JPS5892499A - スケ−ル除去剤 - Google Patents
スケ−ル除去剤Info
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- JPS5892499A JPS5892499A JP19151581A JP19151581A JPS5892499A JP S5892499 A JPS5892499 A JP S5892499A JP 19151581 A JP19151581 A JP 19151581A JP 19151581 A JP19151581 A JP 19151581A JP S5892499 A JPS5892499 A JP S5892499A
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- Japan
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- scale
- acid
- surfactant
- descaling agent
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスケール除去剤5二関fる。
谷種給配水系統とりわり熱交換系統例えばボイラー、熱
交侠器、冷却塔系統では、水の濃縮、金属表面の腐蝕、
水中の無機物等があいまって配管内に生成するスケール
が、伝熱効果、Ml効果の著しい阻害簀因となるため、
スケールの除去作業は欠かせない■要な仕事の一つとな
っている。スケールのうち、鉄−酸化物を多く含む妖禾
スケール、カルシウム系スケール、ケイ酸系(シリカ系
ともいう)スケールが一般的C−問題帆されている。従
来スケール除去のため、塩酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、
クエン酸等の有機酸による酸洗浄が広く行なわれている
が、ケイ酸分c810□)を多く含有するスケールの除
去には効果が充分でない。L、かし、それでも他に有効
な方法がないため、このようなシリカ系スケールの処理
には、長時間を1!lTる上C′−操作の厄介な方法、
Tなわち、カセイソーダと塩はとを父互に何回も繰り返
えし行なう方法が行なわれていた。最近酸性弗素化合物
な有機酸とか過酸化水素と併用してシリカスケールを除
去しようとする提案もなされてはいるが(特公昭55−
33679号、特開昭55−109498号)、毒性、
作業女全性、素地金属に対する腐蝕性、廃液処理等幾多
の難点を有する。そのほか、v9力系スケールの除去方
法としてはこれといった妙案のないのが現状で、新しい
方法の開発が強く望まれている。
交侠器、冷却塔系統では、水の濃縮、金属表面の腐蝕、
水中の無機物等があいまって配管内に生成するスケール
が、伝熱効果、Ml効果の著しい阻害簀因となるため、
スケールの除去作業は欠かせない■要な仕事の一つとな
っている。スケールのうち、鉄−酸化物を多く含む妖禾
スケール、カルシウム系スケール、ケイ酸系(シリカ系
ともいう)スケールが一般的C−問題帆されている。従
来スケール除去のため、塩酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、
クエン酸等の有機酸による酸洗浄が広く行なわれている
が、ケイ酸分c810□)を多く含有するスケールの除
去には効果が充分でない。L、かし、それでも他に有効
な方法がないため、このようなシリカ系スケールの処理
には、長時間を1!lTる上C′−操作の厄介な方法、
Tなわち、カセイソーダと塩はとを父互に何回も繰り返
えし行なう方法が行なわれていた。最近酸性弗素化合物
な有機酸とか過酸化水素と併用してシリカスケールを除
去しようとする提案もなされてはいるが(特公昭55−
33679号、特開昭55−109498号)、毒性、
作業女全性、素地金属に対する腐蝕性、廃液処理等幾多
の難点を有する。そのほか、v9力系スケールの除去方
法としてはこれといった妙案のないのが現状で、新しい
方法の開発が強く望まれている。
本発明者等は意外C二も、α−ヒドロキシ酢酸、ポジカ
ルボン酸若しくはその塩及びアニオン若しくはノニオン
型界面活性剤の併用によりシリカ系スケールを効果的に
除去できることを知つた。本発明は、この新しい知見C
二基づくものである。
ルボン酸若しくはその塩及びアニオン若しくはノニオン
型界面活性剤の併用によりシリカ系スケールを効果的に
除去できることを知つた。本発明は、この新しい知見C
二基づくものである。
α−ヒドロキシ酢酸はグリコールばとも称される。この
ものは、とくに蟻酸またはクエン酸と併用して鉄系スケ
ールの除去のために使用されている、■、かり、なから
、このような処方では、シリカ系スケールを除去するこ
とはできない。
ものは、とくに蟻酸またはクエン酸と併用して鉄系スケ
ールの除去のために使用されている、■、かり、なから
、このような処方では、シリカ系スケールを除去するこ
とはできない。
(例えは日本化系(株)製カヤクリルレジンH−32(
商品名))、ポリアクリル酸ソーダ(例えは日本化系(
株)製カヤクリルレジンH−35N(商品名)、松本油
脂製薬(株)!11マーポーゾールRA −40(商品
名))、ポリアクリル酸アンモニウム(例えは松本油脂
製薬(株)マーボゾールRA −40ム(商品名))等
の有機醒ポリマー;例えはエチレンジアミンテトラアセ
ティツクアシッド(EDTム)、ニトリロトリアセティ
ツクアシッド(NTム)等のアミノポリカルボン瞭;例
えは式 %式%) で表わされる化合物(チバ・ガイギー社、ベルクレン5
00(商品名))、2−ホスホノ−1゜2.4−)リカ
ルボキシブタン(バイエル社。
商品名))、ポリアクリル酸ソーダ(例えは日本化系(
株)製カヤクリルレジンH−35N(商品名)、松本油
脂製薬(株)!11マーポーゾールRA −40(商品
名))、ポリアクリル酸アンモニウム(例えは松本油脂
製薬(株)マーボゾールRA −40ム(商品名))等
の有機醒ポリマー;例えはエチレンジアミンテトラアセ
ティツクアシッド(EDTム)、ニトリロトリアセティ
ツクアシッド(NTム)等のアミノポリカルボン瞭;例
えは式 %式%) で表わされる化合物(チバ・ガイギー社、ベルクレン5
00(商品名))、2−ホスホノ−1゜2.4−)リカ
ルボキシブタン(バイエル社。
PBB −AM (商品名))等のホスフィノ−若しく
はホスホノ−ポリカルボン酸等を示すことができる。
はホスホノ−ポリカルボン酸等を示すことができる。
本発明で使用するアニオン型界面活性剤は、スルホン酸
塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等の親水基を有
する界面活性剤で、例えはアルキルサルフェート、アル
キルアリールスルホネート、ジアルキルスルホコへり酸
エステ′ル垣、アルキルアミドスルホネート、リシノー
ル咳エステルの硫酸塩、α−スルホ脂肪酸アルキルエス
テル塩、α−ホスホノ脂訪鈑エステル塩、ジアルキル燐
酸エステル塩等を挙げることができ小が、なかでもジア
ルキルスルホコハク酸エステル塩は特に有効である。−
万、ノニオン型界面活性剤としては通常のエーテル型、
エーテルエステル型、エステル型、含窒素型等の界面活
性剤を使用することができ例えはポリオキレエチレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシエチレン・ポリオキνプロピレ
ンプロツクボリマー、ホリオキシエチレン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレン−9,10−オクタデカンジオ
ール、ポリオキシエチレン−9,10−ジヒドロキシス
テアロニトリル、直鎖2級アルコールのエチレンオキサ
イド付加物等を示すことができる。
塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等の親水基を有
する界面活性剤で、例えはアルキルサルフェート、アル
キルアリールスルホネート、ジアルキルスルホコへり酸
エステ′ル垣、アルキルアミドスルホネート、リシノー
ル咳エステルの硫酸塩、α−スルホ脂肪酸アルキルエス
テル塩、α−ホスホノ脂訪鈑エステル塩、ジアルキル燐
酸エステル塩等を挙げることができ小が、なかでもジア
ルキルスルホコハク酸エステル塩は特に有効である。−
万、ノニオン型界面活性剤としては通常のエーテル型、
エーテルエステル型、エステル型、含窒素型等の界面活
性剤を使用することができ例えはポリオキレエチレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシエチレン・ポリオキνプロピレ
ンプロツクボリマー、ホリオキシエチレン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレン−9,10−オクタデカンジオ
ール、ポリオキシエチレン−9,10−ジヒドロキシス
テアロニトリル、直鎖2級アルコールのエチレンオキサ
イド付加物等を示すことができる。
本発明のスケール除去剤は、α−ヒドロキシ酢酸、ボ9
カルボン酸若しくはその塩及びアニオン看しくはノニオ
ン型界面活性剤を通常の方法により混合してなり水溶液
として提供されうる。その基本的な製剤処方例は、純度
100%換算で全量に対しα−ヒドロキシ酢酸を10〜
50%(凰童囁。以下同じ)、ポリカルボン酸若゛しく
はその塩を1〜20チ、上記界面活性剤を0.1〜2q
b1f!−含有する水溶液である。製剤化に際して、こ
の分野で通常使用されている腐蝕インヒビター及び場合
C″−よっては消泡剤その他スケール除去のために好ま
しくかつ本発明架剤の効果を著1.<そこなうことにな
らないその他の硲加剤は任意に配合することができるの
は勿論である。上記処方例はその実際使用時の濃度つま
り希釈度C:あわせて、使用C;都合のよい配合割合C
二適宜変吏Tることができることは勿論である。
カルボン酸若しくはその塩及びアニオン看しくはノニオ
ン型界面活性剤を通常の方法により混合してなり水溶液
として提供されうる。その基本的な製剤処方例は、純度
100%換算で全量に対しα−ヒドロキシ酢酸を10〜
50%(凰童囁。以下同じ)、ポリカルボン酸若゛しく
はその塩を1〜20チ、上記界面活性剤を0.1〜2q
b1f!−含有する水溶液である。製剤化に際して、こ
の分野で通常使用されている腐蝕インヒビター及び場合
C″−よっては消泡剤その他スケール除去のために好ま
しくかつ本発明架剤の効果を著1.<そこなうことにな
らないその他の硲加剤は任意に配合することができるの
は勿論である。上記処方例はその実際使用時の濃度つま
り希釈度C:あわせて、使用C;都合のよい配合割合C
二適宜変吏Tることができることは勿論である。
本発明業剤は、実際使用に際しては、処理Tべき系統が
保有する水量及びスケールの種類、程匿等を予備的に調
査[7た上で通常の方法に従って薬剤を添加丁ればよい
。
保有する水量及びスケールの種類、程匿等を予備的に調
査[7た上で通常の方法に従って薬剤を添加丁ればよい
。
本発明Cユよればカルシウム系スケール、鉄系スケール
は勿論、とりわけ従来困難視されていたシリカ系スケー
ルを効果的(−除去Tることができる。本発明のスケー
ル除去剤の作用機作編上の詳細は、今後の研究にまたね
ばならないが。
は勿論、とりわけ従来困難視されていたシリカ系スケー
ルを効果的(−除去Tることができる。本発明のスケー
ル除去剤の作用機作編上の詳細は、今後の研究にまたね
ばならないが。
スケール(−含まれる金属(カルシウム、マグネシウム
、鉄)にまず作用してその一部な醸解せ・しめ更に俗解
部分から薬剤が深部に浸透することによりスケール(−
亀裂を生じせしめ結呆として解し、はく離させるものと
考えられ、各成分のあいまりだ作用(二より溶解、解膠
、はく離が進行するものである。この意味から、溶解促
進剤、解膠若しくははく離を促進する薬剤若しくは手段
の追加は史C二本発明の実施の態様を有利なものとする
であろう。
、鉄)にまず作用してその一部な醸解せ・しめ更に俗解
部分から薬剤が深部に浸透することによりスケール(−
亀裂を生じせしめ結呆として解し、はく離させるものと
考えられ、各成分のあいまりだ作用(二より溶解、解膠
、はく離が進行するものである。この意味から、溶解促
進剤、解膠若しくははく離を促進する薬剤若しくは手段
の追加は史C二本発明の実施の態様を有利なものとする
であろう。
実施例1
下記表中に示した割合、で各成分を含有する試験用薬液
(水溶液)を調製しその1001を200−ビーカー中
区二とり下記組成の塊状スケール(1cm x 1 a
s )−をi漬し室温下で5時間放置12スケールの解
膠状−を観察した。
(水溶液)を調製しその1001を200−ビーカー中
区二とり下記組成の塊状スケール(1cm x 1 a
s )−をi漬し室温下で5時間放置12スケールの解
膠状−を観察した。
スケールの組成(饅)
810、 Fe、O,CaOM、OAJzo。
36J3 0B9 193 31.3 04)6注)
スケールの外観:灰白色 解膠程鼠の7評価基準 変化なしな(−)とし、完全解膠な(貴)とνて、その
間を(±)、 (+)、 (廿)に区分して評価し
た。
スケールの外観:灰白色 解膠程鼠の7評価基準 変化なしな(−)とし、完全解膠な(貴)とνて、その
間を(±)、 (+)、 (廿)に区分して評価し
た。
表−1
注)■配合割合は純品換算で表示した。以下の実施例で
同じ。
同じ。
■ポリマレイン酸はチバガイギー社のベルクレン200
を、使用した。− ■界面活性剤は松本油脂製薬1株)製のソジクムジオク
チルスルホサクνネート(商品名マーボマーセPT)V
使用した。
を、使用した。− ■界面活性剤は松本油脂製薬1株)製のソジクムジオク
チルスルホサクνネート(商品名マーボマーセPT)V
使用した。
この成績は、α−ヒドロキシ酢酸を界面活性剤と併用し
ても、またα−ヒドロキシ酢酸をポリカルボン酸と併用
してもスケール解膠作用は得られないかまたは得られて
も実用的でないの1一対して1本発明区では良好な解膠
作用が得られたことを示している。また、本発明区の成
績は、現場処理のモデル試験成績とみることもできるの
で、各成分の使用量、濃度について示唆を与えている。
ても、またα−ヒドロキシ酢酸をポリカルボン酸と併用
してもスケール解膠作用は得られないかまたは得られて
も実用的でないの1一対して1本発明区では良好な解膠
作用が得られたことを示している。また、本発明区の成
績は、現場処理のモデル試験成績とみることもできるの
で、各成分の使用量、濃度について示唆を与えている。
実施例2
下記表に示す各種有機酸、無機酸につきシリカ系スケー
ルの解膠作用の比較試験を、実施例1と同様の方法にて
行なった。スケールは実施例1で使用したものと同じで
ある。
ルの解膠作用の比較試験を、実施例1と同様の方法にて
行なった。スケールは実施例1で使用したものと同じで
ある。
また、実施例1で使用したポリマレイV酸、界面活性剤
をそれぞれ0.2’%、 0.0256を含有せしめた
試験用薬液−(−水溶液)(二下記表に示した酸を所定
濃度となるように添加して試験した。
をそれぞれ0.2’%、 0.0256を含有せしめた
試験用薬液−(−水溶液)(二下記表に示した酸を所定
濃度となるように添加して試験した。
表−2
この成績は、α−ヒドロキシ#−が特異的に有効である
ことを示している。塩@2チ液は鉄系スケール、カルシ
ウム系スケール除去のため′(:汎用されているがりリ
カ系スケールの解膠作用は認められなかった。また、鉄
系スケールの除去のために粉末剤として提供され【7ば
しは該粉末が管中に残存Tるとして難点が指摘されてい
るスルファミン酸、リンゴ酸、蓚酸、クエン酸、酒石酸
等もシリカ系スケールには解膠作用が認められなかった
。
ことを示している。塩@2チ液は鉄系スケール、カルシ
ウム系スケール除去のため′(:汎用されているがりリ
カ系スケールの解膠作用は認められなかった。また、鉄
系スケールの除去のために粉末剤として提供され【7ば
しは該粉末が管中に残存Tるとして難点が指摘されてい
るスルファミン酸、リンゴ酸、蓚酸、クエン酸、酒石酸
等もシリカ系スケールには解膠作用が認められなかった
。
実施例3
下記表(:示した試験用薬液(水溶液)C一つき、シリ
カ系スケールの解膠性能を調査した。供試スケール、ポ
リマレイン酸、界面活性剤及び試験方法は実施例1と同
様である。
カ系スケールの解膠性能を調査した。供試スケール、ポ
リマレイン酸、界面活性剤及び試験方法は実施例1と同
様である。
時間に従来困難とされていたシリカ系スケールを効果的
C二解膠する作用を有することを示している。また、こ
の成績は、本発明処方のスケール除去剤の現場での使用
方法につき、示唆を与えており、α−ヒドロキシ酢酸の
処理濃度が2!3S〜3チ以上でより効果的Cユ解膠作
用が得られることを示している。
C二解膠する作用を有することを示している。また、こ
の成績は、本発明処方のスケール除去剤の現場での使用
方法につき、示唆を与えており、α−ヒドロキシ酢酸の
処理濃度が2!3S〜3チ以上でより効果的Cユ解膠作
用が得られることを示している。
実施例4
実施例1と同様の方法C;より各種ポリカルボン酸につ
きスケール除去作用を観察した。スケール及び界面活性
剤は実施例1と同じである。
きスケール除去作用を観察した。スケール及び界面活性
剤は実施例1と同じである。
浸漬時間は5時間。
試験用薬液(水溶液)組成
α−ヒドロキシ酢酸 5%
ポリカルボン酸(塩)0.2チ
界面活性剤 0.02%
表−4
実施例5
実施例1と同様の方法により各種界面活性剤につきスケ
ール除去作用を観察した。スケール及びポリカルボン酸
は実施例1と同じである。
ール除去作用を観察した。スケール及びポリカルボン酸
は実施例1と同じである。
浸漬時間は5時間。
試験用薬液(水溶液)組成
α−ヒドロキレ酢酸 5チ
ポリマレイン酸 0.2チ
界面活性剤 0.02 %この成績はア
ニオン屋及びノニオン型界面活性剤が有効であることを
示している。
ニオン屋及びノニオン型界面活性剤が有効であることを
示している。
実施例6
200−のビーカーC−下記組成の試験用薬液(水溶液
)100−を取り、これに種々の組成の島状スケール(
1cm X 1 cM)を゛浸漬しスケールの解膠状態
を観察した。その結果いずれのスケールも2〜5時間以
内に完全C二解膠した。
)100−を取り、これに種々の組成の島状スケール(
1cm X 1 cM)を゛浸漬しスケールの解膠状態
を観察した。その結果いずれのスケールも2〜5時間以
内に完全C二解膠した。
試験用薬液組成
α−ヒドロキシ酢s!5チ
ポリアクリル酸(カヤクリルレジンH−32) 0
.5チを水にf#解したもの。
.5チを水にf#解したもの。
実施例7
5HPのコンデンサー及びl 5RTのクーリングタワ
ー(一ついて下記処理濃度となる如く゛本発明スケール
除去剤を添加して通常の稼動中1ニスケール洗浄を約2
時間行なった。
ー(一ついて下記処理濃度となる如く゛本発明スケール
除去剤を添加して通常の稼動中1ニスケール洗浄を約2
時間行なった。
温度は27〜32℃であった。
■ cl −ヒFo*i/ffpH5,0%イビット3
0ムR(防蝕剤) 0.01*■ スケール
組rIi、(* 外 観 810. We、030aOuyo P、O,
その他灰色42511.7 1.461240.751
9.1この結果、コンデンサーの高圧は処理前の10切
−’t−から8Q/aw!I:低下し、またコンデンサ
ーを開いたところスケールは、きれいC二除去されてい
た。
0ムR(防蝕剤) 0.01*■ スケール
組rIi、(* 外 観 810. We、030aOuyo P、O,
その他灰色42511.7 1.461240.751
9.1この結果、コンデンサーの高圧は処理前の10切
−’t−から8Q/aw!I:低下し、またコンデンサ
ーを開いたところスケールは、きれいC二除去されてい
た。
実施例8
α−ヒドロキシ酢酸 25s(東量−以下同じ)
ポリアクリル酸 2s
ソジクムオクテルスルホサクシネー) 0.2sこれを
水C:溶解して全量を100部とする。
水C:溶解して全量を100部とする。
この処方(;おいて、防蝕剤、消泡剤の少量を添加して
もよい。このスケール除去剤を例えは3〜10倍希釈の
濃度となるように、クーリングタワー、ボイラー、熱交
換器等水配管系統に添加してスケール洗浄なする。
もよい。このスケール除去剤を例えは3〜10倍希釈の
濃度となるように、クーリングタワー、ボイラー、熱交
換器等水配管系統に添加してスケール洗浄なする。
実施例9
α−ヒドロキン酢酸 28部ポリマレイン波
2.5部ソジウムオクチルスルホサク
シネート 0.3部これを水(−溶解して全量Ik
100部とする。
2.5部ソジウムオクチルスルホサク
シネート 0.3部これを水(−溶解して全量Ik
100部とする。
Claims (1)
- α−ヒドロキシ酢酸、ポリカルボン酸若しくはその塩及
びアニオン若しくはノニオン型界面活性剤を含有するこ
とを特徴とTるスケール除去剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19151581A JPS5892499A (ja) | 1981-11-28 | 1981-11-28 | スケ−ル除去剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19151581A JPS5892499A (ja) | 1981-11-28 | 1981-11-28 | スケ−ル除去剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892499A true JPS5892499A (ja) | 1983-06-01 |
| JPH0119958B2 JPH0119958B2 (ja) | 1989-04-13 |
Family
ID=16275932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19151581A Granted JPS5892499A (ja) | 1981-11-28 | 1981-11-28 | スケ−ル除去剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5892499A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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