JPS5855450A - テトラシアノアントラキノジメタン誘導体の製造方法 - Google Patents
テトラシアノアントラキノジメタン誘導体の製造方法Info
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- JPS5855450A JPS5855450A JP56155592A JP15559281A JPS5855450A JP S5855450 A JPS5855450 A JP S5855450A JP 56155592 A JP56155592 A JP 56155592A JP 15559281 A JP15559281 A JP 15559281A JP S5855450 A JPS5855450 A JP S5855450A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/18—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of oxygen atoms of carbonyl groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/32—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by introduction of halogenated alkyl groups into ring compounds
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/22—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing only six-membered rings
- C07C2603/24—Anthracenes; Hydrogenated anthracenes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は11.11.12.12−テトラシアノ−9,
1o−アントラキノジメタン誘導体の製造方法に関する
。
1o−アントラキノジメタン誘導体の製造方法に関する
。
本発明で製造する11.11.12,12−テトラシア
ノ−9,1o−アントラキノジメタン訪導体の構造を第
1式に示す。
ノ−9,1o−アントラキノジメタン訪導体の構造を第
1式に示す。
(1)
式中、Z2.Z3.Z6およびZ7は水素原子、ハロゲ
ン基、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基、
オキシアルキル基、カルボキシアルキル基、オキシ基、
アミノ基あるいはカルボキシル基のいずれかである。2
.、24.25およびZ8は水素原子、クロル基、オキ
シ基あるいはアミン基のいずれかである。
ン基、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基、
オキシアルキル基、カルボキシアルキル基、オキシ基、
アミノ基あるいはカルボキシル基のいずれかである。2
.、24.25およびZ8は水素原子、クロル基、オキ
シ基あるいはアミン基のいずれかである。
これらの置換基のうち、ハロゲン基とはフッ素基、クロ
ル基、ブロム基およびヨード基の総称である。まだ、ア
ルキル基、アルキルフェニル基、オキシアルキル基およ
びカルボキシアルキル基を構成する炭素原子数は1から
8までの自然数のうちのいずれかとする。
ル基、ブロム基およびヨード基の総称である。まだ、ア
ルキル基、アルキルフェニル基、オキシアルキル基およ
びカルボキシアルキル基を構成する炭素原子数は1から
8までの自然数のうちのいずれかとする。
これらの11.11.12.12−テトラシアノ−9,
1o−アントラキノジメタン(以後、TCNAQと略す
る)誘導体は有機半導体化合物として有用である。
1o−アントラキノジメタン(以後、TCNAQと略す
る)誘導体は有機半導体化合物として有用である。
これらの化合物のほかに従来、産業上有用な有機半導体
化合物として、7,7,8.8−テトラシアノキノジメ
タン(以後TCNQと略する)、9.9,10.10−
テトラシフ/−1,4−ナツタキノジメタン(以後TC
NNQと略する)およびそれらの誘導体が製造されてい
る。
化合物として、7,7,8.8−テトラシアノキノジメ
タン(以後TCNQと略する)、9.9,10.10−
テトラシフ/−1,4−ナツタキノジメタン(以後TC
NNQと略する)およびそれらの誘導体が製造されてい
る。
第2,3および4式にそれぞれTCNQ、TCNNQお
よびTCNAQの分子式を示す。ここで、TCNQ 、
TCNNQやTCNAQおよびそれらの誘導体は第5式
によって示されるテトラシアノキノジメタン骨格をもっ
ており、それぞれの化合物の特性を決定している。
よびTCNAQの分子式を示す。ここで、TCNQ 、
TCNNQやTCNAQおよびそれらの誘導体は第5式
によって示されるテトラシアノキノジメタン骨格をもっ
ており、それぞれの化合物の特性を決定している。
(2) (3)
ここで、テトラシアノキノジメタン骨格とは、TCNQ
の分子を構成する炭素原子および窒素原子とから成る骨
格構造のことを言う。
の分子を構成する炭素原子および窒素原子とから成る骨
格構造のことを言う。
これらの化合物のうちTCNQおよびその誘導体の製造
方法はたとえば、D、S、Acker 、 et、 a
l、。
方法はたとえば、D、S、Acker 、 et、 a
l、。
J、Am、Chem、 Soc、84 、3370 (
1962)、R,C,Wheland、 et 、al
、 I 、Org Chem、 40 (21) 。
1962)、R,C,Wheland、 et 、al
、 I 、Org Chem、 40 (21) 。
3101(1975)や米国特許第3,115,506
号明細書などの文献に記載されている。たとえば、TC
NQはコハク酸ジエチルを出発物質として1゜4−シク
ロヘキサンジオンを導き、これとマロンニトリルとの反
応から得ることができる。ここで。
号明細書などの文献に記載されている。たとえば、TC
NQはコハク酸ジエチルを出発物質として1゜4−シク
ロヘキサンジオンを導き、これとマロンニトリルとの反
応から得ることができる。ここで。
1.4−シクロヘキサンジオンの合成はI 、R。
Vincent 、 et 、al、、 T 、Org
、 Chsm、 、 3 、603(1939)に記載
されており、これから後の反応はAckerらの文献に
記載がある。第6式の一連の化学反応式によってこの方
法によるTCNQの製造方法を示す。
、 Chsm、 、 3 、603(1939)に記載
されており、これから後の反応はAckerらの文献に
記載がある。第6式の一連の化学反応式によってこの方
法によるTCNQの製造方法を示す。
O壷
NCCN
\ /
1
第6式においてスクシノコハク酸ジエチルから1.4−
シクロヘキサンジオンを導く際に、スクシノ;ハク酸ジ
エチルの加水分解と脱炭酸ガス反応のために、196〜
2oo℃という非常に強い条件を必要としなけれはなら
ない。このために第6式の一連の反応によってTCNQ
を得ることに対して非常に大きな制約があった。
シクロヘキサンジオンを導く際に、スクシノ;ハク酸ジ
エチルの加水分解と脱炭酸ガス反応のために、196〜
2oo℃という非常に強い条件を必要としなけれはなら
ない。このために第6式の一連の反応によってTCNQ
を得ることに対して非常に大きな制約があった。
一方、Wheland らの文献にはTCNQ誘導体
を得る方法が記述されている。これはベンゼン誘導体、
p−キシレン誘導体あるいはテレフタル酸誘導体からp
−キシレンハライドを導き、後に続く一連の反応によっ
てTCNQ誘導体を得る方法である。−例としてベンゼ
ン誘導体からTCNQ誘導体を導く一連の反応を第7式
に示す。
を得る方法が記述されている。これはベンゼン誘導体、
p−キシレン誘導体あるいはテレフタル酸誘導体からp
−キシレンハライドを導き、後に続く一連の反応によっ
てTCNQ誘導体を得る方法である。−例としてベンゼ
ン誘導体からTCNQ誘導体を導く一連の反応を第7式
に示す。
CH2CN ’ (E)CHCNCH2CN
eCHCN 0 COOMe COOMeけ) 第7式においてベンゼン誘導体からTCNQ9導体を得
る過程において8段階もの反応ステップが必要である。
eCHCN 0 COOMe COOMeけ) 第7式においてベンゼン誘導体からTCNQ9導体を得
る過程において8段階もの反応ステップが必要である。
このように従来のTCNQもしくはその誘導体を得る製
造方法はきわめて強い条件のもとての反応過程もしくは
多段階の反応過程からなる工程を必要としている。この
だめ、反応時間、反応収率もしくは反応を推進させるだ
めのエネルギーあるいは動力の消費などの面においてき
わめて不利であった。
造方法はきわめて強い条件のもとての反応過程もしくは
多段階の反応過程からなる工程を必要としている。この
だめ、反応時間、反応収率もしくは反応を推進させるだ
めのエネルギーあるいは動力の消費などの面においてき
わめて不利であった。
本発明は、テトラシアノキノジメタン骨格をもつ化合物
としてのTCNAQ誘導体の製造方法であり、従来のT
CNQもしくはその誘導体の製造方法にみられた上述の
ような欠点を克服したきわめて有用なものである。
としてのTCNAQ誘導体の製造方法であり、従来のT
CNQもしくはその誘導体の製造方法にみられた上述の
ような欠点を克服したきわめて有用なものである。
ここで、本発明の構成の特徴を説明し、本発明の方法と
従来のTCNQもしくはその誘導体の製造方法とを比較
する。
従来のTCNQもしくはその誘導体の製造方法とを比較
する。
本発明は次の2つの引き続いて起こる反応過程から成り
立つTCNAQ誘導体の製造方法である。
立つTCNAQ誘導体の製造方法である。
(al アントラセン誘導体の9位および10位の炭
素原子にジシアノメチル基を導入する。
素原子にジシアノメチル基を導入する。
(b) (alによって得られたジシアノメチルアン
トラセン誘導体のジシアノメチル基を脱水素化してジシ
アノメチレン基にする。
トラセン誘導体のジシアノメチル基を脱水素化してジシ
アノメチレン基にする。
上記の(alの段階においてモノハロゲン化マロンニト
リルとルイス酸触媒を用いるフリーデル・クラフッ反応
によるのがとくに有効であり、良好な結果を与える。こ
こでハロゲン基はフルオロ基、クロロ基、ブロモ基およ
びヨード基のうちから選ばれたいずれか1つとする。ま
たΦ)の段階の脱水素化反応はハロゲンと水とを用いる
ことによってきわめて円滑に進行する。ここでハロゲン
は弗素塩素、臭素およびヨウ素のうちから選ばれたいず
れか1つとする。
リルとルイス酸触媒を用いるフリーデル・クラフッ反応
によるのがとくに有効であり、良好な結果を与える。こ
こでハロゲン基はフルオロ基、クロロ基、ブロモ基およ
びヨード基のうちから選ばれたいずれか1つとする。ま
たΦ)の段階の脱水素化反応はハロゲンと水とを用いる
ことによってきわめて円滑に進行する。ここでハロゲン
は弗素塩素、臭素およびヨウ素のうちから選ばれたいず
れか1つとする。
ただし、(a)の段階で用いられるアントラセン誘導体
は下の一般式(8)によって表される。
は下の一般式(8)によって表される。
(8)
ここで、Z、、 Z2. Z3. Z4. Z5. Z
6Z、 およびZ8 は第1式と同じ置換基を表す。
6Z、 およびZ8 は第1式と同じ置換基を表す。
3
また、(blの段階において第1式によって表されるT
CNAQ誘導体が得られる。
CNAQ誘導体が得られる。
本発明の方法の一例を第9式の化学反応式によって示す
。
。
CH(CN)2
これらの一連の反応過程はわずかな加熱あるいは室温も
しくはそれ以下の温度で進行する。このために反応を推
進させるだめのエネルギーもしくは動力の消費がきわめ
て少ない。また、これらの反応は単純なi6換もしくは
脱離反応であり、しか4 も副反応はほとんど起こらず、かつ、わずかに2段階の
反応であるので目的とするTCNAQ誘導体を高収率で
得ることができる。
しくはそれ以下の温度で進行する。このために反応を推
進させるだめのエネルギーもしくは動力の消費がきわめ
て少ない。また、これらの反応は単純なi6換もしくは
脱離反応であり、しか4 も副反応はほとんど起こらず、かつ、わずかに2段階の
反応であるので目的とするTCNAQ誘導体を高収率で
得ることができる。
また、とくに出発物質としてアントラセンを用いる場合
、この化合物はコールタール中から多量かつきわめて安
価に得ることができるので、本発明の方法を用いれば、
TCNAQ誘導体をきわめて安価に製造しうる。
、この化合物はコールタール中から多量かつきわめて安
価に得ることができるので、本発明の方法を用いれば、
TCNAQ誘導体をきわめて安価に製造しうる。
以下に出発物質としてアントラセンを例にとり、本発明
の詳細な説明する。
の詳細な説明する。
(a) ジシアノメチル基の導入
、ベンゼンなどを溶媒としてアントラセンを溶解させ、
この溶液にフリーデル・クラフッ反応を行うときのルイ
ス酸触媒を懸濁させた。これにモノハロゲン化マロンニ
トリルを溶解させ、室温において約2時間攪拌した。こ
こでルイス酸触媒はたとえば、ハロゲン化アルミニウム
、/・ロゲン化第二鉄、ハロゲン化スズ、ハロゲン化チ
タンもしくはハロゲン化亜鉛などが良好な結果を与える
。ここで、ルイス酸触媒はモノハロゲン化マロンニトリ
ルと等モル量よりも過剰に加えた刀が収率が良好である
。またジシアノメチル基の導入はきわめてすみやかに行
われる。これは次の2つの理由によるものと思われる。
この溶液にフリーデル・クラフッ反応を行うときのルイ
ス酸触媒を懸濁させた。これにモノハロゲン化マロンニ
トリルを溶解させ、室温において約2時間攪拌した。こ
こでルイス酸触媒はたとえば、ハロゲン化アルミニウム
、/・ロゲン化第二鉄、ハロゲン化スズ、ハロゲン化チ
タンもしくはハロゲン化亜鉛などが良好な結果を与える
。ここで、ルイス酸触媒はモノハロゲン化マロンニトリ
ルと等モル量よりも過剰に加えた刀が収率が良好である
。またジシアノメチル基の導入はきわめてすみやかに行
われる。これは次の2つの理由によるものと思われる。
第1の理由はフリーデル・クラフッ反応を行う除に生じ
るカルボニウムイオンが下の式のように共鳴安定化する
ため、カルボニウムイオンがすみやかに生成してアント
ラセンに対して親電子的な攻撃を行うのがきわめて容易
になることによるためであると思われる。
るカルボニウムイオンが下の式のように共鳴安定化する
ため、カルボニウムイオンがすみやかに生成してアント
ラセンに対して親電子的な攻撃を行うのがきわめて容易
になることによるためであると思われる。
■
4−、N三C−CH=C:N←→・・・・・・・・・・
・・(10) また、過剰のルイス酸触媒を加えた万が良好な結果が得
られるのは、フリーデル・クラフッ反応を用いてアシル
化を行うときと類似の事情にへるだめと思われる。すな
わち、たとえば次のような錯化合物を形成するものと考
えられる。
・・(10) また、過剰のルイス酸触媒を加えた万が良好な結果が得
られるのは、フリーデル・クラフッ反応を用いてアシル
化を行うときと類似の事情にへるだめと思われる。すな
わち、たとえば次のような錯化合物を形成するものと考
えられる。
第2の理由はアントラセンの9位および10位の炭素原
子は活性で親電子反応を受けやすいだめであると思われ
る。このことは有機合成化学および有機反応理論上、よ
く知られた事実である。
子は活性で親電子反応を受けやすいだめであると思われ
る。このことは有機合成化学および有機反応理論上、よ
く知られた事実である。
(bl ジシアノメチル基の脱水素化本発明の第2の
反応過程は9,10−ビス(ジシアノメチル)アントラ
センを脱水素化してTCNAQを得る過程である。これ
はたとえば、・・ロゲンと水とによって容易に行うこと
ができる。これと同様の反応が前述のWhelandら
の文献に記載されている。
反応過程は9,10−ビス(ジシアノメチル)アントラ
センを脱水素化してTCNAQを得る過程である。これ
はたとえば、・・ロゲンと水とによって容易に行うこと
ができる。これと同様の反応が前述のWhelandら
の文献に記載されている。
以上に、出発物質としてアントラセンを例にとって説明
した。これらのことは他のアントラセン誘導体を用いる
場合にも成り立つ。ただし、この場合は誘導体の種類に
応じて反応に用いる溶媒等を適宜かえる必要のあること
はいうまでもない。
した。これらのことは他のアントラセン誘導体を用いる
場合にも成り立つ。ただし、この場合は誘導体の種類に
応じて反応に用いる溶媒等を適宜かえる必要のあること
はいうまでもない。
7
以下にTCNAQ誘導体の製造方法の実施例を挙げ、本
発明をさらに詳細に説明する。
発明をさらに詳細に説明する。
実施例1
ベンゼン1000 ml I/Cアントラセン0.2モ
ルを溶解させ、これに0.6モルの塩化アルミニウムを
懸濁させた。これにさらに0.4モルのモノクロロマロ
ンニ) IJルを溶解させて、室温において2時間攪拌
した。反応液を冷却して得られた結晶をベンゾニトリル
から再結晶して52.0y−の9,1゜−ビス(ジシア
ノメチル)アントラセンの結晶を得た(収率86%)。
ルを溶解させ、これに0.6モルの塩化アルミニウムを
懸濁させた。これにさらに0.4モルのモノクロロマロ
ンニ) IJルを溶解させて、室温において2時間攪拌
した。反応液を冷却して得られた結晶をベンゾニトリル
から再結晶して52.0y−の9,1゜−ビス(ジシア
ノメチル)アントラセンの結晶を得た(収率86%)。
さらに、9,1o−ビス(ジシアノメチル)アントラセ
ンを0.1 モル(30,69)分取して500m1の
アセトニ) IJルに溶解させた。この溶液に過剰ノブ
ロム水を加えて室温において30分間攪拌し、この後に
反応容器を氷水で冷却しながら一昼夜放置し、得られた
結晶をO−ジクロルベンゼンから再結晶して28.97
のTCNAQの結晶を得た(収率95%)。
ンを0.1 モル(30,69)分取して500m1の
アセトニ) IJルに溶解させた。この溶液に過剰ノブ
ロム水を加えて室温において30分間攪拌し、この後に
反応容器を氷水で冷却しながら一昼夜放置し、得られた
結晶をO−ジクロルベンゼンから再結晶して28.97
のTCNAQの結晶を得た(収率95%)。
なお、このようにして得られた最終生成物の質8
量分析の結果、この化合物はC2oH8N4の組成をも
ち、他の元素はきわめて微量であった。また、赤外吸光
分光分析の結果、この化合物に下のような特性吸収帯が
認められた。これらの特性吸収帯の波長と官能基の帰属
とを次表に示す。
ち、他の元素はきわめて微量であった。また、赤外吸光
分光分析の結果、この化合物に下のような特性吸収帯が
認められた。これらの特性吸収帯の波長と官能基の帰属
とを次表に示す。
官能基の特性吸収帯
実施例2
クロルベンゼン1000 ml K 2− クロロアン
トラセン0.2モルを溶解させ、これに0.6モルの臭
化第二鉄を懸濁させた。この溶液にさらに0.4モルの
モノブロモマロンニトリルを溶解させて室温において2
時間攪拌した。反応液を冷却して得ら鼾た結晶をベンゾ
ニトリルから再結晶して61.419 ?の2−クロロ−9,1o−ビス(ジシアノメチル)ア
ントラセンの結晶を得た(収率9o%)。
トラセン0.2モルを溶解させ、これに0.6モルの臭
化第二鉄を懸濁させた。この溶液にさらに0.4モルの
モノブロモマロンニトリルを溶解させて室温において2
時間攪拌した。反応液を冷却して得ら鼾た結晶をベンゾ
ニトリルから再結晶して61.419 ?の2−クロロ−9,1o−ビス(ジシアノメチル)ア
ントラセンの結晶を得た(収率9o%)。
さらに、この化合物を0.1モル(34,1y)分取し
て500mのアセトニトリルに溶解させ、さらに過剰の
ブロム水を加えて室温において30分間攪拌した。この
後に反応容器を氷水で冷却しながら一昼夜放置し、得ら
れた結晶をベンジエ) IJルから再結晶しテ32.1
7(D2− りo o −T CNAQを得た(収率9
5%)。
て500mのアセトニトリルに溶解させ、さらに過剰の
ブロム水を加えて室温において30分間攪拌した。この
後に反応容器を氷水で冷却しながら一昼夜放置し、得ら
れた結晶をベンジエ) IJルから再結晶しテ32.1
7(D2− りo o −T CNAQを得た(収率9
5%)。
ここに、2−クロロ−TCNAQとは2−クロロ−11
,11,12,12−テトラシアノ−9゜10−アント
ラキノジメタンの略記であシ、以下もこの記法を用いる
。
,11,12,12−テトラシアノ−9゜10−アント
ラキノジメタンの略記であシ、以下もこの記法を用いる
。
さらに、実施例1と同じ反応溶媒を用いて2−メチルア
ントラセン、7−クロル−2−エチルアントラセンおよ
び2−7エニルアントラセンを出発物質としてそれぞれ
2−メチル−TCNAQ、7−クロル−2−エチル−T
CNAQおよび2−フエニルーTCNAQを得た。
ントラセン、7−クロル−2−エチルアントラセンおよ
び2−7エニルアントラセンを出発物質としてそれぞれ
2−メチル−TCNAQ、7−クロル−2−エチル−T
CNAQおよび2−フエニルーTCNAQを得た。
また、実施例2と同じ反応溶媒を用いて1−クロルアン
トラセン、1.4−ジクロルアントラセン、2.3−−
)クロルアントラセン、2,3−ジブロムアントラセン
およびアントラセン−2−カルボン酸を出発物質として
それぞれ1−クロル−TCNAQ、1.4−ジクoルー
TCNAQ12゜3−ジクロル−TCNAQ、2 、s
−ジブロム−TCNAQおよび2−カルボキシ−TCN
AQを得た。
トラセン、1.4−ジクロルアントラセン、2.3−−
)クロルアントラセン、2,3−ジブロムアントラセン
およびアントラセン−2−カルボン酸を出発物質として
それぞれ1−クロル−TCNAQ、1.4−ジクoルー
TCNAQ12゜3−ジクロル−TCNAQ、2 、s
−ジブロム−TCNAQおよび2−カルボキシ−TCN
AQを得た。
さらに、実施例2と同じ反応溶媒を用いて1−アミノア
ントラセン、2−アミノアントラセン、1−オキシアン
トラセン、2−オキシアントラセン、1.6−シオキシ
アントラセンおよヒ2,3−ジオキシアントラセンを出
発物質としてそれぞれ1−アミ/−TCNAQ、2−7
ミ7−TCNAQ、1−オキシ−TCNAQ、2−オキ
シ−TCNAQ、1 、6−シオキシーTCNAQおよ
び2.3−ジオキシ−TCNAQを得た。
ントラセン、2−アミノアントラセン、1−オキシアン
トラセン、2−オキシアントラセン、1.6−シオキシ
アントラセンおよヒ2,3−ジオキシアントラセンを出
発物質としてそれぞれ1−アミ/−TCNAQ、2−7
ミ7−TCNAQ、1−オキシ−TCNAQ、2−オキ
シ−TCNAQ、1 、6−シオキシーTCNAQおよ
び2.3−ジオキシ−TCNAQを得た。
ここで、アントラセンのアミン誘導体を出発物質とする
場合に反応前にあらかじめ塩化アセチルによってアミン
基をアセチルアミノ基にかえて保1 護しておいてから実施例2と同様の一連の反応を行い、
TCNAQ誘導体を導いてから最後にヒドラジンによっ
てアセチルアミノ基をアミン基に戻した。これと同様の
操作はたとえば、M、 Fujinaga。
場合に反応前にあらかじめ塩化アセチルによってアミン
基をアセチルアミノ基にかえて保1 護しておいてから実施例2と同様の一連の反応を行い、
TCNAQ誘導体を導いてから最後にヒドラジンによっ
てアセチルアミノ基をアミン基に戻した。これと同様の
操作はたとえば、M、 Fujinaga。
et 、al、、 Bul l 、 Cheyyl、
Soc、Tapan、 39 、186(1ses)7
どの文献に記載されている。
Soc、Tapan、 39 、186(1ses)7
どの文献に記載されている。
1だ、アントラセンのオキシ誘導体を出発物質とする場
合には反応前にあらかじめヨウ化メチルと酸化銀とによ
ってオキシ基をメトキシ基にかえて保護してから実施例
2と同様の一連の反応を行い、TCNAQ誘導体を導い
てから最後に濃硫酸によってメトキシ基をオキシ基に戻
した。オキシ基の保護については同様な操作がたとえば
、1.C。
合には反応前にあらかじめヨウ化メチルと酸化銀とによ
ってオキシ基をメトキシ基にかえて保護してから実施例
2と同様の一連の反応を行い、TCNAQ誘導体を導い
てから最後に濃硫酸によってメトキシ基をオキシ基に戻
した。オキシ基の保護については同様な操作がたとえば
、1.C。
Lovie 、et 、al、、 J、Chem、So
c、、 4139 (1959)などの文献に記載され
ている。また、メトキシ基をオキシ基に戻す操作はたと
えは、T 、A、 Geisman 。
c、、 4139 (1959)などの文献に記載され
ている。また、メトキシ基をオキシ基に戻す操作はたと
えは、T 、A、 Geisman 。
et、 al、、 J、Am、 Chem、 Soc、
、 73.5765(1951) などに記載がある
。
、 73.5765(1951) などに記載がある
。
また、実施例1と同じ反応溶媒と再結晶溶媒を悶いて2
−(2−オキシエチル)アントラセン、2 2−(3−カルボキシプロピル)アントラセンおよび2
−(4−エチルフェニル)アントラセンを出発物質とし
てそれぞれ2−(2−オキシエチル)−TCNAQ、2
−(a−カルボキシプロピル)−TCNAQおよび2−
(4−エチルフェニル)−TCNAQを得た。2−(2
−オキシエチル)アントラセンを出発物質とする場合は
オキシ基をメトキシ基にかえて保護し、反応が戻ってか
らオキシ基に戻した。
−(2−オキシエチル)アントラセン、2 2−(3−カルボキシプロピル)アントラセンおよび2
−(4−エチルフェニル)アントラセンを出発物質とし
てそれぞれ2−(2−オキシエチル)−TCNAQ、2
−(a−カルボキシプロピル)−TCNAQおよび2−
(4−エチルフェニル)−TCNAQを得た。2−(2
−オキシエチル)アントラセンを出発物質とする場合は
オキシ基をメトキシ基にかえて保護し、反応が戻ってか
らオキシ基に戻した。
Claims (3)
- (1)下記の一般式Aで表されるアントラセン誘導体の
9位および10位の炭素原子にジシアノメチル基を導入
し、次いでジシアノメチル基を脱水素化することにより
、下記の一般弐Bで表される11.11.12.12−
テトラシアノ−9,1o−アントラキノジメタン誘導体
を得るテトラシアノアントラキノジメタン誘導体の製造
方法。 (A) 式中、Z2 * Z5 * Z6およびZ7は水素原子
、ハロゲン基、アルキル基、フェニル基、アルキルフェ
ニル基、オキシアルキル基、カルボキシアルキル基、オ
キシ基、アミン基あるいはカルボキシル基のいずれかで
ある。Zl、Z4.Z5オよびz8 は水素原子、クロ
ル基、オキシ基あるいはアミノ基のいずれかである。こ
れらの置換基のうち、ハロゲン基とはフッ素基、クロル
基、ブロム基およびヨード基の総称である。また、アル
キル基、アルキルフェニル基、オキシアルキル基および
カルボキシアルキル基を構成する炭素原子数は1から8
までの自然数のうちいずれかとする。 (B) ココテ、Zl、Z2.Z3.Z4.Z5.Z6.z7オ
ヨびZ8は式Aと同じ置換基を表す。 - (2)前記ジシアノメチル基の導入をモノハロゲン化マ
ロンニトリルとルイス酸触媒によって行う特許請求の範
囲第1項記載のテトラシアノアントラキノジメタン誘導
体の製造方法。ただし、ハロゲン基はフルオロ基、クロ
ロ基、ブロモ基、ヨード基のうちから選ばれたいずれか
1つとする。 - (3)前記脱水素化をハロゲンと水とを用いて行う特許
請求の範囲第1項又は第2項記載のテトラシアノアント
ラキノジメタン誘導体の製造方法。 ただし、ハロゲンは弗素、塩素、臭素およびヨウ素のう
ちから選ばれたいずれか1つとする。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56155592A JPS5855450A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | テトラシアノアントラキノジメタン誘導体の製造方法 |
| US06/426,069 US4478753A (en) | 1981-09-29 | 1982-09-28 | Process for the production of 11,11,12,12-tetracyano-9,10-anthraquinodimehane _or its derivatives |
| EP82305165A EP0076639B1 (en) | 1981-09-29 | 1982-09-29 | Production of 11,11,12,12-tetracyano-9,10-anthraquinodimethane and derivatives thereof |
| DE8282305165T DE3268047D1 (en) | 1981-09-29 | 1982-09-29 | Production of 11,11,12,12-tetracyano-9,10-anthraquinodimethane and derivatives thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56155592A JPS5855450A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | テトラシアノアントラキノジメタン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855450A true JPS5855450A (ja) | 1983-04-01 |
Family
ID=15609394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56155592A Pending JPS5855450A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | テトラシアノアントラキノジメタン誘導体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4478753A (ja) |
| EP (1) | EP0076639B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5855450A (ja) |
| DE (1) | DE3268047D1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0616020A1 (en) | 1989-03-20 | 1994-09-21 | Idemitsu Kosan Company Limited | Aromatic dimethylidyne compounds and process for preparation thereof |
| JP2006254842A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Tajima Roofing Co Ltd | 見切り縁材。 |
| EP2262032A2 (en) | 1999-04-05 | 2010-12-15 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Organic electroluminescence device and its manufacturing method |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6468380A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-14 | Fuji Xerox Co Ltd | Bis(1,2,5)thiadiazolo(3,4-b:3',4'-e)pyrazine |
| JPH027302A (ja) * | 1988-06-27 | 1990-01-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 有機導電性錯体 |
| DE10357044A1 (de) * | 2003-12-04 | 2005-07-14 | Novaled Gmbh | Verfahren zur Dotierung von organischen Halbleitern mit Chinondiiminderivaten |
| CN102786438B (zh) * | 2011-05-16 | 2014-04-02 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 一类氰基蒽醌衍生物、其制备方法和有机电致发光器件 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3115506A (en) * | 1960-03-28 | 1963-12-24 | Du Pont | Derivatives of 1, 4-bismethylene cyclohexane and 1, 4-bismethylene cyclohexadiene and processes of preparation |
| US3687987A (en) * | 1969-04-07 | 1972-08-29 | Du Pont | Substituted chalcogeno derivatives of tetracyanoquinodimethans |
-
1981
- 1981-09-29 JP JP56155592A patent/JPS5855450A/ja active Pending
-
1982
- 1982-09-28 US US06/426,069 patent/US4478753A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-29 DE DE8282305165T patent/DE3268047D1/de not_active Expired
- 1982-09-29 EP EP82305165A patent/EP0076639B1/en not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0616020A1 (en) | 1989-03-20 | 1994-09-21 | Idemitsu Kosan Company Limited | Aromatic dimethylidyne compounds and process for preparation thereof |
| EP2262032A2 (en) | 1999-04-05 | 2010-12-15 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Organic electroluminescence device and its manufacturing method |
| JP2006254842A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Tajima Roofing Co Ltd | 見切り縁材。 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4478753A (en) | 1984-10-23 |
| EP0076639B1 (en) | 1985-12-18 |
| DE3268047D1 (en) | 1986-01-30 |
| EP0076639A1 (en) | 1983-04-13 |
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