剤、乾燥促進剤
及び生長抑制剤には以下のものが含まれる。
2.4−D、2,4.5−T、MCPA、MCPB。
4(2,4−DB)、2 、4−DEB、4−CPB、
4−CPA、4−CPP、2.4.5−TB、2゜4.
5−TES、3 、4−DA、シルヴエックス等のクロ
ルフェノキシ系除草剤; IPC,CIPC,スウエツプ、バーパン、BCPC,
CEPC,CPPC等のカーバメート系除草剤; CDEC1メキムナトリウム、EPTC1シアレート、
PEBC,パープレート、バール−ト等のチオカーバメ
ート及びジチオカーバメート系除草剤; ルア、ジデュロン、ジンロラールウレア、クロロクロン
、シクルロン、フエヌロン、モノロン、モノロンTCA
、ジウロン、リヌロン、モノリヌロン、ネフロン、フデ
ュロン、トリメテユロン等の置換尿素系除草剤; シマジン、フロラジン、アトラオン、デスメトリン、フ
ラノン、イパジン、プロメトリン、アクジン、トリエタ
ジン、ジメドン、プロメトン、プロパジン、アメトリン
等の対称型トリアジン系除草剤; 4−(クロルアセチル)モルホリン、1−(クロルアセ
チル)ピペリジン等のクロルアセトアミド系除草剤; TCA1ダラポン、2,3−ジクロルプロピオン酸、2
,2,3−TPA等の塩素化脂肪族酸系除草剤; 2.3,6−TBA、2,3,5,6−TBA、ジカン
バ、トリカンパ、アミベン、フェナック、PBA、2−
メトキシ−3,6−ジクロルフェニル酢酸、3−メトキ
シ−2,6−ジクロルフェニル酢酸、2−メトキシ−3
,5,6−ドリクロルフエニル酢酸、2,4−ジクロル
−3−二トロ安息香酸等の塩素化安息香酸及びフェニル
酢酸系除草剤; アミノトリアゾール、マレイン酸ヒドラジド、フェニル
酢酸水銀、エンドサール、ビウレット、工業用クロルデ
ン、2,3,5.6−チトラクロルテレフタル酸ジメチ
ル、ジクアット、アーボン、DNC,DNBP、ジクロ
ベニル、DPA、ジフェンアミド、ジブロバリン、トリ
フルラリン、プラン、シクリル、マーホス、DMPA、
、DSMAlMSMA、アジドカリウム、アクロレイン
、ベネフイン、ベンスリド、AMS1ブロマシル、2−
(3,4−ジクロルフェニル)−4−メチル−1゜2.
4−オキサジアゾリジン−3,5−ジオン、ブロモキシ
ニル、カコジル酸、CMA、CPMF、シプロミツド、
DCBlDCPA、ジクロン、ジフエナトリル、DMT
T、DNAP、EBEP、EXD、HCA、イオキシニ
ル、IPX1イソシル、シアン酸カリウム、MAAlM
AMAlMCPES、MCP P、MH,モリネート、
NPAloCH,バラクアット、PCP、ピクロラム、
DPA、PCA、ピリクロール、セソン、ターバシル、
ターブトール、TCBA、ブロミニル、CP−5014
4、H−176−1、H−732、M−2901,プラ
ナビン、テトラホウ酸ナトリウム、カルシウムシアナミ
ド、DEF、エチルキサントゲンスルフィド、シントン
、シントンB1プロパニル等のような化合物。
4−CPA、4−CPP、2.4.5−TB、2゜4.
5−TES、3 、4−DA、シルヴエックス等のクロ
ルフェノキシ系除草剤; IPC,CIPC,スウエツプ、バーパン、BCPC,
CEPC,CPPC等のカーバメート系除草剤; CDEC1メキムナトリウム、EPTC1シアレート、
PEBC,パープレート、バール−ト等のチオカーバメ
ート及びジチオカーバメート系除草剤; ルア、ジデュロン、ジンロラールウレア、クロロクロン
、シクルロン、フエヌロン、モノロン、モノロンTCA
、ジウロン、リヌロン、モノリヌロン、ネフロン、フデ
ュロン、トリメテユロン等の置換尿素系除草剤; シマジン、フロラジン、アトラオン、デスメトリン、フ
ラノン、イパジン、プロメトリン、アクジン、トリエタ
ジン、ジメドン、プロメトン、プロパジン、アメトリン
等の対称型トリアジン系除草剤; 4−(クロルアセチル)モルホリン、1−(クロルアセ
チル)ピペリジン等のクロルアセトアミド系除草剤; TCA1ダラポン、2,3−ジクロルプロピオン酸、2
,2,3−TPA等の塩素化脂肪族酸系除草剤; 2.3,6−TBA、2,3,5,6−TBA、ジカン
バ、トリカンパ、アミベン、フェナック、PBA、2−
メトキシ−3,6−ジクロルフェニル酢酸、3−メトキ
シ−2,6−ジクロルフェニル酢酸、2−メトキシ−3
,5,6−ドリクロルフエニル酢酸、2,4−ジクロル
−3−二トロ安息香酸等の塩素化安息香酸及びフェニル
酢酸系除草剤; アミノトリアゾール、マレイン酸ヒドラジド、フェニル
酢酸水銀、エンドサール、ビウレット、工業用クロルデ
ン、2,3,5.6−チトラクロルテレフタル酸ジメチ
ル、ジクアット、アーボン、DNC,DNBP、ジクロ
ベニル、DPA、ジフェンアミド、ジブロバリン、トリ
フルラリン、プラン、シクリル、マーホス、DMPA、
、DSMAlMSMA、アジドカリウム、アクロレイン
、ベネフイン、ベンスリド、AMS1ブロマシル、2−
(3,4−ジクロルフェニル)−4−メチル−1゜2.
4−オキサジアゾリジン−3,5−ジオン、ブロモキシ
ニル、カコジル酸、CMA、CPMF、シプロミツド、
DCBlDCPA、ジクロン、ジフエナトリル、DMT
T、DNAP、EBEP、EXD、HCA、イオキシニ
ル、IPX1イソシル、シアン酸カリウム、MAAlM
AMAlMCPES、MCP P、MH,モリネート、
NPAloCH,バラクアット、PCP、ピクロラム、
DPA、PCA、ピリクロール、セソン、ターバシル、
ターブトール、TCBA、ブロミニル、CP−5014
4、H−176−1、H−732、M−2901,プラ
ナビン、テトラホウ酸ナトリウム、カルシウムシアナミ
ド、DEF、エチルキサントゲンスルフィド、シントン
、シントンB1プロパニル等のような化合物。
このような除草剤はまた、本発明の組成物においてそれ
らの塩、エステル、アミド、及びこの特定な親化合物に
適用できる任意のその他の誘導体の形で使用できる。
らの塩、エステル、アミド、及びこの特定な親化合物に
適用できる任意のその他の誘導体の形で使用できる。
雑草とは、それらが望まれていない場所に育ち、経済的
価値を有さす、耕作物の生産、装飾植物の生育、もしく
は家畜類の衛生環境を阻害する望ましくない植物である
。
価値を有さす、耕作物の生産、装飾植物の生育、もしく
は家畜類の衛生環境を阻害する望ましくない植物である
。
雑草の多くは知られたものであり、例えば、ピラクライ
ード(pigweed )、ラムズクオーターズ(la
mbsquarters )、フォックステイル(fo
xtai l )、クラブグラス(cr−abgras
s)、ワイルドマスタード(wi ld mu −5t
ard)、フィールドペニークレス(fieldpen
nycres s )、ライグラス(ryegrass
)、グースゲラス(goose grass)、チッ
クウイード、(ch i ckweed )、ワイルド
オーツ(wildoats)、ベルベットリーフ(ve
lvet 1eaf )、パースリン(purs 1a
ne )、バーンヤードグラス(barnya−rdg
rass )、スマートウイード(smar twee
d )、ノットウイード(kno tweed )、コ
ツクルバール(cocklebar )、ワイルドバッ
クホイート(wi ld buckwheat )、コ
チア(kochia)、メゾイック(med i a
)、コーンコツクル(corrt−cockle)、ラ
ックウイード(ragweed )、ソウスイツスル(
sowthistle)、コーヒーウイード(cof
feeweed )、クロトン(croton)、キュ
フェア(cuphea )、ドツダー(dodder)
、フミトリー(fumitory)、グラウンドセル(
ground−sel)、ヘンプネットル(hempn
et t le )、ノーウェル(knawel)、ス
パージ(spurge )、スパーリー(5pur r
y )、エメツクス(emex )、ジャングルライス
(Jungle rice)、ポントウイード(pon
dweed)、ドックフェンネル(dogfen−nc
l)、カーペラトウイード(carpe tweed
)、モーニンググローリー(morniingglor
y)、ベッドストロ−(bedstraw)、ダックサ
ラダ(ducksa lad )、ネイアツド(nai
ad)、チートゲラス(cheatgrass )、フ
ォールパニカム(fallpauicum)、ジムソン
ウイード(J imsonweed )、ウィッチグラ
ス(w i tchgrass)、スウィッチグラス(
swi−tchgrass)、ウォーターグラス(wa
tergrass)、テイーウイード(teaweec
Q ワイルドオーツフ’(wildturnip)及
びスプラングルトップ(sprangletop)のよ
うな1年草; ワイルドキャロット(wi ld carrot )、
マトリカリア(matr 1car ia )、ワイル
ドバーレイ(wildbar ley )、シャンピオ
ン(campion)、チャモマイル(chamomi
le )、バードツク(burdock)、マリン(
mullein)、ラウントリーブトマーロー(rou
nd Ieaved marnow)、プルスイツス
ル(bull thistle)、ハウンズートング
(houn−dstongue)、モスマリン(mot
h mul 1ein )及びパープルスタースイッス
ル(purple 5tarthistle)のような
2年草: ホワイトクツクル(white cockle)、ペレ
ニアルライグラス(perennial ryegr
ass)、クラアラフグラス(quackgras s
)、ジョンソングラス(Johnson grass
)、カナダスイツスル(canadathistle)
、ヘッジバインドウイード(hedgeb indwe
ed )、バーミューダグラス(Bermuda gr
ass)、シープソーレル(5heepsorrel
)、カーリ−ドック(curly dock)、ナツト
グラス(nutgrass)、フィールドチックウイー
ド(f 1eld chickweed)、ダンプライ
オン(dandel 1on)、キャンパニュラ(ca
mpanula )、フィールドパインドウイード(f
1eld bindweed )、ダンプライオン(
dandel ion )、キャンパニュラ(camp
anu 1 a )、フィールドパインドウイード(f
1eld bindweed )、ロシアナツプウイ
ード(Russian knapweed)、メスキー
ド(mes−quit)、トートフラックス(toad
f lax )、ヤーロ−(yarrow)、アスター
(astar )、ブロムウェル(gromweed
)、ホーステイル(horsetai l )、アイア
ンウイード(i ronweed )、セスバニア(5
esbania)、プルラツシヱ(bulrush)、
キャラトチイル(cattail)、ウィンターフレス
(winter−cress )、ホーステイル(ho
rse−nettle)、ナツツエツジ(nutsed
ge )、ミルクライード(mi lkweed )及
びシックルボッド(5icklepod )のような多
年草が含まれる。
ード(pigweed )、ラムズクオーターズ(la
mbsquarters )、フォックステイル(fo
xtai l )、クラブグラス(cr−abgras
s)、ワイルドマスタード(wi ld mu −5t
ard)、フィールドペニークレス(fieldpen
nycres s )、ライグラス(ryegrass
)、グースゲラス(goose grass)、チッ
クウイード、(ch i ckweed )、ワイルド
オーツ(wildoats)、ベルベットリーフ(ve
lvet 1eaf )、パースリン(purs 1a
ne )、バーンヤードグラス(barnya−rdg
rass )、スマートウイード(smar twee
d )、ノットウイード(kno tweed )、コ
ツクルバール(cocklebar )、ワイルドバッ
クホイート(wi ld buckwheat )、コ
チア(kochia)、メゾイック(med i a
)、コーンコツクル(corrt−cockle)、ラ
ックウイード(ragweed )、ソウスイツスル(
sowthistle)、コーヒーウイード(cof
feeweed )、クロトン(croton)、キュ
フェア(cuphea )、ドツダー(dodder)
、フミトリー(fumitory)、グラウンドセル(
ground−sel)、ヘンプネットル(hempn
et t le )、ノーウェル(knawel)、ス
パージ(spurge )、スパーリー(5pur r
y )、エメツクス(emex )、ジャングルライス
(Jungle rice)、ポントウイード(pon
dweed)、ドックフェンネル(dogfen−nc
l)、カーペラトウイード(carpe tweed
)、モーニンググローリー(morniingglor
y)、ベッドストロ−(bedstraw)、ダックサ
ラダ(ducksa lad )、ネイアツド(nai
ad)、チートゲラス(cheatgrass )、フ
ォールパニカム(fallpauicum)、ジムソン
ウイード(J imsonweed )、ウィッチグラ
ス(w i tchgrass)、スウィッチグラス(
swi−tchgrass)、ウォーターグラス(wa
tergrass)、テイーウイード(teaweec
Q ワイルドオーツフ’(wildturnip)及
びスプラングルトップ(sprangletop)のよ
うな1年草; ワイルドキャロット(wi ld carrot )、
マトリカリア(matr 1car ia )、ワイル
ドバーレイ(wildbar ley )、シャンピオ
ン(campion)、チャモマイル(chamomi
le )、バードツク(burdock)、マリン(
mullein)、ラウントリーブトマーロー(rou
nd Ieaved marnow)、プルスイツス
ル(bull thistle)、ハウンズートング
(houn−dstongue)、モスマリン(mot
h mul 1ein )及びパープルスタースイッス
ル(purple 5tarthistle)のような
2年草: ホワイトクツクル(white cockle)、ペレ
ニアルライグラス(perennial ryegr
ass)、クラアラフグラス(quackgras s
)、ジョンソングラス(Johnson grass
)、カナダスイツスル(canadathistle)
、ヘッジバインドウイード(hedgeb indwe
ed )、バーミューダグラス(Bermuda gr
ass)、シープソーレル(5heepsorrel
)、カーリ−ドック(curly dock)、ナツト
グラス(nutgrass)、フィールドチックウイー
ド(f 1eld chickweed)、ダンプライ
オン(dandel 1on)、キャンパニュラ(ca
mpanula )、フィールドパインドウイード(f
1eld bindweed )、ダンプライオン(
dandel ion )、キャンパニュラ(camp
anu 1 a )、フィールドパインドウイード(f
1eld bindweed )、ロシアナツプウイ
ード(Russian knapweed)、メスキー
ド(mes−quit)、トートフラックス(toad
f lax )、ヤーロ−(yarrow)、アスター
(astar )、ブロムウェル(gromweed
)、ホーステイル(horsetai l )、アイア
ンウイード(i ronweed )、セスバニア(5
esbania)、プルラツシヱ(bulrush)、
キャラトチイル(cattail)、ウィンターフレス
(winter−cress )、ホーステイル(ho
rse−nettle)、ナツツエツジ(nutsed
ge )、ミルクライード(mi lkweed )及
びシックルボッド(5icklepod )のような多
年草が含まれる。
同様に、このような雑草は広葉の雑草もしくは緑草とし
て分類することができる。
て分類することができる。
有益な植物や家畜を害することなくこのような雑草を抑
制することは経済的に望ましいことである。
制することは経済的に望ましいことである。
本発明のこの新規化合物は雑草の抑制に特に価値がある
。
。
なぜならば、これらは、多くの有益な植物に対しては比
較的無毒である一方、雑草の多くの種類及びグルプに対
しては毒性を有するからである。
較的無毒である一方、雑草の多くの種類及びグルプに対
しては毒性を有するからである。
この化合物の正確な所要量は各種の要因、例えば特定の
雑草の種類の堅固さ、天候、土壌のタイプ、適用方法、
同一区域内の有益な植物の種類等により左右される。
雑草の種類の堅固さ、天候、土壌のタイプ、適用方法、
同一区域内の有益な植物の種類等により左右される。
従って、不利な条件下で生育しており、軽く茂っている
雑草を良好に制御するには、ニーカー当り約1または2
オンス以下(0,7または1.B/アール以下)の活性
化合物を適用すれば充分であろうが、有利な条件下で生
育し、密に茂った堅固な多年生の雑草を良好に制御する
にはニーカー当り10ポンド(110g/アール)もし
くはそれ以上の活性化合物の適用が必要であろう。
雑草を良好に制御するには、ニーカー当り約1または2
オンス以下(0,7または1.B/アール以下)の活性
化合物を適用すれば充分であろうが、有利な条件下で生
育し、密に茂った堅固な多年生の雑草を良好に制御する
にはニーカー当り10ポンド(110g/アール)もし
くはそれ以上の活性化合物の適用が必要であろう。
本発明の新規化合物の除草剤としての毒性は例えば発生
前、発生後試験のようなこの技術分野でよく知られすで
に確立された試験方法の多くのものにより示すことがで
きる。
前、発生後試験のようなこの技術分野でよく知られすで
に確立された試験方法の多くのものにより示すことがで
きる。
本発明の化合物の除草効果は各種雑草の発生前抑制のた
め行なった実験によって証明された。
め行なった実験によって証明された。
これらの実験において、乾燥した土を満した小さなプラ
スチックの温室用ポットに各種の雑草の種を播いた。
スチックの温室用ポットに各種の雑草の種を播いた。
播種後24時間以内に土が湿めるまで水を撒き、乳化剤
を含有するアセトン溶液の水性乳濁液として処方した試
験化合物を指示された濃度で土の表面に噴霧した。
を含有するアセトン溶液の水性乳濁液として処方した試
験化合物を指示された濃度で土の表面に噴霧した。
噴霧後、土の容器を温室内に置き必要な熱を補充し、1
日1回またはそれ以上の水撤布を行なった。
日1回またはそれ以上の水撤布を行なった。
この植物は上記の条件下で約15〜21日間保ち、その
時点で植物の状態及び植物の被害の程度を下記の通りO
から10の等級によって評価した。
時点で植物の状態及び植物の被害の程度を下記の通りO
から10の等級によって評価した。
〇−被害0%
1= ″ 10%l被圭僅少
2−7720% 0
3− “ 30%)被害中程度
4=/740%
5− ″ 50%)被害やや犬
6−7760%
7=//70%
8− /780% 被害極めて大
9=//90%
10−77100% 枯死
本発明の化合物の作用は以下のデータによって証明され
る。
る。
本発明の化合物の除草効果はまた各種雑草の発生後抑制
のため行なった実験によっても証明された。
のため行なった実験によっても証明された。
これらの実験において、試験されるべき化合物は、水性
乳濁液として処方し、規定サイズに達した雑草の葉に指
示投与量で噴霧した。
乳濁液として処方し、規定サイズに達した雑草の葉に指
示投与量で噴霧した。
噴霧後、この植物を温室内に置き、毎日もしくはより頻
繁に撒水した。
繁に撒水した。
水は処理した植物の葉には注がなかった。
被害の重大度は処理後10〜15日で測定し、上述のO
〜10の等級で評価した。
〜10の等級で評価した。
これらの化合物の効果は以下のデータにより証明される
。
。
比較例
前記の同様に表3に示す化合物について発芽後の雑草抑
制試験を行った。
制試験を行った。
尚、この化合物は実施例3の化合物に更に4位に水酸基
が付加されているジヒドロキシ化合物である。
が付加されているジヒドロキシ化合物である。
実験結果を次の表3に示す。
表3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 不活性担体及び本質的な活性成分として雑草に対し
毒性のある量の、下記式で表わされる化合物を含有する
除草剤組成物。 (式中R1は炭素原子3〜7個のシクロアルキルであり
、R2は炭素原子1〜3個のアルキルである。 )
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US43226974A | 1974-01-10 | 1974-01-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50100238A JPS50100238A (ja) | 1975-08-08 |
| JPS5852964B2 true JPS5852964B2 (ja) | 1983-11-26 |
Family
ID=23715445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49147912A Expired JPS5852964B2 (ja) | 1974-01-10 | 1974-12-23 | ジヨソウザイソセイブツ |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5852964B2 (ja) |
| BE (1) | BE824282A (ja) |
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| CH (1) | CH609205A5 (ja) |
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| FR (1) | FR2257592B1 (ja) |
| GB (1) | GB1456342A (ja) |
| IL (1) | IL46149A (ja) |
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Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4028375A (en) * | 1974-08-05 | 1977-06-07 | Velsicol Chemical Corporation | Thiadiazolylimidazolidinones |
| JP2003220983A (ja) | 2002-01-31 | 2003-08-05 | Komatsu Ltd | ロータリブシュ式履帯 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA741626B (en) * | 1973-06-29 | 1975-02-26 | Velsicol Chemical Corp | New thiadiazolylimidazolidinones |
-
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-
1975
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50100238A (ja) | 1975-08-08 |
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| CH609205A5 (en) | 1979-02-28 |
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