JPS5857601A - 研磨層の形成方法 - Google Patents
研磨層の形成方法Info
- Publication number
- JPS5857601A JPS5857601A JP15625181A JP15625181A JPS5857601A JP S5857601 A JPS5857601 A JP S5857601A JP 15625181 A JP15625181 A JP 15625181A JP 15625181 A JP15625181 A JP 15625181A JP S5857601 A JPS5857601 A JP S5857601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- deposited
- polishing layer
- abrasive
- polishing
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B3/00—Recording by mechanical cutting, deforming or pressing, e.g. of grooves or pits; Reproducing by mechanical sensing; Record carriers therefor
- G11B3/44—Styli, e.g. sapphire, diamond
- G11B3/56—Sharpening
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、主に微細な硬脆性材を研磨加工する研磨層に
研磨層を形成する方法に関するものである。
研磨層を形成する方法に関するものである。
例えば、ビデオディスクプレーヤにおいて使用される再
生針の先端は、ビデオディスクのスパイラル溝に圧接し
、相対的に高速走行する。ためダイヤモンド、サファイ
ヤ等耐磨耗性の高い硬脆性材によシ作られている。この
再生針の製造にお騒て、上記研磨層を使用する加工工程
は数工程あるが、その１つに円錐研磨加工がある。これ
は、第１図に示すよりに直径０．２ ｍｍ程度の微細な
硬脆性材１をシャンク２の先端に四−付けし、このシャ
ンク２′ｆ：高速回転する研磨層３に押１−付けて、上
記硬脆性材１を含む先端を円錐状に研磨加工する工程で
ある。この研磨層３は、例えば塩化ビニール等の基台４
に酸化ケイ素化合物等の研磨材を蒸着させて研磨層５を
形成したものであシ、本発明はこの研磨層の形成方法に
関するものである。
生針の先端は、ビデオディスクのスパイラル溝に圧接し
、相対的に高速走行する。ためダイヤモンド、サファイ
ヤ等耐磨耗性の高い硬脆性材によシ作られている。この
再生針の製造にお騒て、上記研磨層を使用する加工工程
は数工程あるが、その１つに円錐研磨加工がある。これ
は、第１図に示すよりに直径０．２ ｍｍ程度の微細な
硬脆性材１をシャンク２の先端に四−付けし、このシャ
ンク２′ｆ：高速回転する研磨層３に押１−付けて、上
記硬脆性材１を含む先端を円錐状に研磨加工する工程で
ある。この研磨層３は、例えば塩化ビニール等の基台４
に酸化ケイ素化合物等の研磨材を蒸着させて研磨層５を
形成したものであシ、本発明はこの研磨層の形成方法に
関するものである。
第２図は基台に研磨層を形成する装置を示すものでベル
ジャ６はベースプレート７上に気密に設置されておル、
ベースプレート７に設けられた排気口８から拡散ポンプ
等の真空排気系（図示せず）によシ排気して真空室９が
形成される。前記ベースプレート７の中央部には、蒸着
物として例えば酸化ケイ素化合物等の研磨材１０を入れ
たルツボ１１、またルツボ１１の近傍には研磨材１０を
加熱する電子ビーム加熱針１２が配置されている。
ジャ６はベースプレート７上に気密に設置されておル、
ベースプレート７に設けられた排気口８から拡散ポンプ
等の真空排気系（図示せず）によシ排気して真空室９が
形成される。前記ベースプレート７の中央部には、蒸着
物として例えば酸化ケイ素化合物等の研磨材１０を入れ
たルツボ１１、またルツボ１１の近傍には研磨材１０を
加熱する電子ビーム加熱針１２が配置されている。
ルツボ１１の上方には蒸発した研磨材１０の粒子をイオ
ン化するための高周波コイル１５が、さらに高周波コイ
ル１３の上方には被蒸着体である基台１４がホルダ１５
により保持されている。以上の構成によりまず真空室９
内を真空度８ Ｘ １０”Ｔｏｒ’ｒ程度の希薄なガス
雰囲気中にした後、電子ビーム加熱銃１２によシ研磨材
１０を加熱蒸発させる。この研磨材１０の蒸気流は高周
波コイル１３による高周波電界によってイオン化され、
基台１４の被蒸着面１４ａに蒸着される。
ン化するための高周波コイル１５が、さらに高周波コイ
ル１３の上方には被蒸着体である基台１４がホルダ１５
により保持されている。以上の構成によりまず真空室９
内を真空度８ Ｘ １０”Ｔｏｒ’ｒ程度の希薄なガス
雰囲気中にした後、電子ビーム加熱銃１２によシ研磨材
１０を加熱蒸発させる。この研磨材１０の蒸気流は高周
波コイル１３による高周波電界によってイオン化され、
基台１４の被蒸着面１４ａに蒸着される。
以上述べた研磨層の形成方法において、従来は第２図に
示すように研磨材１０の蒸気流方向即ち第２図における
矢印方向に対し直角方向に被蒸着面１４ａが配置されて
いたが、蒸気流の反射による乱れ等のため、基台１４の
被蒸着面１４ａに出来る析出粒子の成長方向が均一でな
く層にむらができることが知られている。このため従来
の方法で形成した研磨層は単位時間当りの研磨量Ｃ以下
研磨能率という）が小さいうえに耐磨耗性に劣り従って
研磨層としての寿命が短かいとｂう欠点があった。
示すように研磨材１０の蒸気流方向即ち第２図における
矢印方向に対し直角方向に被蒸着面１４ａが配置されて
いたが、蒸気流の反射による乱れ等のため、基台１４の
被蒸着面１４ａに出来る析出粒子の成長方向が均一でな
く層にむらができることが知られている。このため従来
の方法で形成した研磨層は単位時間当りの研磨量Ｃ以下
研磨能率という）が小さいうえに耐磨耗性に劣り従って
研磨層としての寿命が短かいとｂう欠点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし組成
が均一で耐研磨性の高い研磨Ｊ−を形成する方法に関す
るものである。
が均一で耐研磨性の高い研磨Ｊ−を形成する方法に関す
るものである。
上記目的を連取するため、本発明は蒸発源より一定の立
体角にある円周上の蒸着層は良好な柱状結晶構造をもつ
ことを利用したもので、研磨材の蒸気流方向に対し基台
の被蒸着面を傾斜させて設置することにより、被蒸着面
全体に均一で柱状の結晶構造をもち、耐磨耗性の高い研
磨層を形成することを特徴としている。
体角にある円周上の蒸着層は良好な柱状結晶構造をもつ
ことを利用したもので、研磨材の蒸気流方向に対し基台
の被蒸着面を傾斜させて設置することにより、被蒸着面
全体に均一で柱状の結晶構造をもち、耐磨耗性の高い研
磨層を形成することを特徴としている。
本発明の一実施例を第３図及び第４図に基づいて具体的
に説明する。第５図は本発明による研磨層の形成方法の
一実施例を示す説明図、第４図は傾斜角度と研磨能率と
の関係を示すグラフである。
に説明する。第５図は本発明による研磨層の形成方法の
一実施例を示す説明図、第４図は傾斜角度と研磨能率と
の関係を示すグラフである。
各構成は、前述した名称及び番号に同じであるが研磨材
の蒸気流方向即ち第３図における矢印方向に対し基台１
４の被蒸着面１４ａは傾斜角θをもって設置されている
。この結果電子ビーム銃１２によって加熱され、高周波
コイル１３によってイオン化された研磨材１０の蒸気流
は、基台１４の被蒸着面１４ａに対し相対的に傾斜角θ
の斜方より蒸着されることになる。このため被蒸着面１
４ａの表面は、均一で良質な柱状の結晶構造をもち、耐
磨耗性の高い研磨層を形成する。
の蒸気流方向即ち第３図における矢印方向に対し基台１
４の被蒸着面１４ａは傾斜角θをもって設置されている
。この結果電子ビーム銃１２によって加熱され、高周波
コイル１３によってイオン化された研磨材１０の蒸気流
は、基台１４の被蒸着面１４ａに対し相対的に傾斜角θ
の斜方より蒸着されることになる。このため被蒸着面１
４ａの表面は、均一で良質な柱状の結晶構造をもち、耐
磨耗性の高い研磨層を形成する。
第４図は塩化ビニールを材質とした基台に、第１層とし
てクロム、第２層として酸化ケイ素化合物を蒸着させた
場合、前記傾斜角θと形成された研磨層の良質度即ち研
磨能率Ｎとの関係を示すグラフである。この実験結果に
よると、従来の被蒸着面を研磨材の蒸気流方向に直角に
置く方法即ちθ＝９０°の場合に比べ、傾斜角θ＝１５
°〜６０°の間せの違いが顕著に表われ、特にθ＝３０
°の時に最も研磨能率のよい研磨層が得られ、従来のθ
＝９０°の場合に比べ１０倍近い高い研磨能率をる研磨
材の蒸気流方向に対し被蒸着面を傾斜させるように基台
を設置することによシ、柱状の結晶構造をもつ研磨層全
形成することができ、研磨能率の高す従って寿命が長く
微細な硬脆性材を量産加工できる研磨層を製造できる効
果かあ、る。
てクロム、第２層として酸化ケイ素化合物を蒸着させた
場合、前記傾斜角θと形成された研磨層の良質度即ち研
磨能率Ｎとの関係を示すグラフである。この実験結果に
よると、従来の被蒸着面を研磨材の蒸気流方向に直角に
置く方法即ちθ＝９０°の場合に比べ、傾斜角θ＝１５
°〜６０°の間せの違いが顕著に表われ、特にθ＝３０
°の時に最も研磨能率のよい研磨層が得られ、従来のθ
＝９０°の場合に比べ１０倍近い高い研磨能率をる研磨
材の蒸気流方向に対し被蒸着面を傾斜させるように基台
を設置することによシ、柱状の結晶構造をもつ研磨層全
形成することができ、研磨能率の高す従って寿命が長く
微細な硬脆性材を量産加工できる研磨層を製造できる効
果かあ、る。
第１図は硬脆性材を研磨する研磨層を示す斜視図、第２
図は従来の研磨層形成方法を示す説明図、第３図は本発
明による研磨層形成方法を示す説明図、第４図は傾斜角
と形成された研磨層の研磨能率との関係を示すグラフで
ある。 ９・・・真空室 １０・・・研磨材 １４・・・基
台代理人弁理士 薄 １）利 幸 μｈ−才４図
図は従来の研磨層形成方法を示す説明図、第３図は本発
明による研磨層形成方法を示す説明図、第４図は傾斜角
と形成された研磨層の研磨能率との関係を示すグラフで
ある。 ９・・・真空室 １０・・・研磨材 １４・・・基
台代理人弁理士 薄 １）利 幸 μｈ−才４図
Claims (1)
- 真空室内において蒸着物である研磨材を加熱し、加熱し
て得られる蒸気流に高周波電界を重畳してイオン化し、
被蒸着体である基台を前記研磨材の蒸気流方向に対して
傾斜させて設置し、研磨材を蒸着させることを特徴とす
る研磨層の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15625181A JPS5857601A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 研磨層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15625181A JPS5857601A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 研磨層の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857601A true JPS5857601A (ja) | 1983-04-05 |
Family
ID=15623688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15625181A Pending JPS5857601A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 研磨層の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857601A (ja) |
-
1981
- 1981-10-02 JP JP15625181A patent/JPS5857601A/ja active Pending
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