JPS5854331A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS5854331A JPS5854331A JP56151689A JP15168981A JPS5854331A JP S5854331 A JPS5854331 A JP S5854331A JP 56151689 A JP56151689 A JP 56151689A JP 15168981 A JP15168981 A JP 15168981A JP S5854331 A JPS5854331 A JP S5854331A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- numbering
- light
- plate
- exposure device
- case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70541—Tagging, i.e. hardware or software tagging of features or components, e.g. using tagging scripts or tagging identifier codes for identification of chips, shots or wafers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
適切なナンバリング＊？，Ｖａぐ行なう露光装一に関す
る。
る。
笹米．牛導体素子！製造Ｔるため予め入念に設計製作さ
れた原版フォトマスクからコピーマスクを作り．コピー
マスクをウェハに１ｉ１ねて一党しｉ＃．會Ｔる等所定
の操作を打なうが，押版マスクからコピーマスク１作る
コンタクトプリンタ双いはコピーマスクをウェハにｌＩ
ｌｔ；＋て線光するコンタクトアライナにおい１は，露
光の賽所と均博等次の作業１行なう場所が隣接Ｔる程度
であっても同一ケース円の装置ではない。通常流れ作業
で次々に製品が作られるたぬ，製造１抑管理７／虐切に
打なわないと不所νの製品或いは余分な数の製品ケ製蚕
Ｔることがある。そのため線光操作の次にプレートに対
しナンバリングと称する識別符号ケ刻印している。具体
的には第１ １１１の績光装ｈ゛と異なる装置により符
号板Ｋｆｔ．ケ当て投影ＩＰＨさせて．２枦Ｊ目の線光
ン竹ないマスクのシリーズ番号，日付．パターン寸法の
劉差値等ヶ刻印Ｔる。ナンバリング作Ｖを行なうとぎ，
第１ １（！ｌ露元の次に山ぐ行Ｔｊｆう必捗があるが
縛元賽所が異なるため時に作業者のミスがあって誤った
ナンバリングヶｈｒｘうことがあった。
れた原版フォトマスクからコピーマスクを作り．コピー
マスクをウェハに１ｉ１ねて一党しｉ＃．會Ｔる等所定
の操作を打なうが，押版マスクからコピーマスク１作る
コンタクトプリンタ双いはコピーマスクをウェハにｌＩ
ｌｔ；＋て線光するコンタクトアライナにおい１は，露
光の賽所と均博等次の作業１行なう場所が隣接Ｔる程度
であっても同一ケース円の装置ではない。通常流れ作業
で次々に製品が作られるたぬ，製造１抑管理７／虐切に
打なわないと不所νの製品或いは余分な数の製品ケ製蚕
Ｔることがある。そのため線光操作の次にプレートに対
しナンバリングと称する識別符号ケ刻印している。具体
的には第１ １１１の績光装ｈ゛と異なる装置により符
号板Ｋｆｔ．ケ当て投影ＩＰＨさせて．２枦Ｊ目の線光
ン竹ないマスクのシリーズ番号，日付．パターン寸法の
劉差値等ヶ刻印Ｔる。ナンバリング作Ｖを行なうとぎ，
第１ １（！ｌ露元の次に山ぐ行Ｔｊｆう必捗があるが
縛元賽所が異なるため時に作業者のミスがあって誤った
ナンバリングヶｈｒｘうことがあった。
本発明のｂ的越繭述の欠点を改讐し，嬉九作業ｌ竹なう
装置において．フォトマスク等を慢る通常の線光とナン
バリング路光とン相次いで？Ｔない．誤りのないナンバ
リング露光のできる装−ケ轡供ＴることＫある。そのた
め庫発明の壺旨とＴる所はフォトマスクン伶る作業に使
片１Ｔる元傍路ン切侠えてナンバリング雑光かできるよ
うにした績＊装−とすることである。
装置において．フォトマスク等を慢る通常の線光とナン
バリング路光とン相次いで？Ｔない．誤りのないナンバ
リング露光のできる装−ケ轡供ＴることＫある。そのた
め庫発明の壺旨とＴる所はフォトマスクン伶る作業に使
片１Ｔる元傍路ン切侠えてナンバリング雑光かできるよ
うにした績＊装−とすることである。
以″Ｆ部面にホＴ事始町の実施例について説明Ｔる。部
面において０８は露光作業な打なうケース’Ｉｌ１泊−
一で全体的に示したもの、ＰＴ１は路光＾ＩＩのプレー
トンケース０８に入わた偽檎を不し、ＰＴ２ を１鱒元
中のプレートでコピーマスクＶ得たり、ウェハ（冷型の
焼付はケ行なっていることを示している。アテ３ 番１
第２−廁１甲のプレートを示し、ナンバリングｍ元の操
作がなされている。プレートはその機ケースＯＲから販
田さ幻現稼・定着などの操作を村なう。ＬＴ’多１元源
ランプ、 ＰＫ、Ｐ は楕円ミラー、ＯＤＭ は
コールドミラーでｖＬ長長連選択て反射でるもの。
面において０８は露光作業な打なうケース’Ｉｌ１泊−
一で全体的に示したもの、ＰＴ１は路光＾ＩＩのプレー
トンケース０８に入わた偽檎を不し、ＰＴ２ を１鱒元
中のプレートでコピーマスクＶ得たり、ウェハ（冷型の
焼付はケ行なっていることを示している。アテ３ 番１
第２−廁１甲のプレートを示し、ナンバリングｍ元の操
作がなされている。プレートはその機ケースＯＲから販
田さ幻現稼・定着などの操作を村なう。ＬＴ’多１元源
ランプ、 ＰＫ、Ｐ は楕円ミラー、ＯＤＭ は
コールドミラーでｖＬ長長連選択て反射でるもの。
［Ｍ は切換反射＊、 ８）ＩＴ シ１ ！／ ’
ｒ ツｆｉ ｅ ？ ｌ Ｌはフラづアルレンズ、ＭＲ
はミラー、Ｌ８−プコンデンサレンメ、ｏｙは元径路←
１えは元ファイバ、ＭＢＬ はナンバリング−九装賑で
文字遺択腺＆０８アと投影レンズＰＬとから４ｓ成され
る。
ｒ ツｆｉ ｅ ？ ｌ Ｌはフラづアルレンズ、ＭＲ
はミラー、Ｌ８−プコンデンサレンメ、ｏｙは元径路←
１えは元ファイバ、ＭＢＬ はナンバリング−九装賑で
文字遺択腺＆０８アと投影レンズＰＬとから４ｓ成され
る。
当Ｎｌ ｇ′ｙｔＭ＋４（１’Ｊ フレー ） ＰＴ
１ カケ−ス０８に入ったと１ｔ、切換反射＊ ｚＸＭ
は図の位−に在Ｑｅ プレー）かＰＴ２０）位ｋｌｔＫ
杵１１Ｔると。
１ カケ−ス０８に入ったと１ｔ、切換反射＊ ｚＸＭ
は図の位−に在Ｑｅ プレー）かＰＴ２０）位ｋｌｔＫ
杵１１Ｔると。
光源ランプＬＰが点灯さ１．コールドミラーＯＤＭ、７
ライ了イレンズＦＩＬ、ミラー鯖Ｐ、コンデンサレンズ
Ｌ８’％−弁して、プレートＰＴ２上に−か幻た胸板Ｍ
Ｐの状態ケプレー） ＰＴ２に所矩時１％４１−光Ｔる
。七の倹切換反射−鵞ｘ１ケ白矢印Ｑ１方回に移すし、
コールドミラーＣＤ輩とフライアイレンズｙＰ１１の九
束甲に挿入Ｔる。
ライ了イレンズＦＩＬ、ミラー鯖Ｐ、コンデンサレンズ
Ｌ８’％−弁して、プレートＰＴ２上に−か幻た胸板Ｍ
Ｐの状態ケプレー） ＰＴ２に所矩時１％４１−光Ｔる
。七の倹切換反射−鵞ｘ１ケ白矢印Ｑ１方回に移すし、
コールドミラーＣＤ輩とフライアイレンズｙＰ１１の九
束甲に挿入Ｔる。
そのときシャッタ８Ｈｉは閉状態としておく。
プレートＰ’ｒ２ ’ｒアテ３の位置に柊−ｎさせ、シ
ャッタ８ＨＴケ開けると光はファイバＯＦン通ってナン
バリング鼻元装歇ＮＢＬに到り９文字・記号など！違択
してナンバリング両党が行なわわる＠ このときナンバＩＩング無光装−゛への元径路は九７ア
１パン使川Ｔる以外に９反ＪＨ鏡を組合せたり、内向−
バイプケ便用Ｔることもできる。
ャッタ８ＨＴケ開けると光はファイバＯＦン通ってナン
バリング鼻元装歇ＮＢＬに到り９文字・記号など！違択
してナンバリング両党が行なわわる＠ このときナンバＩＩング無光装−゛への元径路は九７ア
１パン使川Ｔる以外に９反ＪＨ鏡を組合せたり、内向−
バイプケ便用Ｔることもできる。
またナンバリングＩＡ”ｌｔ：、 ？Ｉｋ―としては投
影結修法以外に直接セグメント文子′ｆｉ：によること
もできる。
影結修法以外に直接セグメント文子′ｆｉ：によること
もできる。
このようにし又Ｘ発明によると−１−ケース内でフォト
マスク＃Ｖ忰るプレートＶ＃麺噂させ。
マスク＃Ｖ忰るプレートＶ＃麺噂させ。
２回の＃！光ｗ？Ｔなうことにより、ナンノくリングの
誤記８ｔＩることが殆んどなく ｙｒ Ｑ ｅ また移
動時にケースの外へ出さないため陣隻の発午かなく、舟
られる半導体素子の４ｔ４秒粁が同上ＴるＯまたナンバ
リング露光を行ＴＩうまでの時間か太いに伸縮で７する
。
誤記８ｔＩることが殆んどなく ｙｒ Ｑ ｅ また移
動時にケースの外へ出さないため陣隻の発午かなく、舟
られる半導体素子の４ｔ４秒粁が同上ＴるＯまたナンバ
リング露光を行ＴＩうまでの時間か太いに伸縮で７する
。
因面はＸ発−〇）実施例の栴ト■ケ示Ｔ図である。
０８・・・ケース Ｐテ１〜Ｐ〒３・・・プレート
Ｌ？−・・光碗ランプ ｌｌ１ＩＪＰ・・・楕円ミラ
ー０１）Ｍ・−・コールドミラー Ｉ Ｘ Ｍ−切
１１１＆射−νＩＬ・・・７う１アイレンズ ＯＦ・
−元フγイノ（ＮＢＬ・・・ナンバ１ｔング篇光装歇 特軒出鯛人 富士通株式倫社 代 理 人 弁理土鈴木栄祐
Ｌ？−・・光碗ランプ ｌｌ１ＩＪＰ・・・楕円ミラ
ー０１）Ｍ・−・コールドミラー Ｉ Ｘ Ｍ−切
１１１＆射−νＩＬ・・・７う１アイレンズ ＯＦ・
−元フγイノ（ＮＢＬ・・・ナンバ１ｔング篇光装歇 特軒出鯛人 富士通株式倫社 代 理 人 弁理土鈴木栄祐
Claims (1)
- 一尤操作により牛導体素子製造用フォトマスク％′ｊｋ
−得るＸ′ｙｔ、装置において、篇九用元脚の径路中に
設けた切換反射鏡と、該切換反射鏡からの反射光ン導く
元径路と、脛元径路の先端に設けたナンバリング露光装
置とを具憐すること！％黴とＴるｈＩＬ党装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151689A JPS5854331A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151689A JPS5854331A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5854331A true JPS5854331A (ja) | 1983-03-31 |
Family
ID=15524105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56151689A Pending JPS5854331A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5854331A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5258917A (en) * | 1975-11-10 | 1977-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Optical lamination recording |
| JPS53117384A (en) * | 1977-03-23 | 1978-10-13 | Nec Corp | Photoetching mask |
| JPS53135325A (en) * | 1977-04-28 | 1978-11-25 | Toppan Printing Co Ltd | Method of continuous copy print in certain column of paper such as stock certificate |
-
1981
- 1981-09-25 JP JP56151689A patent/JPS5854331A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5258917A (en) * | 1975-11-10 | 1977-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Optical lamination recording |
| JPS53117384A (en) * | 1977-03-23 | 1978-10-13 | Nec Corp | Photoetching mask |
| JPS53135325A (en) * | 1977-04-28 | 1978-11-25 | Toppan Printing Co Ltd | Method of continuous copy print in certain column of paper such as stock certificate |
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