JPS5881427A - 廃ガスの処理方法 - Google Patents
廃ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPS5881427A JPS5881427A JP56178359A JP17835981A JPS5881427A JP S5881427 A JPS5881427 A JP S5881427A JP 56178359 A JP56178359 A JP 56178359A JP 17835981 A JP17835981 A JP 17835981A JP S5881427 A JPS5881427 A JP S5881427A
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- JP
- Japan
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- waste gas
- gas
- styrene
- temperature
- reactor
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- Incineration Of Waste (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、化！工場、塗料工場、印刷工場などから出る
廃ガスの処理方法に関し、さらに詳しく言えば、これら
の工場において、原料あるいは洗浄用溶剤として広く使
用されている揮発性炭化水１１１（特にベンゼン、トル
エン、キシレンなど）を低温で効率的に燃焼除去する廃
ガスの処理方法に関する。
廃ガスの処理方法に関し、さらに詳しく言えば、これら
の工場において、原料あるいは洗浄用溶剤として広く使
用されている揮発性炭化水１１１（特にベンゼン、トル
エン、キシレンなど）を低温で効率的に燃焼除去する廃
ガスの処理方法に関する。
これらの炭化水素類は揮発しやすいため、反応時に反応
器から、あるいは洗浄時に容器から、あるいは貯蔵時又
は受液時にタンクからガスの状態で°大気中に放出され
やすい。そのためガス化して大気中に放出されたものは
有害ガスとじて環境を悪化させ、その臭％Ａはしばしば
住民の苦情を革起する原因となっで−た。
器から、あるいは洗浄時に容器から、あるいは貯蔵時又
は受液時にタンクからガスの状態で°大気中に放出され
やすい。そのためガス化して大気中に放出されたものは
有害ガスとじて環境を悪化させ、その臭％Ａはしばしば
住民の苦情を革起する原因となっで−た。
この問題の対策として、これまで、これらの有害ガスを
含む廃ガスを触媒の存在下に接触酸化したのち大気中に
放出することが、試みら与ているが、その中で、特にす
ぐれた方法して、担体に担持された白金系触媒を用いて
行う接触酸化処理方法が知られている。しかしこの技術
は、処理温度ｐＺ約２５０℃以上という比較的高い温度
でなければ、上記有害ガスを完全に酸化できないという
難点があった。
含む廃ガスを触媒の存在下に接触酸化したのち大気中に
放出することが、試みら与ているが、その中で、特にす
ぐれた方法して、担体に担持された白金系触媒を用いて
行う接触酸化処理方法が知られている。しかしこの技術
は、処理温度ｐＺ約２５０℃以上という比較的高い温度
でなければ、上記有害ガスを完全に酸化できないという
難点があった。
すなわち、・上記廃ガスを担体Ｋａ！持され九白金系触
媒を使用して完全−酸化処理するためには、その廃ガス
の、触媒層入口における温度を常時２５０℃以上となる
ように昇温する必要があり、そのため大容量の電力によ
る加熱、５０ＫＦ／−スチームのような高圧スチームに
よる加熱、直接燃焼による加熱、熱媒に、よる加熱など
の方法を適用する必要があシ、装置的に＠雑となシ所要
熱エネルギーが大となる点で経済的とは言えなかった。
媒を使用して完全−酸化処理するためには、その廃ガス
の、触媒層入口における温度を常時２５０℃以上となる
ように昇温する必要があり、そのため大容量の電力によ
る加熱、５０ＫＦ／−スチームのような高圧スチームに
よる加熱、直接燃焼による加熱、熱媒に、よる加熱など
の方法を適用する必要があシ、装置的に＠雑となシ所要
熱エネルギーが大となる点で経済的とは言えなかった。
またとの昇温を行う方法として、反応器入口ガスを反応
器出口ガスと熱交換させて予熱する方法があり（％開昭
５０−４８７６号）、この方法においては、被処理ガス
中の可燃性物質の濃度が低いとき、反応器出口ガスの熱
量では、反応器入口ガスを触媒活性温度まで昇温させる
ことかできないので、反応器中Ｋ例えばケロシンの如き
適当な可燃性物質を補って、反応器出口ガスの熱量を高
め、これＫよって反応器入口ガスを触媒活性温度に１で
１昇湿させる手段が採用されてい条。しかし、この場合
も触媒活性温度は変わらず高温レベルに維持される必要
があシ、上述した如く、経済性の面 。
器出口ガスと熱交換させて予熱する方法があり（％開昭
５０−４８７６号）、この方法においては、被処理ガス
中の可燃性物質の濃度が低いとき、反応器出口ガスの熱
量では、反応器入口ガスを触媒活性温度まで昇温させる
ことかできないので、反応器中Ｋ例えばケロシンの如き
適当な可燃性物質を補って、反応器出口ガスの熱量を高
め、これＫよって反応器入口ガスを触媒活性温度に１で
１昇湿させる手段が採用されてい条。しかし、この場合
も触媒活性温度は変わらず高温レベルに維持される必要
があシ、上述した如く、経済性の面 。
からみて満足できるものとけいえながった。
本発明者らは、こうした従来の廃ガスの処理方法の欠点
ないしは難点を克服し、触媒層入口温度を従来の触媒活
性温度よりもできるだけ低くし、かつ可燃性物質濃度が
低くても廃ガスを完全に酸化処理できる方法を開発する
ため検討を重ねた結果、反応器入口ガス中にスチレンを
存在させると、触媒層入口温度が、２５０℃よシ大幅に
低い１８０℃であっても廃ガスを完全に接触酸化処理で
きるという事実を見出し、さら忙スチレンの含量につい
ての検討を行って、その好適な範囲を見出した。
ないしは難点を克服し、触媒層入口温度を従来の触媒活
性温度よりもできるだけ低くし、かつ可燃性物質濃度が
低くても廃ガスを完全に酸化処理できる方法を開発する
ため検討を重ねた結果、反応器入口ガス中にスチレンを
存在させると、触媒層入口温度が、２５０℃よシ大幅に
低い１８０℃であっても廃ガスを完全に接触酸化処理で
きるという事実を見出し、さら忙スチレンの含量につい
ての検討を行って、その好適な範囲を見出した。
本発明はこの知見に基づいてなされるに至ったものであ
る。
る。
すなわち本発明は、完全燃焼温度が２５０℃以上である
揮発性炭化水素を含む廃ガスを、白金系触媒によって接
触酸化処理するに当り、その廃ガスにスチレンを含有さ
せて行うことを特徴とする廃ガスの処理方法を提供する
ものである◇本発明において処理される廃ガスは、白金
系触媒存在下におけるそれ自身の完全燃焼温度が２５０
℃以上である揮発性炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの有害ガスを含有するものである。こ
の廃ガス中に１所定量のスチレンを含有させておくこと
によシ、前記完全燃焼温度（酸化処理するに必要な触媒
層入口ガス温度）を１８０℃まで下げることができる。
揮発性炭化水素を含む廃ガスを、白金系触媒によって接
触酸化処理するに当り、その廃ガスにスチレンを含有さ
せて行うことを特徴とする廃ガスの処理方法を提供する
ものである◇本発明において処理される廃ガスは、白金
系触媒存在下におけるそれ自身の完全燃焼温度が２５０
℃以上である揮発性炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの有害ガスを含有するものである。こ
の廃ガス中に１所定量のスチレンを含有させておくこと
によシ、前記完全燃焼温度（酸化処理するに必要な触媒
層入口ガス温度）を１８０℃まで下げることができる。
な訃、添加するスチレンはスチレン単独でも、スチレン
含有ガスとして添加してもよい０ この場合、発明者らの詳細な検討によれば、上記廃ガス
を完全に酸化処理する忙必要な触媒層入口ガス温度Ｔｉ
（Ｃ）は２５０℃以上であるが、スチレンの添加によっ
てＴｉは低下し、スチレン濃度（４（ｖｏｔｐｐｍ）と
次式 の関係を保っていれば、Ｔ１が２５０℃よ）低くても１
８０℃以上の範囲÷あれば、その廃ガスを完全に接触酸
化処理゛することができる。
含有ガスとして添加してもよい０ この場合、発明者らの詳細な検討によれば、上記廃ガス
を完全に酸化処理する忙必要な触媒層入口ガス温度Ｔｉ
（Ｃ）は２５０℃以上であるが、スチレンの添加によっ
てＴｉは低下し、スチレン濃度（４（ｖｏｔｐｐｍ）と
次式 の関係を保っていれば、Ｔ１が２５０℃よ）低くても１
８０℃以上の範囲÷あれば、その廃ガスを完全に接触酸
化処理゛することができる。
このように本発明方法は、被処理ガス流の温度が低すぎ
て触媒活性温度にまで達しないとき、そのガス流の温度
を上昇させるために可燃性物質を添加するような前述の
従来技術とは性質が異なり、被処理ガス流に特定の可燃
性物質を添加することにより、そのガス流の完全燃焼に
必要な触媒層入口温度を逆に低下させるものである。
て触媒活性温度にまで達しないとき、そのガス流の温度
を上昇させるために可燃性物質を添加するような前述の
従来技術とは性質が異なり、被処理ガス流に特定の可燃
性物質を添加することにより、そのガス流の完全燃焼に
必要な触媒層入口温度を逆に低下させるものである。
本発明において触媒としては、粒状あるいはハニカム状
などの形状で、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、
ゼオライトなどからなる多孔質担体に担持された白金系
触媒が好適援用いられる。
などの形状で、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、
ゼオライトなどからなる多孔質担体に担持された白金系
触媒が好適援用いられる。
本発明忙おける処理ガス量は、装置の大きさ、触媒量な
どＫよりて異なるが、触媒層入口基準の空間速度（ＳＶ
）で表わして、通常５０００〜５００００”／ 好
１ Ｌ Ｃｕ ｔｏｏｏｂ 〜ａｏｏｏｏ １／Ｈ，ノ
ｉ［８ｒｈ である。
どＫよりて異なるが、触媒層入口基準の空間速度（ＳＶ
）で表わして、通常５０００〜５００００”／ 好
１ Ｌ Ｃｕ ｔｏｏｏｂ 〜ａｏｏｏｏ １／Ｈ，ノ
ｉ［８ｒｈ である。
以下図面、を参照しながら本発明をさらに詳細に説明す
る。
る。
図面は本発明の廃ガスの処理方法の１実施態様を示すフ
ローシートである。揮発性炭化水素、例エバベンゼン、
トルエン、キシレンなどを含ム廃ガスは、爆発範囲を避
けるためもしくは触媒層温度を触媒の許容温度内に抑え
るために、必要に応じオさらに空気な・どが混入された
のち、管１より主管３にプロワ−４にて吸引導入され、
このとき、同時にスチレン又はスチレンを含むガスが管
２より主管３に吸引導入される。主管３の、スチレンを
混合された混合ガスはプロワｗ４によって熱交換器５に
導入され、ここで反応器７からの出口ガス流と熱交換に
付され、次いで予熱器６で１８０℃以上で２５０℃より
低い温度にまで加熱されたのち、白金系触媒層を有する
反応器７に導入され酸化処理に付される。なお、ここで
、熱交換器５の使用は、熱経済上の理由によるものであ
り本発明の実施に必要不可欠のことではない。
ローシートである。揮発性炭化水素、例エバベンゼン、
トルエン、キシレンなどを含ム廃ガスは、爆発範囲を避
けるためもしくは触媒層温度を触媒の許容温度内に抑え
るために、必要に応じオさらに空気な・どが混入された
のち、管１より主管３にプロワ−４にて吸引導入され、
このとき、同時にスチレン又はスチレンを含むガスが管
２より主管３に吸引導入される。主管３の、スチレンを
混合された混合ガスはプロワｗ４によって熱交換器５に
導入され、ここで反応器７からの出口ガス流と熱交換に
付され、次いで予熱器６で１８０℃以上で２５０℃より
低い温度にまで加熱されたのち、白金系触媒層を有する
反応器７に導入され酸化処理に付される。なお、ここで
、熱交換器５の使用は、熱経済上の理由によるものであ
り本発明の実施に必要不可欠のことではない。
主管３における混合ガスの１例としてスチレン２００〜
５００ ｐｐＩＢ、ベンゼン、トルエン、キシレンは合
計で１〜１０００ ｐｐｍの濃度のものがあげられるが
、酸化処理に伴う反応器内の温度上昇が触媒の耐熱温度
を超えない限り、上記湊度以上含まれていてもよい◇残
部は不活性ガスで、もかまわない。なお、酸素は混合ガ
ス中の可燃成分を完全燃焼させる′だけの量は必要であ
り、通常１５ ｖｏＬチ以上含まれるのが好ましい。
５００ ｐｐＩＢ、ベンゼン、トルエン、キシレンは合
計で１〜１０００ ｐｐｍの濃度のものがあげられるが
、酸化処理に伴う反応器内の温度上昇が触媒の耐熱温度
を超えない限り、上記湊度以上含まれていてもよい◇残
部は不活性ガスで、もかまわない。なお、酸素は混合ガ
ス中の可燃成分を完全燃焼させる′だけの量は必要であ
り、通常１５ ｖｏＬチ以上含まれるのが好ましい。
本発明において、反応器７の入口温度＃′１１８０℃以
上２５０℃を越えない温度であれば十分である。反応器
入口温度が１８０℃未満では混合ガス中のスチレンも酸
化されず、したがって処理しようとする廃ガス中のベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの有害ガスは全く酸化さ
れず、本発明の目的は達せられない。
上２５０℃を越えない温度であれば十分である。反応器
入口温度が１８０℃未満では混合ガス中のスチレンも酸
化されず、したがって処理しようとする廃ガス中のベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの有害ガスは全く酸化さ
れず、本発明の目的は達せられない。
反応器７からの出９ガス流は入口ガス流以上の温度を有
しているので熱交換器５に送られ、プロワ−４によって
吸引される被処理混合ガスの加熱に用いられ、必要なら
さらに熱回収：を行った上、管８から、無害化、無臭化
されたガスとして大気中に放出される。
しているので熱交換器５に送られ、プロワ−４によって
吸引される被処理混合ガスの加熱に用いられ、必要なら
さらに熱回収：を行った上、管８から、無害化、無臭化
されたガスとして大気中に放出される。
本発明において、予熱器６には通常、１０〜３５〜−の
圧力のスチームを用いるのが操作上便利であるが、電気
加熱、直接燃焼加熱、熱媒加熱などのいずれの方法を用
いてもよい。
圧力のスチームを用いるのが操作上便利であるが、電気
加熱、直接燃焼加熱、熱媒加熱などのいずれの方法を用
いてもよい。
上述のように、本発明によれば、白金系触媒を用いて、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの揮発性炭化水素を
含む廃ガスを酸化処理するに際し、スチレン又はスチレ
ンを含むガスを混合してから、この混合ガスを酸化処理
することにより、その廃ガス単独で処理する場合よりも
かな夛低い触媒層入口温度で廃ガスを完全に酸化処理す
ることができる。また、有害ガス濃度が比較的低濃度の
ときでも効率よく酸化処理することができる。したがっ
てこの発明の方法は、化学工場、塗料工場、印刷工場な
どから出る廃ガスの浄化処理方法として好適である。
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの揮発性炭化水素を
含む廃ガスを酸化処理するに際し、スチレン又はスチレ
ンを含むガスを混合してから、この混合ガスを酸化処理
することにより、その廃ガス単独で処理する場合よりも
かな夛低い触媒層入口温度で廃ガスを完全に酸化処理す
ることができる。また、有害ガス濃度が比較的低濃度の
ときでも効率よく酸化処理することができる。したがっ
てこの発明の方法は、化学工場、塗料工場、印刷工場な
どから出る廃ガスの浄化処理方法として好適である。
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例１〜４
実質的に図面に示すと同様のフローシートに従い第１表
に示す如き種々の濃度のベンゼン、トルエン、キシレン
を含む廃ガスを、スチレンを含むガスと混合して触媒層
入口温度１８０〜２３０℃で処理した。触媒としてはシ
リカ−アルミナの°球形担１体（直径３〜５ｍｍ）に１
００ｇ当Ｄ０．２〜０．３、の白金を担持したものを用
いた。これを約１ｍｓの触媒層におさめ空間速度（標準
状態基準）は約１５０００１／Ｈｒとし触媒層入口の種
々のスチレン濃度と温度について接触酸化処理を行い出
口ガス中のスチレン、ベンゼン、トルエン、キシレンの
濃度を測定した。その結果を第１表に示した。
に示す如き種々の濃度のベンゼン、トルエン、キシレン
を含む廃ガスを、スチレンを含むガスと混合して触媒層
入口温度１８０〜２３０℃で処理した。触媒としてはシ
リカ−アルミナの°球形担１体（直径３〜５ｍｍ）に１
００ｇ当Ｄ０．２〜０．３、の白金を担持したものを用
いた。これを約１ｍｓの触媒層におさめ空間速度（標準
状態基準）は約１５０００１／Ｈｒとし触媒層入口の種
々のスチレン濃度と温度について接触酸化処理を行い出
口ガス中のスチレン、ベンゼン、トルエン、キシレンの
濃度を測定した。その結果を第１表に示した。
比較例１〜２
触媒層入口のスチレン濃度を前述の（Ｉ）式で規定され
る濃度の下限未満とした以外は実施例と同じ条件でベン
ゼン、トルエン、キシレンを含む廃ガスを処理した。触
媒層入口温度が１８０℃と２３０のときの結果の一部を
第２表に示す。
る濃度の下限未満とした以外は実施例と同じ条件でベン
ゼン、トルエン、キシレンを含む廃ガスを処理した。触
媒層入口温度が１８０℃と２３０のときの結果の一部を
第２表に示す。
比較例３
触媒層入口温度を１７５℃とした以外は実施例１と同じ
条件でベンゼン、・トルエン、キシレンを含む廃ガスを
処理した◇結果を比較例１〜２と同じく第２表に示す。
条件でベンゼン、・トルエン、キシレンを含む廃ガスを
処理した◇結果を比較例１〜２と同じく第２表に示す。
図面は本発明の１実施態様を示すフローシートである。
手続補正書（自発）
昭和ｓ７年１月ユタ日
許庁長富 島田春樹殿
事件の表示
昭和１６年 畳許願第１７８８８９号発明０４称
馬ガス０Ｊａｆｆｉ方箇補正をする者 事件との関係 善許出願人 住 所 東京都千代田区霞が圓三丁Ｂ２番Ｓ令罠′ｔｌ
Ｘ（多動（８１ｆｉ） Ｅ井東圧化学株式会社補正によ
り増加する発明の数 Ｏ
馬ガス０Ｊａｆｆｉ方箇補正をする者 事件との関係 善許出願人 住 所 東京都千代田区霞が圓三丁Ｂ２番Ｓ令罠′ｔｌ
Ｘ（多動（８１ｆｉ） Ｅ井東圧化学株式会社補正によ
り増加する発明の数 Ｏ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 完全燃焼温度が２５０℃以上である揮発性炭
化水素を含む廃ガスを、白金系触媒によって接触酸化処
理するに当り、その廃ガス中にスチレン倉含有させて行
うことを特徴とする廃ガスの処理方法。 （２） 揮発性炭化水素が、ベンゼン、トルエン及び
キシレンからなる群から選ばれた少なくとも１種である
特許請求の範囲第１項記載の廃ガスの処理方法。 （８）接触酸化処理を行う触媒層入口の廃ガス温度Ｔｉ
（’Ｃ）が１８０℃以上２５０℃未満であシ、かつ触
媒層入口の廃ガス中のスチレン濃゛度Ｃｉ（ｖｏｔｐｐ
ｍ）を式 で規定される湊度以上とした特許請求の範囲第１項又は
第２項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56178359A JPS5881427A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | 廃ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56178359A JPS5881427A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | 廃ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5881427A true JPS5881427A (ja) | 1983-05-16 |
| JPS637087B2 JPS637087B2 (ja) | 1988-02-15 |
Family
ID=16047105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56178359A Granted JPS5881427A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | 廃ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5881427A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105107503A (zh) * | 2015-09-01 | 2015-12-02 | 黎明化工研究设计院有限责任公司 | 一种用于含胺类废气燃烧处理的负载型催化剂 |
| CN106606917A (zh) * | 2015-10-22 | 2017-05-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 甲苯氧化尾气治理的方法和装置 |
-
1981
- 1981-11-09 JP JP56178359A patent/JPS5881427A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105107503A (zh) * | 2015-09-01 | 2015-12-02 | 黎明化工研究设计院有限责任公司 | 一种用于含胺类废气燃烧处理的负载型催化剂 |
| CN106606917A (zh) * | 2015-10-22 | 2017-05-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 甲苯氧化尾气治理的方法和装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS637087B2 (ja) | 1988-02-15 |
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