JPS587931B2 - コンゴウコウセイガス ノ チヨウセイホウホウ - Google Patents
コンゴウコウセイガス ノ チヨウセイホウホウInfo
- Publication number
- JPS587931B2 JPS587931B2 JP2826674A JP2826674A JPS587931B2 JP S587931 B2 JPS587931 B2 JP S587931B2 JP 2826674 A JP2826674 A JP 2826674A JP 2826674 A JP2826674 A JP 2826674A JP S587931 B2 JPS587931 B2 JP S587931B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- concentration
- flow rate
- dilution
- calibration
- Prior art date
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- Expired
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高精度の校正ガスを連続的に発生させる方法に
関する。
関する。
大気の汚染成分の測定に際して各種の機器分析あるいは
化学分析の手法が適用されており、そのとき測定しよう
とする汚染成分と類似組成の濃度既知ガスが測定標準物
質（校正ガス）として用いられている。
化学分析の手法が適用されており、そのとき測定しよう
とする汚染成分と類似組成の濃度既知ガスが測定標準物
質（校正ガス）として用いられている。
一般に数１ ０ ｐｐｍ以上の濃度域および化学活性度
の極めて小さい汚染成分に対する校正ガスの製造は比較
的容易で、これらは、高圧容器に充填されたものが使用
されているが、化学反応性の太きい、あるいは数１ ０
ｐｐｍ以下のごとき微量濃度の校正ガスの場合には、
ガス相互間の反応、ガスと容器との反応、ガスの密度差
もしくは容器の温度勾配等に起因して取り出すガスの濃
度値に不安定性を生じるため高圧容器に充填することは
非実用的で好ましくない。
の極めて小さい汚染成分に対する校正ガスの製造は比較
的容易で、これらは、高圧容器に充填されたものが使用
されているが、化学反応性の太きい、あるいは数１ ０
ｐｐｍ以下のごとき微量濃度の校正ガスの場合には、
ガス相互間の反応、ガスと容器との反応、ガスの密度差
もしくは容器の温度勾配等に起因して取り出すガスの濃
度値に不安定性を生じるため高圧容器に充填することは
非実用的で好ましくない。
そのため適当濃度の該当汚染ガスとたとえば高純度窒素
のごとき稀釈ガスとを混合することによって、適当な稀
釈率で定まる該当汚染ガス濃度の混合校正ガスを連続的
に作成する方法が採用されている。
のごとき稀釈ガスとを混合することによって、適当な稀
釈率で定まる該当汚染ガス濃度の混合校正ガスを連続的
に作成する方法が採用されている。
このとき使用される流量計の実流量（実測値）は当然の
ことながら石鹸膜流量計あるいは湿式回転流量計などに
よって正確に検定されなければならない。
ことながら石鹸膜流量計あるいは湿式回転流量計などに
よって正確に検定されなければならない。
しかるに、このようにして校正ガスを調製しようとすれ
ば、所望する校正ガスの濃度が数ｐｐｂから数ｐｐｍま
での広範囲に亘る場合には、使用する被稀釈ガス（原料
汚染ガス）の種類、濃度、比熱、密度、流量範囲等に応
じてその都度前記の流量検出装置に対応する多回数の検
定操作が必要となり、実質的に適用実施はきわめて困難
である。
ば、所望する校正ガスの濃度が数ｐｐｂから数ｐｐｍま
での広範囲に亘る場合には、使用する被稀釈ガス（原料
汚染ガス）の種類、濃度、比熱、密度、流量範囲等に応
じてその都度前記の流量検出装置に対応する多回数の検
定操作が必要となり、実質的に適用実施はきわめて困難
である。
本発明では上記従来法を改め、最少限の検定操作によっ
て広範囲な濃度域の校正ガスを自由に連続して調整し得
る方法を提供しようとするものである。
て広範囲な濃度域の校正ガスを自由に連続して調整し得
る方法を提供しようとするものである。
すなわち、本発明の要旨は少なくとも２種類のガスから
低濃度の混合校正ガスを製造するに当り、少なくとも１
種類の数百ｐｐｍ程度以下の濃度既知の校正ガスを被稀
釈ガスとしてこれを定量流量計を通して一定量ずつ流す
工程と、実質的に１００％濃度の稀釈ガスを可変流量計
を通して所望濃度に応じた稀釈量ずつ流す工程と、前記
ガス流を混合後供給する工程を包含してなる、被稀釈ガ
ス流量を定量的に流し、稀釈ガス流量を制御することに
より、数十ｐｐｍ程度以下の低濃度校正ガスを連続的に
供給することを特徴とする低濃度混合校正ガスの調製方
法である。
低濃度の混合校正ガスを製造するに当り、少なくとも１
種類の数百ｐｐｍ程度以下の濃度既知の校正ガスを被稀
釈ガスとしてこれを定量流量計を通して一定量ずつ流す
工程と、実質的に１００％濃度の稀釈ガスを可変流量計
を通して所望濃度に応じた稀釈量ずつ流す工程と、前記
ガス流を混合後供給する工程を包含してなる、被稀釈ガ
ス流量を定量的に流し、稀釈ガス流量を制御することに
より、数十ｐｐｍ程度以下の低濃度校正ガスを連続的に
供給することを特徴とする低濃度混合校正ガスの調製方
法である。
本発明は上述のごとくあらかじめ調製された既知濃度の
被稀釈ガスを常時一定量ずつ流し、これに正確な流量測
定か容易な稀釈ガスの流量を変化させることにより、所
望する各種濃度に調製するものであるから、流量検定操
作は最少となり使用被稀釈ガス濃度以下の校正ガスを自
由に調製することができる。
被稀釈ガスを常時一定量ずつ流し、これに正確な流量測
定か容易な稀釈ガスの流量を変化させることにより、所
望する各種濃度に調製するものであるから、流量検定操
作は最少となり使用被稀釈ガス濃度以下の校正ガスを自
由に調製することができる。
稀釈ガスには一般に１００％に近い高純度のものあるい
は化学的活性の小さいガスが使用されるので、比熱、密
度などの物性値の変化が少なく、安定した状態で被稀釈
ガスの稀釈に供することができ、測定精度も高い。
は化学的活性の小さいガスが使用されるので、比熱、密
度などの物性値の変化が少なく、安定した状態で被稀釈
ガスの稀釈に供することができ、測定精度も高い。
本発明では２種類の流量計を用いて被稀釈ガスならびに
稀釈ガスの流通量を測定するが、この場合の流量計は特
定のものでなく、通常一般にガス流体測定に利用されて
いる計器であればいずれも使用することができ、それら
の例をあげれば、毛細管オリフイス、限界オリフィス、
質量流量計などである。
稀釈ガスの流通量を測定するが、この場合の流量計は特
定のものでなく、通常一般にガス流体測定に利用されて
いる計器であればいずれも使用することができ、それら
の例をあげれば、毛細管オリフイス、限界オリフィス、
質量流量計などである。
また稀釈ガスとしての条件はできるだけ高純度で反応性
の少ないガスが望まれるが、窒素、ヘリウム、アルゴン
、炭酸ガスの外に一酸化炭素、酸素、合成空気なども混
合される被稀釈ガスとの安定性混合割合の範囲を考慮し
て使用することができる。
の少ないガスが望まれるが、窒素、ヘリウム、アルゴン
、炭酸ガスの外に一酸化炭素、酸素、合成空気なども混
合される被稀釈ガスとの安定性混合割合の範囲を考慮し
て使用することができる。
以下に本発明を図面の具体例によって説明する。
第１図の１は濃度既知の被稀釈校正ガス、２は例えば窒
素のごとき単一組成の高純度稀釈ガス、３は例えば限界
オリフイスのごとき定量流量計とそれと連動する制御機
構からなる一定の安定流量を得るための装置、４は質量
流量計あるいはオリフイス流量計のごとき可変流量計と
それと連動する制御機構を有してなる、ある範囲の流量
を可変し得る装置である。
素のごとき単一組成の高純度稀釈ガス、３は例えば限界
オリフイスのごとき定量流量計とそれと連動する制御機
構からなる一定の安定流量を得るための装置、４は質量
流量計あるいはオリフイス流量計のごとき可変流量計と
それと連動する制御機構を有してなる、ある範囲の流量
を可変し得る装置である。
また５および６はそれぞれガスを均一に混合するための
混合槽であって、所望数だけ設置し得る。
混合槽であって、所望数だけ設置し得る。
実施態様の一例として、今１に高純度窒素で稀釈した濃
度１ ０ ０ ｐｐｍの一酸化窒素校正ガスを充填し、
このガスを３の限界オリフイス流量計へ１ｃｃ／分の定
流量流し、一方２に高純度窒素を用いて、このガスは４
の質量流量計で１００ｃｃ〜１０００ｃｃ／分の範囲内
で流量設定を行ないながら、６の混合槽から排出される
一酸化窒素混合校正ガスの濃度をそれぞれ測定したとこ
ろ、１ ｐｐｍから０． １ ｐｐｍの範囲の校正ガス
が計算値どおり、安定してかつ自由に得られた。
度１ ０ ０ ｐｐｍの一酸化窒素校正ガスを充填し、
このガスを３の限界オリフイス流量計へ１ｃｃ／分の定
流量流し、一方２に高純度窒素を用いて、このガスは４
の質量流量計で１００ｃｃ〜１０００ｃｃ／分の範囲内
で流量設定を行ないながら、６の混合槽から排出される
一酸化窒素混合校正ガスの濃度をそれぞれ測定したとこ
ろ、１ ｐｐｍから０． １ ｐｐｍの範囲の校正ガス
が計算値どおり、安定してかつ自由に得られた。
このとき、もし１に各種濃度の混合標準ガスを用いて流
量を変化させながら校正ガスを得ようとすれば、流量計
３に対し、用いる混合標準ガスの組成成分の種類と濃度
および流量範囲が変数となる組合せに対応する多数の実
流量対流量指示の検定曲線が必要となって実際の適用が
不可能になる。
量を変化させながら校正ガスを得ようとすれば、流量計
３に対し、用いる混合標準ガスの組成成分の種類と濃度
および流量範囲が変数となる組合せに対応する多数の実
流量対流量指示の検定曲線が必要となって実際の適用が
不可能になる。
それに反して本発明では原料被稀釈ガス濃度および流量
を一定とし、稀釈ガスとして高純度ガスを用いるからガ
スの種類と流量範囲に関係する極く少数の検定曲線の作
成によって所望の混合校正ガスを容易に得ることができ
る。
を一定とし、稀釈ガスとして高純度ガスを用いるからガ
スの種類と流量範囲に関係する極く少数の検定曲線の作
成によって所望の混合校正ガスを容易に得ることができ
る。
第１図は本発明の工程を示す概略図である。
Claims (1)
- １ 少なくとも２種類のガスから低濃度の混合校正ガス
を製造するに当り、少なくとも１種類の数百ｐｐｍ程度
以下の濃度既知の校正ガスを被稀釈ガスとしてこれを定
量流量計を通して一定量ずつ流す工程と、実質的に１０
０％濃度の稀釈ガスを可変流量計を通して所望濃度に応
じた稀釈量ずつ流す工程と、前記ガス流を混合後供給す
る工程を包含してなる、被稀釈ガス流量を定量的に流し
、稀釈ガス流量を制御することにより、数十ｐｐｍ程度
以下の低濃度校正ガスを連続的に供給することを特徴と
する低濃度混合校正ガスの調製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2826674A JPS587931B2 (ja) | 1974-03-11 | 1974-03-11 | コンゴウコウセイガス ノ チヨウセイホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2826674A JPS587931B2 (ja) | 1974-03-11 | 1974-03-11 | コンゴウコウセイガス ノ チヨウセイホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50122989A JPS50122989A (ja) | 1975-09-26 |
| JPS587931B2 true JPS587931B2 (ja) | 1983-02-14 |
Family
ID=12243759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2826674A Expired JPS587931B2 (ja) | 1974-03-11 | 1974-03-11 | コンゴウコウセイガス ノ チヨウセイホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587931B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6232229U (ja) * | 1985-08-11 | 1987-02-26 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0955185A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Furontetsuku:Kk | 校正ガス系統を備えたマスフィルター型ガス分析計及びその操作方法 |
-
1974
- 1974-03-11 JP JP2826674A patent/JPS587931B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6232229U (ja) * | 1985-08-11 | 1987-02-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50122989A (ja) | 1975-09-26 |
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