JPS5874006U - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPS5874006U
JPS5874006U JP17014881U JP17014881U JPS5874006U JP S5874006 U JPS5874006 U JP S5874006U JP 17014881 U JP17014881 U JP 17014881U JP 17014881 U JP17014881 U JP 17014881U JP S5874006 U JPS5874006 U JP S5874006U
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JP
Japan
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high frequency
heating chamber
cover
heating device
stirring
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Granted
Application number
JP17014881U
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JPS626405Y2 (ja
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石村　洋三
一郎 堀
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す高周波加熱装置の斜視
図、第２図は同側断面図、第３図は同要部を示す正断面
図、第４図は第２図に対応する従来例を示す高周波加熱
装置の側断面図、第５図は第３図に対応する従来例を示
す高周波加熱装置の要部を示す正断面図である。 ２・・・・・・加熱室、１０・・・・・・高周波発生装
置、１３・・・・・・攪拌羽根、１５・・・・・・カバ
ー、１７・・・・・・突出部、１９．１９’・・・・・
・保持具。 第３図 第４図

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 本体内に設けられた加熱室と、この加熱室の開口部に開
    閉自在に設けられた扉と、前記加熱室内へ高周波を供給
    する高周波発生装置と、前記加熱室内へ供給される高周
    波を攪拌する攪拌羽根と、低損失性誘電体で構成され、
    前記加熱室内に設けられた攪拌羽根を保護するカバーと
    からなり、前記カバーの取付構成を少なくともカバーの
    相対する２辺を保持具で、他の２辺を前記攪拌羽根側の
    加熱室壁に設けられた突出部で保持した高周波加熱装置
    。
JP17014881U 1981-11-13 1981-11-13 高周波加熱装置 Granted JPS5874006U (ja)

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JP17014881U JPS5874006U (ja) 1981-11-13 1981-11-13 高周波加熱装置

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JP17014881U JPS5874006U (ja) 1981-11-13 1981-11-13 高周波加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS5874006U true JPS5874006U (ja) 1983-05-19
JPS626405Y2 JPS626405Y2 (ja) 1987-02-14

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ID=29962112

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JPS626405Y2 (ja) 1987-02-14

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