JPS5854210Y2 - スプレイタンク - Google Patents

スプレイタンク

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Publication number
JPS5854210Y2
JPS5854210Y2 JP1978059556U JP5955678U JPS5854210Y2 JP S5854210 Y2 JPS5854210 Y2 JP S5854210Y2 JP 1978059556 U JP1978059556 U JP 1978059556U JP 5955678 U JP5955678 U JP 5955678U JP S5854210 Y2 JPS5854210 Y2 JP S5854210Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
spray
water
strip
fresh water
Prior art date
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Expired
Application number
JP1978059556U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54163166U (ja
Inventor
修 吉原
富男 高橋
信博 柴富
和生 川井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication of JPS54163166U publication Critical patent/JPS54163166U/ja
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  • Spray Control Apparatus (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はス) IJツブの酸洗設備、清浄設備あるいは
メッキ設備などいわゆるプロセッシング設備における処
理タンクでの処理後に、ストリップに付着する処理液を
洗い流すスプレィタンクの改良に関する。
更にやや詳しくいえばプロセッシング設備において、酸
タンク、アルカリタンクあるいはメッキタンクで処理さ
れたスI〜リップに付着する処理液を、スプレィタンク
の循環水と新水とをスプレィすることにより希釈するス
プレィタンクの構造の改良に関する。
従来のスプレィシステムについて、酸洗設備のシステム
の一例を第1図に示して説明する。
ストリップ1に付着しているスケールは酸タンク2にお
いて除去される。
酸タンク2より出たストリップ1はダブルリンガロール
3を通過し、酸液が紋られる。
NO,1スプレイタンク4において、スl〜リップ1は
ディレクタロール5によってタンク水中に浸漬される。
更にデフレクタロール5の前後において、循環スプレィ
ノズル6よりタンク水がストリップ1にスプレィされる
更に循環スプレィノズル6の後に新水スプレィノズル7
により新水スプレィが行なわれ、リンガロール8で紋ら
れてNO,2スプレイタンク9にストリップ1が入る。
NO,1タンク4と同様、2本のテ゛フレクタロール1
0でストリップ1がタンク水中に浸漬され新水スプレィ
ノズル11から新水スプレィが施される。
ストリップ1はリンガロール12で絞られNo、 3ス
プレイタンク13に入る。
前と同様に、2本のデフレクタロール14によりタンク
水中に浸漬され新水スプレィノズル15によって新水ス
プレィが施された後、ダブルリンガロール16により絞
られてストリップ1はスプレィタンクを通過する。
廃水は各タンクからそれぞれ排出されている。
このシステムでは新水スプレィノズル7.11.15よ
り新水スプレィを各スプレィタンクに施している。
その水量はNo、 1タンクでは15m3/hr、NO
,2、NO,3タンク共に20m3/hr必要である。
更にNO,1タンクではタンクに溜っているタンク水を
循環スプレィノズル6によりストリップにスプレィする
循環スプレィも行なっていて、その水量は48m3/h
rである。
このときスプレイタンク通過後、ス)lツブ付着水の酸
濃度はpH6,5〜7゜5程度になる。
pH7,0を越えているのはストリップ付着水を中和さ
すため新水のスプレィ水をアルカリ気味にしであるため
である。
各タンクでの新水スプレィはストリップがタンク水中よ
り出た直後に行なっている。
つまりタンク水と同濃度のストリップに付着する几較的
多量の水を新水スプレィでもって洗い流している。
このシステムではストリップ付着水の酸濃度を下げるこ
ともさることながらタンク水中の酸濃度をも下げること
も目的としている。
このため多量の新水を必要とする(合計で5 、5 m
3/hr)。
更にストリップをタンク水中にディップさせるためテフ
レクタロール5.TO,14を設けている。
従来のシステムの他の例を第2図に示す。
第2図のものは、第1図と大略は同じであるか−、各タ
ンクにおいてストップ1を浸漬させず、ス)・リップ1
の進行方向とは逆にタンク水をカスケードさせている点
が一番大きな相違点である。
このシステムでは、新水スプレィは最終タンク(No、
6)に対応して設けられた新水スプレィノズル17のみ
によって行なわれ、各タンクでは循環スプレィノズル1
8によってタンク水が循環スプレィされていて、廃水は
最初のNO,1タンクのみで行なわれる。
このシステムの新水スプレィ量は5.7m3/hrであ
り、循環スプレィ量は約3Qm3/hrと推定されてい
る。
最終タンクでの新水スプレィ方式は第1図のシステムと
同様な考え方である。
つまり最終循環スプレィ直後に新水スプレィをしている
ため新水スプレィはストリップ付着水を洗い流すと同時
に、タンク水中の酸濃度を下げることを目的としている
この場合スプレィタンク数を第1図の場合よりも多くす
る(6個)ことにより、スプレィタンク通過後ストリッ
プ付着水の酸濃度を低く (pH6,9程度)すること
をねらっている。
以上のように従来のスプレィシステムでは第1図のよう
にスプレィタンク通過後、ストリップ付着水の酸濃度を
下げるため多量の新水スプレィを必要とし、またストリ
ップをタンク水中にディップさせるためテ゛フレクタロ
ールを必要とする欠点があり、第2図の例では新水スプ
レィ量を減少させ、ストリップをテ゛イツプさせるため
の付滑設備を取り除くかわりにタンク数を増加させなけ
ればならない欠点があった。
そこで本考案者等は両システムの欠点を改良すべく、新
水スプレィ量を少なくし併せてタンク数も少なくしてス
プレィタンク通過後ストリップ付着水の酸濃度を下げる
システムにつき鋭意研究の結果、本考案のシステムを完
成するに到った。
すなわち、本考案は、スI・リップの酸洗設備、清浄設
備あるいはメッキ設備などいわゆるプロセッシング設備
における処理タンクでの処理後にストノツプに付着する
処理液を洗い流す複数のスプレィタンクを設けてなるも
のにおいて、少くとも最終のスプレィタンクに対応して
複数対のリンガロールを近接して設け、これらの各リン
グロール間に新水スプレィノズルを設けたことを特徴と
するスプレィタンクを要旨とするもので゛ある。
以下、本考案のスプレィタンクの構成を第3図について
詳細に説明する。
第3図に示すように、最終タンク(NO,4)に2対の
リンガロール19.19’(ダブルリンカ゛ロール;以
下DWRと略す)を隣接して設け、その中間に新水スプ
レイノズ゛ル20を設けた点が、本考案の要部である。
各タンクの水は第2図の場合と同様にストリップの移動
とは反対方向にカスケードさせ、各タンク毎に循環スプ
レィノズル21.・・・・・・を設けてタンク水を循環
スプレィするようになっている。
循環スプレィを30m3/hr、新水スプレィを10m
3/hrとした時は、スプレィタンク通過後のスl−’
Jlツブ付着水酸濃度はpH6,7になる。
従来のシステムと大きく異なることは新水スプレィをD
WRの中間に行うことである。
溶液を希釈するとき、希釈液の量と被希釈液の量との比
によって濃度は大きく変化する。
DWRの中間に新水スプレィをすることはある濃度の多
量の溶液を希釈するよりリンガロール(以下WRと略す
)で絞られた後の少量の同濃度の溶液を同一量の新水で
希釈する方が希釈される割合が大きいという考えに基い
ている。
更にDWRの中間にスプレィ−することによりWR間に
ある程度水を止めることができ、それにより一種のサブ
タンクを設けたような効果が生ずる。
これにより一層ストリップに付着する溶液が希釈される
ことになる。
この方式により、ストリップをテ゛イツプさせる付滑設
備が不要となり、新水スプレィ量の減少、夕ンク数の減
少が可能となる。
なお、DWRを設けてその中間に新水スプレィノズルを
設ける個所は、第3図に示したように最終タンク(NO
04)だけではなく、第4図に示すように、N001と
NO,4スプレイタンク、第5図に示すように、N00
2とNo、4スプレイタンク、あるいは第6図に示すよ
うにNO,3とNO,4スプレイタンクに分けて設ける
ことも本考案を実施するに当っては有効であり、第4図
〜第6図の方式によるテスト結果を、それぞれ第4図a
〜第6図aとして示す。
更にNO,4スプレイタンクに3対のリンガロールを設
け、その中間に新水スプレィノズルを設けた場合を第7
図に示し、そのテスト結果を第7図aとして示す。
第4図a〜第7図aについて、縦軸はそれぞれの条件に
おけるスプレィタンクでの新水スプレィ量(総和10m
3/hr)を示す。
横軸は、スプレィタンク通過後ストリップに付着する酸
濃度を示す。
これらの図より各スプレィタンクで゛のスプレィ量を変
化さすことによりストリップ付着水の酸濃度が変化して
いることが判る。
更に最小値は、第7図の最終スプレィタンクに3対のリ
ンガロールの中間にそれぞれ5m3/hrの新水スプレ
ィを施した場合に得られた。
ただしストリップ付着水がリンガロールで絞られ、リン
ガロール通過複版タンクヘスI−リップが持ち込む液量
は4.2 l 7m1n(=0.52 m3/hr)と
し、酸タンクよりスプレィタンクへ入るときストリップ
に付着する酸濃度、つまり、初期酸濃度は10wt%と
する。
更に各スプレィタンクでの循環スプレィ量は30m3/
hrとする。
更に、従来のスプレィタンクシステム(第1図)におけ
るストリップ付着水の酸濃度を第4図aの破線で示す。
【図面の簡単な説明】
第1,2図は従来のスプレィタンクの構造を示し、第3
図〜第7図は本考案のスプレィタンクの実施態様を示す
。 第4図a〜第7図aは本考案の第4図〜第7図の実施態
様の効果を示す図表である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ス1〜リップの酸洗設備、清浄設備あるいはメッキ設備
    などいわゆるプロセッシング設備における処理タンクで
    の処理後にストリップに付着する処理液を洗い流す複数
    のスプレィタンクを設けてなるものにおいて、少くとも
    最終のスプレィタンクに対応して複数対のリンガロール
    を近接して設け、これらの各リンガロール間に新水スプ
    レィノズルを設けたことを特徴とするスプレィタンク。
JP1978059556U 1978-05-04 1978-05-04 スプレイタンク Expired JPS5854210Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1978059556U JPS5854210Y2 (ja) 1978-05-04 1978-05-04 スプレイタンク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1978059556U JPS5854210Y2 (ja) 1978-05-04 1978-05-04 スプレイタンク

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54163166U JPS54163166U (ja) 1979-11-15
JPS5854210Y2 true JPS5854210Y2 (ja) 1983-12-09

Family

ID=28959344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1978059556U Expired JPS5854210Y2 (ja) 1978-05-04 1978-05-04 スプレイタンク

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JPS54163166U (ja) 1979-11-15

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