JPS5893028A - 文字・記号の走査線像を光スイツチングマスクにより感光性記線キヤリアに形成する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、文字・記号の走査線像を光スイツチングマス
クにより感光性記録キャリヤに形成するための、記録キ
ャリヤおよび光スイツチングマスク間に光学装置を有す
る装置に関する。

西ドイツ国特許公開明細書第２８１２２０６号からは、
光源および、光源および感光性記録キャリヤ間に配置さ
れた、複写すべき文字・記号を結像させるマトリクスを
有する光学プリンタが公知である。このマトリクスは、
光スイツチングマスクとして集積薄膜技術で形成され、
その場合その光スイツチング素子は、記号発生装置によ
り電子光学的に制御可能であり、かつ光源から不断に放
射される光に対し、所定の文字・記号の網点でスイッチ
ング状態に応じ透明または光不透過性である。

西ドイツ国特許公開明細書第２６０６５９６号には、集
積された光変調マスクが記載され、かつこのものは、蒸
着された導電ウェブ−および抵抗層上へ純粋に電子工学
的に結合された規則的配列の光スイツチング素子より成
る、例えば鉄ガーネット層のような磁気光学的記憶層に
よる光変調を根底とする。集積密度が大きい場合、並列
する光スイツチング部材が１０００を上層る素子で形成
されることがある。

西ドイツ国特許公開明細書第２８１２２０６号による簡
単な構造の公知の光学プリンタの場合、光スイツチング
マスクが、それぞれに隣接するかまたはマ）　ＩＪクス
状に配置され、記録キャリヤの搬送方向と交差して配置
された１連の光スイツチング素子より成るｉこれにより
、１利金体の全ての文字・記号がプリントされることが
できる。

また前述の特許公開明細書からは、光スイツチングマス
クが、マトリクス状に配置された多数の光スイッチング
素子から形成され、その場合その数が、大面積の記録キ
ャリヤ、例えばド　　゛イツ工業規格ＤＩＮ　Ａ　４判
の全プリント面に同時にプリントすることが可能な網点
の数を標準とする。このような場合、光スイッチングマ
スクの大きさが一般にプリント面の面積に相応せず、従
って記録キャリヤに、プリントすべき像の拡大を惹起す
る光学系が配置される。

西ドイツ国特許公開明細書第２８１２２０６号には、例
えばファクシミリプリントの際に像の縮小をも考慮する
ことができる旨記載されているが、但しこのことを、光
スイツチング素子が例えば１列にギャップ不含に叩互に
隣接するかまたは距離をおいて相互に配置された公知の
光スイツチングマスク装置を使用し、解像力および鮮鋭
度の損失を生じることなく実現することのできる方法は
示唆もまた提案もなされていない。

西Ｐイツ国特許公開明細書第２６０６５９６号および同
第２８１２２０６号から公知である直線配列の光スイツ
チングマスクの場合、一般に、活性の光スイツチングマ
ス、、りを同じかまたは全く縮小せる尺度で１直線に結
像させることが不可能である、それというのも一般にそ
れぞれの光スイツチングマスクのケーシング寸法が。

榛ｍ’Ｔ％光スイッチングマスクよりも犬であるらであ
る。一般に、直線に沿い配置された光スイツチングマス
ク間に不断に光透過性の空間が存在する。不断に、光ス
イツチングマスクの活性面は、光スイツチングマスクが
配置される網目寸法よりも小である。光スイツチングマ
スクを、光学系を使用し記録材料へ鮮明に結像させる場
合、その際に光学系が、光スイツチングマスクの、ギャ
ップ不含に連続整列した投射像を記録材料上に得るため
に拡大し、不均斉な光度分布を生じ、すなわち不変の光
度で露光されるべき面に低光度の縞が生じる。記録面に
おける照明の不均斉は、光点を不鮮鋭に結像させること
により改善することができるが、但しこの場合、すでに
°前述せるような解像力および鮮鋭度の損失が生じる。

そあ間に接続された光学系が結像を縮小させた場合、活
性な光スイツチングマスクの射影を直線に沿いギャップ
不含に連続整列させることは不可能である。

またすでに、光スイツチングマスクをジグザグに２つの
列に沿い配置し、その場合それぞれの光スイツチングマ
スクの巾を網目寸法と同じかまたはそれよりも太き（選
択することが提案された。記録材料が２列の光スイツチ
ングマス網目寸法と同じ巾のそれぞれの光スイツチング
マスクに完全に均斉な光度分布が得られるととこの提案
は、結像線に沿い均斉な光度分布を可能にするのではあ
るが、但し、光スイツチングマスクのケーシングが活性
な光スイツチング部材または光変調部材よりも大きいか
またはせいぜいそれと同じ寸法を有することから出発し
た場合、同じかまたは縮小せる尺度のギャップ不含の結
像の問題は解決しない。この場合光スイツチングマスク
の投射像は、光スイツチングマスクのケーシングが、投
射面と共役する面にただ１線に配置されえた際に、拡太
せるかまたはせいぜい同じ尺度で結像されかつ同時にギ
ャップ不含に連続整列されうるにすぎない。

本発明の課題は、文字・記号の走査線像を、光スイツチ
ングマスクを使用し感光性の記録キャリヤへ同じかまた
は縮小せる尺度でギャップ不含に形成するための装置で
あって、その場合解像力および鮮鋭度、なかんずくそれ
ぞれの対物レンズの日経比により定まる光度の損失を生
ぜず、かつコン・ξクトな構造を有する装置をつくり出
すことである。

本発明によればこの課題は、光学系が、１つの列中に距
離をおいて相互に配置された最低２列の対物レンズより
成り、かつこれら列の対物レンズが相互に食い違ってい
ることにより解決される。゛ 本発明をさらに発展させた場合、１つの列のそれぞれの
対物レンズが、両側面に隣接する、隣りの列の対物ンン
ズと接触する。

殊にコンパクトな構造は、それぞれの光スイツチングマ
スｊに１つの対物レンズが配置され、光スイツチングマ
スクおよび付属する対物レンズが直方体状の光変調ブロ
ック中に集積され、かつ光スイツチングマスクが、光変
調ブロックの相互に直角な外面に配置されていることに
より得られる。

本発明の有利な実施例において、１つの列中の対物レン
ズの側面方向移動および２つの列相互の側面方向移動が
、光スイツチングマスクの対物レンズによる共通の結像
線への所定の結像尺度と一致させて行なわれる。

光スイツチングマスクを光変調ブロックの側面に配置し
かつ対物レンズを結像尺度と関連して移動させることに
より、光スイツチングマスクによる網点な、共通の結像
線へ縮小しかつイヤツブ不含に結像させることが可能で
ある。本発明のもう１つの実施例が他の特許請求の範囲
の特徴部から明白である。

このような装置が有する利点は、縮小せる尺度で精像さ
せる場合、光スイツチングマスクが対物レンズ直径より
も大きい長さ寸法を有することができ、かつそれにもか
かわらず光スイツチングマスクの、光変調ブロックの長
手方向の所要面積が、対物レンズより成る公知の直線配
列およびその上にスイッチングマスクがある場合よりも
わずかなことである。

また有利なのが、対物レンズにより傾斜して結像せしめ
られるので、対物レンズおよび結像すべき光スイツチン
グマスクがもはや１列に配置される必要がなく、それに
もかかわらずその投射像がギャップ不含に連続整列され
ることができ、かつ、偏向のためのミラーまたはプリズ
ムのような補助部材が光路中へ挿入されることができる
ので、多数列の結像すべき光スイツチングマスクが形成
されることができ、その投射像がギャップ不含に連続整
列し１直線に結像可１１ト１ 能なことである。　　１ これらの２つの方法は、個々に、薫だ有利に組合゛せて
使用さ、れることかできる。

以下に、本発明を図面実施例につき詳説する。

第１図の斜視図に示した直方形の光変調プロの公知の光
スイツチングマスク１を収容する。

このようなスイッチングマスクは、西Ｐイッ国特許公開
明細書第２８１２２０６号に記載され、かつ鉄ガーネッ
ト層に導電体が蒸着され、さらにその上にそれぞれの網
点に抵抗層が配置されるようにして形成されている。そ
れぞれの抵抗層にもう１つの導電体が蒸着されている。

下側の共通の導電体は、接続端子を経てアース電位に接
続されるとともに、他の個々の導電体がそれぞれ個有の
接点を有する。これら導電体が抵抗層と一緒になって光
スイツチング素子を形成し、これら素子が列ｙ中で隣接
しかつ、記録キャリヤ１６の搬送方向Ｓに交差して配置
されている。それぞれの光スイツチングマスク１に対物
レンズ７が配置され、かつこれら光スイツチングマスク
がそれらの対物レンズと一緒に光変調ブロック２中に集
積されている。光変調ブロック２の中央部にある対物レ
ンズ７は、その全体で、少（とも２つの列８および９よ
り成る光学系１０を形成する。１つの列中の対物レンズ
は距離をおいて相互に配置され、かつ１つの列のそれぞ
れの対物レンズが、その両側にある、隣接する列の対物
レンズと食い違うか（第１図）またはこれらが接触する
（第４図）。

それぞれの光スイツチングマスク１の光スイツチング素
子により力・々−される線分ｌが、例えば縮小せる尺度
の像を供給する付属の対物レンズ７により、線分すとし
て全ての対物レンズ７に共通の結像線６へ投射される。

それぞれの投射線分すがギャップ不含に相互に連続する
。

光変調少ロック２は、例えば、図示せざるケーシング中
にあり、このケーシング中に、光スイツチングマスク１
を照明する１つまたはそれ以上の光源がある。それぞれ
の光スイツチングマスク１の光スイツチング素子が活性
であり、すなわち入射光束に対し透過性ないしは透明で
ある場合、この光束が光スイツチングマスクの線分ＩＫ
Ｇって出射しかつ偏向ミラー１１ないしは１１′に当り
、これらミラーが光束を、付属の対物レンズを経て結像
線６へ偏向させる。

第２図は、光変調ブロック２の断面図である。

光学系１０は、レンズ枠中に、１つの列中で側面・方向
に食い違った２つの列８および９の対物レンズ７を含有
する。第２図中で、左半分が破線により表わされ、それ
により、装置のこれら部材が図面の平面ないしは観察面
にあるのではなくさらにその背後にあることが明白であ
る。

対物レンズを食い違えることにより、対物レンズを通る
傾斜せる光路が可能になり、その場合光スイツチングマ
スクが、判面に垂直に仮想せる線ＡおよびＢＫ＆い配置
されることができる。これと異なる配置の場合、ミラー
１１および１１’のような偏向部材が光路中へ挿入され
、その結果この場合は光スイツチングマスクが線におよ
びＢ／に配置されることカミできる。また、ミラーの代
りにプリズムが備、えられてもよい。

従って、この実施例の場合、光スイツチングマスクを配
置するため合計４つの位置が可能である。

光変調ブロック２の他の実施例を第３図に斜視図で示す
。この実施例は、第１図の実施例と、光学系１０が唯一
の列の対物レンズ７より成ることが異なるだけである。

この実施例の他の部材は、第１図による実施例のそれと
同じであり、従ってもはや記載しない。

第４図は、第１図による光変調ブロック２中で使用され
ることのできる対物レンズ配列を略本する平面図であり
、かつこれは、光学系１０が少くとも２つの列８および
９の対物レンズ７より成ることを明示する。当業者にと
って、これが必要とされる場合には２列以上の対物レン
ズ７を備えうることが明白である。対物レンズ７の１列
中゛の側面方向の移動および２つの列８および９相互の
側面方向の移動は、光スィッチ・ミ ングマスク１の、対物レンズによる共通の結像線６への
所定結像尺度と同調させて行なわれる。

このことを以下に詳説する。結像尺度は、それぞれの対
物レンズ７で表わされる： ｙｘ　　　　、Ｙｚ この場合、ｙｘは光スイツチングマスク１の結像すべき
活性ラインの半分の長さであり、これは第１図および第
３図中の線分Ｉの半分に等しく、ｙ／はｙｘの射影であ
り、ｙ′ｚは対物レンズの光軸と全ての光スイツチング
マスク１の共通の結像線６との距離であり、かつｙ２は
対物レンズの光軸と光スイツチングマスク１の活性ライ
ンとの距離である。第４図から直接に明白なように、対
物レンズの半径Ｒは下式により表わされこの対物レンズ
７の半径は、結像尺度ｍ′＜１が選択された場合、対物
レンズが直接に相互接触する直線配列の対物レンズ７０
半径よりも大である。

第５図に、第１頃の実施例と類似するが、全ての対物レ
ンズが１列に配置された点で異なる光変調ブロック２の
もう１つの実施例を示す。

偏向部材、すなわちミラー１１　、１１’またはｆ　リ
、？　ム１２　、１２’を光路中へ挿入することにより
、光スイツチングマスクより成る列を配置するための合
計３つの位置Ｃ，ＤおよびＥが可能であり、その場合こ
の図面中で位置りが、変調ブ、ロックの可能な配置のう
ち光スイツチングマスクの結像に使用される唯一のもの
である。

第６図に略本した、光変調ブロックのもう１つの実施例
の断面図において、常用の対物レンズの代りにいわゆる
反射対物レンズが使用され、これは、少くとも１つの光
学レンズ１４およびこれに接続するミラー１５がら形成
される。一般に、このような反射対物レンズは、従来の
透過光対物レンズよりもわずがな全高を有し、従って光
変調′ブロック２が、前述の実施例の場合、よりもコン
・ξクトに形成されることができる。

しかしながらこの装置の場合、光変調ブロックがもはや
直方形に形成されえず、さらにこの場合、光スイツチン
グマスク１を収容する光変調ブロックの面が、光スイツ
チングマスクと同じく水平ないしは垂−直方向に対し傾
斜せしめられる。

とりわけ、前述の光変調ブロック２は、印刷版を磁気光
学的モジュレータないしは光スイツチングマスクで画像
形成する際に、一般に印刷版がレーザー加工で画像形成
することにより得られるにすぎない画質を得るために使
用される２ことができる。この場合はとりわけ、それぞ
れの磁気光学的モジュレータないしはそれぞれの光スイ
ツチングマスクに適当な対物レンズを配置する必要があ
る、それというのもはじめてこれにより、それぞれの光
スイツチングマスクの活性な光スイツチング素子を共通
の結像線へ相応に大きい解像力でギャップ不含に結像さ
せることが可能になるからである。唯一の対物レンズが
全ての光スイツチングマスク全体に使用されたならば、
解像力がそれを着るしく下廻って損なわれ、印刷版め画
像形成に際し得られる画質が今日の高い要求性−に相応
しない。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明による装置の１実施例を
その光路とともに略本するそれぞれ透視斜視図および断
面図、第３図は、本発明による装置の他の実施例をその
光路とともに略本する透視斜視図、第４図は、第１図中
の対物レンズ装置の配列を略本する平面図、並びに第５
図および第６図は、本発明による装置のそれぞれ他の１
実施例を略本する光路図である。 １・・・光スイツチングマスク、２・・・光変調ブロッ
ク、３，４．５・・・光変調ブロックの側面、６・・・
結像線−１７・・・対物レンズ、８．９・・・対物レン
ズの列、１０・・・光学系、１１．．１１’・・・偏向
ミラー、１２．’１２’・・・偏向プリズム、ｆ４・・
・光学レンズ、１５・・・ミラー、１６・・・記録キャ
リヤ１１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　記録キャリヤおよび光スイツチングマスク間に光
   学系を有する装置において、光学系（１０）が、１つの
   列中に相互に距離をおいて配置された最低２列（８、９
   ）の始物レンズ（７）より成り、かつこれら列の対物レ
   ンズ（７）が相互に食い違って７いることを特徴とする
   文字・記号の走査線像を光スイツチングマスクにより感
   光性記録キャリヤに形成する装置。 ２．１つの列のそれぞれの対物レンズが、両側を光スイ
   ツチングマスクにより感光性記録キャリヤに形成する装
   置。 ３、　それぞれの光スイッチング−マスク（１）に１つ
   のレンズ（７）が配置され、これらスイッチングマスク
   および付属するレンズが直方形の光変調ブロック（２）
   中に集積され、かつこれら光スイツチングマスクが光変
   調ブロック（２）の相互に直角な外面（３，４，５）に
   配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の文字・記号の走査線像を光スイツチングマスクに
   より感光性記録キャリヤに形成する装置。 ４．１つの列中の対物レンズ（７）の側面方向移動およ
   び２つの列（８，９）相互の側面方向移動が、光スイツ
   チングマスク（１）の、対物レンズによる共通の結像線
   （６）への所定の結像尺度に同調して行なわれることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の文字・記号の走
   査線像を光スイツチングマスクにより感光性記録°キャ
   リヤに形成する装置。 ５、対物レンズ（７）が光変調ブロック（２）の中央部
   に配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第３
   項記載の文字・記号の走査線像を光スイッチングマスク
   により感光性記録キャリヤに形成する装置。 ６．光スイツチングマスク（１）に、光変調ブロック（
   ２）内部の光学的偏向素子（１１，１１’；１２．１２
   ’）が配置され、これら素子が、種々の面の活性化せる
   光スイツチングマスクを送料させてこの結像線へ投射す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第３または第５項の
   いずれかに記載の文字・記号の走査線像を光スイツチン
   グマスクにより感光性記録キャリヤに形成する装置。 ７、　光学的偏向素子がミラー（１１、ＩＪＩ’　）で
   あり、その水平に対する傾度が調節可能であることを特
   徴とする特許請求の範囲第６項記載の文字・記号の走査
   線像を光スイツチングマスクにより感光性記録キャリ５
   ：：ヤに形成する装置。 ８、　プリズム（１２，１２’）が光偏向素子として備
   えられていることを特徴とする特許請求の範囲第６項記
   載の文字・記号の走査線像を光スイツチングマスクによ
   り感光性記録キャリヤに形成する装置。 ９、対物反射光学系が、最低１つの光学レンズ（１４）
   および１つのミラー（１５）より成ることを特徴とする
   特許請求の範囲第５項記載の文字・記号の走査線像を光
   スイツチングマスクにより感光性記録キャリヤに形成す
   る装置。 １０、記録キャリヤおよび光スイツチングマスク間に光
   学系を有する装置において、光学系（１０）が、１つの
   列中に相互に距離をおいて配置された最低２列（８，９
   ）の対物レンズ（７）より成り、かつこれら列のレンズ
   （７）カ相互に角い違っている装置において、光学系（
   １０）が、列中に相互に距離をおいて配置された１列の
   対物レンイ（７）より成ることを特徴とする文字・記号
   の走査線像を光スイツチングマスクにより感光性記録キ
   ャリヤに形成する装置。