JPS5854463B2 - 電子プロ−ブ装置 - Google Patents

電子プロ−ブ装置

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Publication number
JPS5854463B2
JPS5854463B2 JP53021738A JP2173878A JPS5854463B2 JP S5854463 B2 JPS5854463 B2 JP S5854463B2 JP 53021738 A JP53021738 A JP 53021738A JP 2173878 A JP2173878 A JP 2173878A JP S5854463 B2 JPS5854463 B2 JP S5854463B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slit
electron beam
converging lens
power supply
sample
Prior art date
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Expired
Application number
JP53021738A
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English (en)
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JPS54114173A (en
Inventor
一郎 安藤
昭次郎 田形
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
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Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP53021738A priority Critical patent/JPS5854463B2/ja
Publication of JPS54114173A publication Critical patent/JPS54114173A/ja
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Expired legal-status Critical Current

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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、X線マイクロアナライザー、走査型電子顕微
鏡等の電子プローブ装置の試料への照射電流を制御する
装置に関する。
X線マイクロアナライザー及び走査型電子顕微鏡等の装
置においては、使用する加速電圧と、試料を照射するビ
ーム電流の範囲はそれぞれ数KVから数10KV、10
’Aから10”’Aと大変広い範囲にわたっている。
ある加速電圧のもとで、試料を照射する電子ビームの電
流値は収束レンズの励磁条件とスリットの孔径によって
決定されるが、この組合せのうちで、得られる電子プロ
ーブ径を最も小さくすることのできるものを選ぶことが
必要である。
従来においては、最も使用頻度の高い使用条件に合せた
固定絞りを用いている例もあるが、通常は数段階の異な
る孔径を持つ絞りを用意し、条件に応じて最適なものを
選んで用いる。
とくにX線マイクロアナライザーにおいては、分析対象
元素の種類と濃度、試料の組成等に応じ、加速電圧、プ
ローブ電流等の条件をひんばんに且つ大巾に変化させる
うえに、加速電圧、プローブ電流等の使用条件が互いに
大きく異なるところの二次電子線像、反射電子線像観察
を行なう必要がある。
そこで従来は常に装置を最適条件で使用するために、加
速電圧、プローブ電流等に応じた最適な絞り径の関係は
理論計算され、その結果を示した表又はグラフ等をいち
いち参照して数段階の異なる孔径を持つ絞りの中から、
最適なものを選んで装着するよう装置を操作している。
従って、従来においては操作に熟練と経験を要すのみな
らず、非常に繁雑であった。
本発明は、このような従来装置の欠点を解決するために
なされたもので、複雑な操作をせずに容易に最適な条件
で装置を使用することを可能にした電子プローブ装置の
照射電流制御装置を提供するもので、以下第1図に基づ
き本発明の一実施例を詳述する。
第1図において、1は真空に保持された電子プローブ装
置の筐体であり、該筐体1の上部には電子銃2が配置さ
れている。
3は該電子銃の高圧電源である。
電子銃2より発生した電子ビーム4は収束レンズ5によ
って収束されるようになっている。
6は収束レンズ電源であり、該収束レンズ電源には前記
高圧電源3において設定した加速電圧に対応した信号が
供給される。
収束レンズ4の近傍には補助収束レンズIが設けられて
おり、該補助収束レンズは補助収束レンズ電源8よりの
励磁電源により励磁される。
収束レンズによって収束された電子線は更に対物レンズ
9によって試料10上に収束される。
11は対物レンズ電源である。
該対物レンズ電源11には高圧電源3より加速電圧に応
じた信号が供給されており、該対物レンズの励磁電流は
加速電圧にかかわりなく、常に試料10上に電子ビーム
が収束されるような電流に制御される。
12は穴径の異なった例えば4個のスリット13a、1
3b、13c、13dを有するスリット板である。
該スリット13a 、13b。13c、13dは略以下
のようなプローブ電流範囲に対して最適な孔径を有して
いるものとする。
10 〜10 A 、 13a 10 −1OA 、 13b 10−9〜10 ”A : 13c 10”A以下 : 13d 該スリット板は真空筐体外にとり出された移動軸14に
連結されており、該移動軸14を移動させることにより
前記スリットのうちの任意の1個を光軸15上に配置し
得るようになっている。
16は移動軸14の移動を気密に保持したまま行なわせ
しめるための真空シール部材である。
前記移動軸14はスリット検出回路17に機械的に連結
されている。
該スリット検出回路11は移動軸14の位置を検出する
ことにより前記光軸15上にスリット13a、13b、
13c、13dのうちのどのスリットが配置されたかを
表わす信号を出力する。
該スリット検出回路1γの出力信号は前記収束レンズ電
源6に供給されている。
上述した構成において、高圧電源3を操作して加速電圧
を所望の値に設定する。
しかる後、試料に照射するプローブの電流値に応じてス
リットを選び、該選ばれたスリットが光軸15上に位置
するように移動軸14を操作する。
その結果、高圧電源3より設定された加速電圧に対応し
た信号が、又スリット検出回路17より、選択されたス
リットに対応した信号が収束レンズ電源6に供給される
その結果、該選択された加東電圧とスリットの条件のも
とで、最も細い電子線プローブが形成されるように収束
レンズ電源5から収束レンズ4に供給される励磁電流が
自動的に調整される。
このようにして、本発明により簡単な操作で所望の加速
電圧とビーム電流に対して、最も電子プローブ径を小さ
くすることのできる収束レンズの励磁電流とスリットの
孔径との組合わせを設定することができる。
尚、収束レンズの励磁の強度を測定の特殊な要請により
、微調整するためには、補助収束レンズ電源8を操作す
れば良い。
第2図は更に他の実施例を詳述したもので、第2図にお
いて第1図と同一構成要素に対しては同一番号を付して
その説明を省略する。
第1図と異なるところの1つは収束レンズ電源6に電子
ビーム電流設定部18が具備されており、該収束レンズ
電源6は高圧電源3よりの加速電圧に応じた信号の代わ
りに該電子ビーム電流設定部18よりの信号により制御
される。
該電子ビーム電流設定部18は操作者が、所望とする電
子ビーム電流に設定すると、該設定された電子ビーム電
流に対応した信号を収束レンズ電源6に与え、収束レン
ズ電流を最適なものにするためのものである。
更に移動軸14はスリット交換装置19に機械的に接続
されている。
該スリット交換装置19には前記電子ビーム電流設定部
18よりの信号が供給されており、該スリット交換装置
19は電子ビーム電流設定部18よりの信号により、自
動的に最適なスリットを選択して該スリネトを光軸15
上に配置せしめるためのもので、前記移動軸14を移動
せしめるための駆動用モーター等を含んでいる。
上述した構成において、まず加速電圧を高圧電源3を調
整して所望値に設定した後、試料に照射される電子ビー
ム電流の所望値に応じて電子ビーム電流設定部18を操
作すれば、スリット交換装置19が動作してスリット板
12を移動させ、自動的に最適な孔径を有するスリット
が光軸15上に配置される。
従ってこの場合にも、特定の加速電圧と電子ビーム電流
のもとで、収束レンズの励磁電流とスリット径とよりな
る組合わせを最適なものに選ぶことができ、その結果最
も細い電子線プローブを試料に照射することができる。
尚、上述した実施例においてはスリットの孔径が段階的
に変化している如きスリット板を用いたが、連続可変ス
リットを用いれば常にスリットの孔径を連続的に制御す
るととができるため、より精密な制御が可能になる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を、第2図は本発明の他の実
施例を詳述するためのものである。 1:筐体、2:電子銃、3:高圧電源、4:電子ビーム
、5:収束レンズ、6:収束レンズ電源、T:補助収束
レンズ、8:補助収束レンズ電源、9:対物レンズ、1
0:試料、11:対物レンズ電源、12ニスリツト板、
13a、13b、13c。 13dニスリツト、14:移動軸、15:光軸、16:
真空シール部材、17:スリット検出回路、18:電子
ビーム電流設定部、19ニスリツト交換装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 電子銃より発生した電子ビームを試料上に照射する
    ための収束レンズ及び対物レンズと、該対物レンズの近
    傍に配置され孔径を変化させることのできるスリット手
    段と、前記収束レンズを励磁する収束レンズ電源とを具
    備する装置において、前記試料を照射する電子ビームの
    所望とするビーム電流値に応じて前記スリット手段及び
    前記収束レンズ電源を制御する手段を設けたことを特徴
    とする電子プローブ装置。
JP53021738A 1978-02-27 1978-02-27 電子プロ−ブ装置 Expired JPS5854463B2 (ja)

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JPS54114173A JPS54114173A (en) 1979-09-06
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6294148U (ja) * 1985-11-29 1987-06-16

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