JPS5891616A - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents

固体電解コンデンサの製造方法

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JPS5891616A
JPS5891616A JP18998181A JP18998181A JPS5891616A JP S5891616 A JPS5891616 A JP S5891616A JP 18998181 A JP18998181 A JP 18998181A JP 18998181 A JP18998181 A JP 18998181A JP S5891616 A JPS5891616 A JP S5891616A
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JP
Japan
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water
manganese
semiconductor layer
metal
thermal decomposition
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Pending
Application number
JP18998181A
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English (en)
Inventor
半田 喜代二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Marcon Electronics Co Ltd
Original Assignee
Marcon Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本Jil@は半導体層の形成方決を改良した一体電解コ
ンデンナの製造方法に関する。
従*履体電解コンゾンデの対向電−である半導体層のf
#成方決社陽−酸化で騎亀体酸化皮験を形成した一一禦
子をiimマンガン水溶筐中に浸液しこれを引上けて高
温で鋺成することによシ愉鹸!ンIンを二酸化!ンガン
に熱分解し半導体層を形成していた。この場合二酸化!
ンガンが一電体酸化皮膜の表面に均一に密着し難いため
陽−酸化後に電解液中で測定した静電容量よ)も製品の
静電容量が小さく’&)その減少分だけ@&lE子材料
を多く使用することにな夛しかもそのパツツ午が大暑(
亀るため静電容量許容差のきびしい製品の製造歩留が悪
い欠点があったりまた外装がl111被覆の場会該外装
から微小水分がfI&透しこれが一部二酸化マンガンに
被iI!されてい亀い―電体酸化皮膜に付−すると水分
が電鋳*として伽〈ため静電容量か増加し高鰹雰履気て
紘静電箒量が経時的に増大する欠点があった・ 本轟@社上記のよう亀夷曽に−みて1にされたもので半
導体層の形成ニーにおいて鍮*マンガン水fII箇に一
分鋳夏応を促進させる効果があり、かっmalマンガン
水fII筐に回部な物質を添加し駒成することによって
−m特性の改善、静電容量のバッフ中減少による歩留の
向上およびm−鹸化電圧低減によるコス)引下げなどを
社かルうる絢体電解;ンデンナのll111方法を提供
せんとするものである・ 以下本発明の一実施例について説明する・すなわちタン
タル、チタン、アルセlL?^、ジルコン。
晶オプ亀どの陽&酸化皮膜形成性金属の粉末を加圧成形
し真麿中で脱輪したah嵩子を陽am化すゐことによっ
て表面に誘電体酸化皮膜を形成し、ついて−配陽m*子
に硝酸マンガン水溶液を奮浸しこれを引上けて高温で焼
成することによって鍮酸マンIンを熱分解し一紀跡電体
鹸化皮−の表−に二酸化マンガンから取る半導体層を形
成し、その上層にダラ7アイ)層および部属導電層を順
次一層してなる画体電解コンデン賃の製造方法において
、*Efillltliマンガン水lI液に熱分解分路
を促進させる効果がToル、かつth1鹸マンlン水嬉
筐に1iiJj11に物質を添加した水溶液を陽憾禦子
に含浸し焼成によタニ酸化!ンガンからなる牛#Ii体
層を形成するものである・−rawン方ン水smに籐加
する熱分l1IIL応を促進させる効果があ多、かっ−
酸ギ酸アy毫ニウムなどのアンモニラ^壌、ホルムアル
デk)″、アセ)アルデヒド、ジメチルヶシン’& l
! fJ lhe gニル化合物、ホルムアミド、モノ
メチル傘ルムアミド、ジメチルホル^アミドなどの □
アミr化舎物、r−ブチWラタトンなどのラタシンーの
うちの1mlあるい社互いに化学反応を行わ1にいもの
であれぜ2穏以上を組合せて添加する・ま*―配−1物
を添加する菖配鍮瞭!ンIン水瀉筐の蟲度社S〜30襲
が最過である。−毅!ンガン水1lll筐の濃度と二酸
化マンガンの彼−率との真偽を菖l−に示す。1s1−
において−線(転)は添加物としてmtaアンモエウ^
JS富量憾を添加し一鹸マンガン水**のmJlを変え
た場合、−1但)は添纏物亀しで単に#aIIm!マン
ガに水*液の濃度を変ええ場合のそれぞれにおける二酸
化マンガンの被置率を水すものである・これによれば添
加物によって二酸化マンガンの被鑑率が大きくなる一―
マンIン水濤筐O濃を紘S〜30弧の職層であることが
わかる。
本発@紘固体電解コンデンナの誘電体酸化皮膜に対する
二酸化マンガンの被置串(外装後の―晶静電容量/陽1
1NII化後の電解液中ii*静電容量(2))がiI
霞マンガン水lI筐の熱分解速度に関連しこの速度がは
中vh龜と皺櫃率が大きくなることに−Hし被置皐を大
暑(するようにしえものである・焼成による硝酸マンガ
ンの熱分解の際の雰囲気温度を高くすれd熱分解速度が
大吉<6j1被曹皐−大暑(亀るがこの揚台温度が高く
亀るはど―電体―化皮膜の劣化がいちぢるしく’an漏
れ電流の増大。
信頼性の低下亀どの愚影Il/Iが伴う。そこでm鎗マ
ンガy*濤筐に熱分解速度を促進路せる一配の物質を添
加すると上記のよう亀愚影暑を伴わず二毅化マyガンO
被櫃率を大きくすることが゛て龜ることがわかった。こ
の二酸化マフ1ンのmat串を大きくすることによって
■外装がwk擬櫃の場合敵手水分の浸透があっても静電
容量の経時変化が少ない 0二鹸化マンlンの皺櫨率が
一定であるため−ツシ内の静電容量バッフ中が小さく静
電容量許容差のきびしい場合も歩留がよい ■闘じ陽−
酸化電圧であっても製品静電容量が大きくなるので一極
嵩子材料が多電〈亀〕コスシ引下ぜを社か・る、ことが
てきる ■熱分解雰囲気温度を低くすることができるの
で陽&酸化皮膜の劣化が少なくなゐ歇どの利点がある。
つぎに本発明の実j11何と従来の参考例との特性比較
を蕃士棄妃示す・試料はいずれもつ「のような無量方法
によるものである。
す亀わち1gのタンタル粉末に夕ン夕Jhv−ド一を麿
込んで円柱賦に加圧成形し1600’l)#)温”度で
真空議細し、ついで0.1憾リン酸液中で80V、DC
の電圧で3時一定電圧一―鹸化を行い個々の一一電子O
II亀審量を10襲ツン鹸濠申で測定した・ついで−一
マンガン水嬉筐に添加物を鰯加した水S*ち■配陽伽嵩
子じ書讃しこれを引上けて200℃の温度で一蹴した。
この@Ji1m鹸化、含讃、*戚の機作をmr77i1
−ル返したのち6o弧鍮鹸!ンガン単独水iI波を用い
6−食淡、腕戚を−9返し二酸化マンIンかもなる半導
体層を形成しその上層にダラ7アイ)■および銀ベース
Fから亀る愈^導電層を順次一層しエポキシ*mで外装
したwl格□ zov、Dc−1oo10nンタル固体
電解コンデンナで第1表に示す条件で製造したものであ
る・C以下金白) り 菖1表の条件で無量した試料各20個の特性沈着を第諺
表に示す。
上記実施例lと参考@6の試料をm度40℃、i1度9
0−1811111の恒温恒温−にIIL置した場合の
一渥寿会試馳にお轄る静電容量変化率を第2w4に示す
@ 11m11&イテ1alal(in実m# 1 、
曲ail(6)は参考−60それぞれ重置時間に対応す
る静電春量変化率tIIJIII値に対する変化率)を
示すものである。篇3表および第f!−から明らか亀よ
うに実論鉤1〜4社参考鉤5.6と比較して二酸化マン
゛ガンの**率が大亀<mig+特性がよく静電容量の
ペラツキ訃よび変化率が小さく損失、―れ電流も小壜〈
費電した特性を示す仁とがわかる・以上評述したように
本発−によれば―電体鹸化皮膜を廖戚した陽−電子に温
度5〜30襲のiIm酸!ンガン水溶波に熱分解反応を
促進させる効果があ)、かつ−酸!ンガン水**に1J
I11′&物質、たとえばアンモ凰つム塩、カルボニル
化合物、アセト化合物i大はツタ)ン顯のうちの1種ま
た#i意−以上をS加した水溶液を食浸し焼成により熱
分解して二酸化マンIンかもなる半導体層を被覆しつい
でその上層にダラ7アイシ層および金属導電層を欺次穢
jilt形成したことによって耐海特性がよく静電容量
のパラフキおよび変化率が小さく歩留が向上し損失、1
IilIIれ電tIL′tL、l!″も小さく安定した
電気約特性を示しコスシ引下けなと実用性の火攻る馬体
電解コンデン賃の製最方法を提供する仁とができる・
【図面の簡単な説明】
第1閣は一酸マンガン水#液の誦度と二酸化マンIンの
被覆皐との関係を示す特性−!I−1第8図#i耐渥寿
命試験における静電容量変化率を示す特性−線図である
。 特許出願人 !ルコン電子株式金社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 El)ill櫨酸化IIl展形成性盆馬の粉末を威滲、
    驚結した陽惚嵩子に―電体鹸化皮験を1#威したのち濃
    度5〜sO憾の一酸マンガン水S値に熱分解反応を促進
    させる効果があり、かつ腋@@vンIン水a*にIII
    なアンモエラ^塩、カルボニル化金物、アミド化金物ま
    た紘うク)ンhのうちのlllオえaX聰以上を添加し
    た水溶液を含浸し脱酸によes分鋳して二酸化!ンIン
    かも取る半導体層を装置し、ついでその上層にダツファ
    イF層および金属導電層を麺次穢層形成したことを特徴
    とする尉体亀s1:Iンデンtの製造方法・ (2)アンモ墨つム壊がms!γンモエウム、炭酸アン
    モニウム iimアン毫慕ウムつ塩化アンモニウ^、ギ
    鹸アン4JLw)ム、カルボニル化合物がホルムTルデ
    にド、ア−k)アルデヒド、ジメチルケシン、アセト化
    合物が本ルムアセド、モノメナルホルムytド、ジメチ
    ルホルムアミド、ラタ)ン験がt−プチロラタシンであ
    ることを特徴とする特許請求のflIAs第a)項記載
    の画体電鋳ツンデンtOm造方決。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54108262A (en) * 1978-02-15 1979-08-24 Tokyo Shibaura Electric Co Method of producing solid electrolytic capacitor
JPS5656169A (en) * 1979-08-31 1981-05-18 Bbc Brown Boveri & Cie Method of extinguishing thyristor and semiconductor device executed with same method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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