JPS5893811A - レ−ザ加熱方法 - Google Patents
レ−ザ加熱方法Info
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- JPS5893811A JPS5893811A JP56191368A JP19136881A JPS5893811A JP S5893811 A JPS5893811 A JP S5893811A JP 56191368 A JP56191368 A JP 56191368A JP 19136881 A JP19136881 A JP 19136881A JP S5893811 A JPS5893811 A JP S5893811A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/06—Surface hardening
- C21D1/09—Surface hardening by direct application of electrical or wave energy; by particle radiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属等の材料にレーザを照射して加熱1行な
う加熱方法に関するものである。
う加熱方法に関するものである。
従来よp、レーザ照射による加熱方法としては、被加工
材料表面がレーザ光を反射−してしまい被加工材料の加
熱所望部分が十分に加熱されないので、予め加熱すべ電
波加工材料の表面にレーザ吸収物質の層を形成してレー
ザ、照射加熱処理を行なう方法が取られている。その被
覆物質として、現在、粉末黒鉛、切屑酸化物、リン酸樵
尋が実用に供されている。その中でも、リン酸塩は、特
に脚酸ガスレーザ啜収率が高く、化成処理によシ金属(
%に鉄)表面に比較的均一なリン酸塩被膜を生成させる
ことが可能である次め、広く実用に供されている。
材料表面がレーザ光を反射−してしまい被加工材料の加
熱所望部分が十分に加熱されないので、予め加熱すべ電
波加工材料の表面にレーザ吸収物質の層を形成してレー
ザ、照射加熱処理を行なう方法が取られている。その被
覆物質として、現在、粉末黒鉛、切屑酸化物、リン酸樵
尋が実用に供されている。その中でも、リン酸塩は、特
に脚酸ガスレーザ啜収率が高く、化成処理によシ金属(
%に鉄)表面に比較的均一なリン酸塩被膜を生成させる
ことが可能である次め、広く実用に供されている。
ところが、上記リン酸塩におっても、レーザ吸収率は禾
だ満足できるものではなく、tた、化成処理に依るため
に工程が複雑で管理が難しい等技術的に関門が多く、更
に鉄等の金属表面を腐食する等の欠点を有する。
だ満足できるものではなく、tた、化成処理に依るため
に工程が複雑で管理が難しい等技術的に関門が多く、更
に鉄等の金属表面を腐食する等の欠点を有する。
そこで、発明者らは、レーザ吸収率が極めてよく、しか
も工程が簡単で被加工材料の加熱所望部分表面t−嘴食
しない被覆物質を被加工材料表面に形成し、効率のよい
レーザ加熱処理を行なうことを目的として研究を重ね、
本発明2iすに至ったのである。
も工程が簡単で被加工材料の加熱所望部分表面t−嘴食
しない被覆物質を被加工材料表面に形成し、効率のよい
レーザ加熱処理を行なうことを目的として研究を重ね、
本発明2iすに至ったのである。
即ち、本発明のレーザ加熱方法は、加熱すべき被加工材
の表面に、予め珪酸ソーダの被覆層を形成して、然る後
に、被加工材の加熱所望部分圧し−ザを、照射するとと
t−特徴とするものである。
の表面に、予め珪酸ソーダの被覆層を形成して、然る後
に、被加工材の加熱所望部分圧し−ザを、照射するとと
t−特徴とするものである。
本発明に依れば、珪酸ソーダが非常に高いレーザ吸収能
を有するので、所望する局部的加熱を効率よく行うこと
ができる。
を有するので、所望する局部的加熱を効率よく行うこと
ができる。
本発明に於いて、被加工材は、金属の他プラスチック、
セラミックス等がある。被覆層がレーザを吸収すること
に依つて、被加工材の表面の熱効率の向上が見られる材
料であれば総て適用しつる。
セラミックス等がある。被覆層がレーザを吸収すること
に依つて、被加工材の表面の熱効率の向上が見られる材
料であれば総て適用しつる。
また、本発明は、焼入れ、焼戻しのほか、金属、プラス
チック、セラミックス等を加熱する種4の加熱処理方t
kK利用でをる。
チック、セラミックス等を加熱する種4の加熱処理方t
kK利用でをる。
また、本発明に於いて用いる被覆物質九るケイ酸ソーダ
は、酸化ナトリウム(Na、 O)と酸化珪素(810
m )とから成るものであり、通常水ガラスと言われて
いる。水ガラスには、J工S規格に依って(−5lot
/1iJ11Qのモル比nにより、1号(n−111,
2号(n■R5)、8号(n−ILI)J等の種類があ
るが、いずれのものであっても本発明の効果t−発揮す
る。
は、酸化ナトリウム(Na、 O)と酸化珪素(810
m )とから成るものであり、通常水ガラスと言われて
いる。水ガラスには、J工S規格に依って(−5lot
/1iJ11Qのモル比nにより、1号(n−111,
2号(n■R5)、8号(n−ILI)J等の種類があ
るが、いずれのものであっても本発明の効果t−発揮す
る。
また、本発明に放ける被覆層の厚さは、少なくとも1μ
m以上あればよい。レーザO照射条件、被加工材の材質
、被覆材料等により異なるが、被覆層の厚さが余り薄過
ぎると被加工材料表面に於けるレーザの反射の割合が多
く成り十分にレーザを吸収することができない。また、
逆に被覆層の厚さが500μm以上に成ると被覆層に於
いてレーザを吸収する過程で、被覆層に多くの熱量を奪
われ被加工材表面に於ける熱効率が低下する恐れがある
。
m以上あればよい。レーザO照射条件、被加工材の材質
、被覆材料等により異なるが、被覆層の厚さが余り薄過
ぎると被加工材料表面に於けるレーザの反射の割合が多
く成り十分にレーザを吸収することができない。また、
逆に被覆層の厚さが500μm以上に成ると被覆層に於
いてレーザを吸収する過程で、被覆層に多くの熱量を奪
われ被加工材表面に於ける熱効率が低下する恐れがある
。
また、本発明に於いて、被覆層を形成するに際しては、
珪酸ソーダの水溶液中に被加工材料を浸漬すること、被
加工材料表面にスプレー、はけ塗9等により塗布するこ
とによシ行ない、被加工材加熱部分表面に均一に塗布す
る。これは、被覆層表面が均一でない場合には、該表面
にレーザを照射した際に表面の不均一な部分に於いてそ
の割合に応じて乱反射する割合が多く成り、レーザ吸収
率が悪いからである。
珪酸ソーダの水溶液中に被加工材料を浸漬すること、被
加工材料表面にスプレー、はけ塗9等により塗布するこ
とによシ行ない、被加工材加熱部分表面に均一に塗布す
る。これは、被覆層表面が均一でない場合には、該表面
にレーザを照射した際に表面の不均一な部分に於いてそ
の割合に応じて乱反射する割合が多く成り、レーザ吸収
率が悪いからである。
また、被加工材へのレーザ照射は、上記の如く塗布し九
水溶液が乾燥してから行なうのが好ましく、乾燥前にレ
ーザ照射を行うと水分の蒸発が多くなり熱効率が悪くな
る。
水溶液が乾燥してから行なうのが好ましく、乾燥前にレ
ーザ照射を行うと水分の蒸発が多くなり熱効率が悪くな
る。
以上の構成に依り、本発明のレーザ加熱方法は、被覆物
質として用いる珪酸ソーダが非常に高いレーザ吸収能を
有するので、その所望する被加工材加熱部分の熱効率が
大賢艮い。
質として用いる珪酸ソーダが非常に高いレーザ吸収能を
有するので、その所望する被加工材加熱部分の熱効率が
大賢艮い。
ま九、5被覆物質、たる珪酸ソーダはアルカリ性の液体
でろるので、被加工材の被覆表面が浸食されることなく
、浸漬くスプレー或いははけ!119等に依り被覆した
後に乾燥させレーザ照射を行なえばよいので、工程を単
純にすることができ、簡便に加熱処理を行なうことがで
きる。
でろるので、被加工材の被覆表面が浸食されることなく
、浸漬くスプレー或いははけ!119等に依り被覆した
後に乾燥させレーザ照射を行なえばよいので、工程を単
純にすることができ、簡便に加熱処理を行なうことがで
きる。
また、形状の複雑1被加工材にも簡単に被覆層・を形成
することができる。
することができる。
尚、本発明に於いて社、上記水ガラスにマイカ、珪酸、
カーボンブラック等の粉条t−混合して被覆F@を形成
することもで櫃る。この場合には、熱処理後に於けるこ
の被覆層の除去が容易である。
カーボンブラック等の粉条t−混合して被覆F@を形成
することもで櫃る。この場合には、熱処理後に於けるこ
の被覆層の除去が容易である。
以下、本発明の実施例を示す。
実施例り
板厚5m111の8KB$1−被加工材とし、これを珪
酸ソーダ!!θ%と水80%から成る水ガラスの中Vc
f!に潰した後、これを取り出し、大気中で乾燥するこ
とにより、珪酸ソーダの被覆層を生成させ友。
酸ソーダ!!θ%と水80%から成る水ガラスの中Vc
f!に潰した後、これを取り出し、大気中で乾燥するこ
とにより、珪酸ソーダの被覆層を生成させ友。
該被覆層の厚さは5μmであった。然る後、該被覆部に
、次酸ガスレーザを出力soow、ビーム径8φ、試料
送り速度50ff/8eoで照射した。
、次酸ガスレーザを出力soow、ビーム径8φ、試料
送り速度50ff/8eoで照射した。
これにより、被加工材には、幅11g、深さα8nの焼
入れ妙化部が得られた。該硬化部の硬さは、約Ev =
900でおシ、十分焼入れが成されていた。被加工材
の焼入れ硬化部分の表面から深さ方向への硬さ分布を第
1図に、曲線1で示す。また、被加工材硬化部の焼入れ
断面部分の鴎徽鏡写真(倍率50倍)を第2図に示す、
第2図に於いて、円孤状断面を呈する部分が焼入れされ
た部分である。
入れ妙化部が得られた。該硬化部の硬さは、約Ev =
900でおシ、十分焼入れが成されていた。被加工材
の焼入れ硬化部分の表面から深さ方向への硬さ分布を第
1図に、曲線1で示す。また、被加工材硬化部の焼入れ
断面部分の鴎徽鏡写真(倍率50倍)を第2図に示す、
第2図に於いて、円孤状断面を呈する部分が焼入れされ
た部分である。
また、比較例として、日本パーカライジング製バーコリ
ューブライト(1U−1’AM)を用い、この液中和、
上記と同様の被加工材t−95’0にて10ないし16
分間浸漬し、リン酸塩の被覆層を生放させた。次いで、
この被加工材に上記と同様の条件で脚酸ガスレーザ金照
射し九。これにより、被加工材には、@L911M、深
さ01111の焼入れ硬化部が得られた。該硬化部の硬
さは約HY −880であった。該被加工材硬化部の表
面からの深さ方゛向への硬さ分布を第1図に、曲41z
で示す。また、尤の硬化部の焼入れ断面部分の顕wl鏡
写真(倍率50倍)を第8図に示す、第8図に於いて、
′円孤状断面を呈する部分が焼入れされた部分である。
ューブライト(1U−1’AM)を用い、この液中和、
上記と同様の被加工材t−95’0にて10ないし16
分間浸漬し、リン酸塩の被覆層を生放させた。次いで、
この被加工材に上記と同様の条件で脚酸ガスレーザ金照
射し九。これにより、被加工材には、@L911M、深
さ01111の焼入れ硬化部が得られた。該硬化部の硬
さは約HY −880であった。該被加工材硬化部の表
面からの深さ方゛向への硬さ分布を第1図に、曲41z
で示す。また、尤の硬化部の焼入れ断面部分の顕wl鏡
写真(倍率50倍)を第8図に示す、第8図に於いて、
′円孤状断面を呈する部分が焼入れされた部分である。
また、上記リン酸塩被覆層を形成した場合、上記水ガラ
スにより得られた硬化部の深さα8ffと同じ深さを得
るには、試料の送り速度を811I/5ea(他は同一
条件)という遅い速度にし危ければならなかった。ここ
に、試料送り速度が約半分であったことは、レーザによ
る入熱を約2倍要するということを意味する。即、ち、
上記水ガラスの場合に仲1、・試料送シ速度が501M
/ 8eoであったから、リン酸塩の場合よシも約し6
倍程レーザ吸収率が^いことが分る。
スにより得られた硬化部の深さα8ffと同じ深さを得
るには、試料の送り速度を811I/5ea(他は同一
条件)という遅い速度にし危ければならなかった。ここ
に、試料送り速度が約半分であったことは、レーザによ
る入熱を約2倍要するということを意味する。即、ち、
上記水ガラスの場合に仲1、・試料送シ速度が501M
/ 8eoであったから、リン酸塩の場合よシも約し6
倍程レーザ吸収率が^いことが分る。
以上より明らかの如く、珪酸ソーダ被覆層を形成せしめ
レーザを照射するレーザ加熱方法は、リン酸塩の被覆層
を形成せしめた場合よシ、工程が少なくかつ簡便である
上に、レーザ吸収率も非常によく、本発明の効果が顕著
であることが分る。
レーザを照射するレーザ加熱方法は、リン酸塩の被覆層
を形成せしめた場合よシ、工程が少なくかつ簡便である
上に、レーザ吸収率も非常によく、本発明の効果が顕著
であることが分る。
実施例2
被覆量の異なる被覆層を形成し、レーザ照射を行ない、
焼入断面積の関係について測定した。
焼入断面積の関係について測定した。
即ち、板厚5ItMの共析戻紫#4(Sに5)t−被加
工材とし、これを水ガラス中に浸漬した後、大気中で乾
燥することによシ珪酸ソーダの被覆層を生成させた。こ
の際、檎4の濃度の水ガラスを準備しておき、珪酸ソー
ダの被覆層の量が異なる各櫨試片を調製した。レーザ照
射は、該被覆層に戻酸ガスレーザ金出力900 W、ビ
ーム径6φ、試料送9速度δ0寵/Sθ0で行なった。
工材とし、これを水ガラス中に浸漬した後、大気中で乾
燥することによシ珪酸ソーダの被覆層を生成させた。こ
の際、檎4の濃度の水ガラスを準備しておき、珪酸ソー
ダの被覆層の量が異なる各櫨試片を調製した。レーザ照
射は、該被覆層に戻酸ガスレーザ金出力900 W、ビ
ーム径6φ、試料送9速度δ0寵/Sθ0で行なった。
被覆層の厚さによるレーザ吸収率を評価する為に、焼入
部の断面積の大小金評価した。これは、被覆層のレーザ
吸収率が高い程焼入部の体積が大きく放るからであり、
その焼入体積に比例関係にある焼入断面積全測定すれば
、レーザ吸収能の大きさを評価できるからである。被覆
層の重量と焼入断面積との関係を第4図に1曲線3で示
す。
部の断面積の大小金評価した。これは、被覆層のレーザ
吸収率が高い程焼入部の体積が大きく放るからであり、
その焼入体積に比例関係にある焼入断面積全測定すれば
、レーザ吸収能の大きさを評価できるからである。被覆
層の重量と焼入断面積との関係を第4図に1曲線3で示
す。
尚、比較例として、被覆物質としてリン酸マンガン、マ
イカ(雲母)、酸化珪素(81(h )、カーボンブラ
ックを用い、上記と同様の被加工材上にその被覆量を種
、4KKえて被覆し、それぞれについて上記と同様のレ
ーザ照射加熱処理を行なった。ここに、マイカ、酸化珪
素、カーボンブラックは、粉末であるのでバインダとし
てポリビニールアルコール(p、 V、 A、 )水溶
液音用いて、両者の混合液金スプレーで噴霧し被加工材
に被覆した。
イカ(雲母)、酸化珪素(81(h )、カーボンブラ
ックを用い、上記と同様の被加工材上にその被覆量を種
、4KKえて被覆し、それぞれについて上記と同様のレ
ーザ照射加熱処理を行なった。ここに、マイカ、酸化珪
素、カーボンブラックは、粉末であるのでバインダとし
てポリビニールアルコール(p、 V、 A、 )水溶
液音用いて、両者の混合液金スプレーで噴霧し被加工材
に被覆した。
また、リン酸塩被覆層は、リン酸マンガンを化成処理に
よって生成させた。被覆量と焼入断面積との関係を第4
図に、リン酸マンガンの場合は曲線4、マイカの場合は
曲線も、酸化珪素の場合は曲線6、カーボンブラックの
場合は曲線フの各曲線で示した。
よって生成させた。被覆量と焼入断面積との関係を第4
図に、リン酸マンガンの場合は曲線4、マイカの場合は
曲線も、酸化珪素の場合は曲線6、カーボンブラックの
場合は曲線フの各曲線で示した。
第4′図から明らかの如く、被覆層が水ガラスの場合に
は、特に被覆量がat/vlからRot/d(厚み2μ
mから!!8μII)K於いて他の被覆物質の場合より
も非常に高いレーザ吸収率を示していることが分る。
は、特に被覆量がat/vlからRot/d(厚み2μ
mから!!8μII)K於いて他の被覆物質の場合より
も非常に高いレーザ吸収率を示していることが分る。
第1図は、珪酸ソーダおよびリン酸塩被覆層にレーザ照
射を行なった被加工材焼入部分の表面から深さ方向への
硬さ分布を示す図。第2図および第8図は、その焼入れ
断面部分の顧徽鏡写真(倍率5.t1倍)、第4図は、
珪酸ソーダ、リン酸マンガン、マイカ、酸化珪素、カー
ボンブラックを被覆層とした場合のレーザ照射による被
覆量と燭入れ断面積との関係を示す図である。 特許出願人 株式会社 豊田中央研究所 代理人 弁理士111柵祥拳 弁理士高橋克彦 升城士杉本 勝 第4TiJ 被 覆 量 (ginり2) 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表子 昭和66年特許願第 19188
8 号1発明の名称 V−ず加熱方法 8、補正をする者 事件との関係 特許出願人 愛知県愛知郡長久手町大字長瀬字横道41番地のlC8
60)株式会社豊田中央研究所 代表取締役 小 松 ! 4、代理人 & 補正命令の日付 昭和67年8月6日(発送日
昭和5?年3月1108) 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」。 rawimの1単な説明」の― 十−補一事−4 ÷i手吟割腎 7 補正の内容 】 明細書第6頁第18行に、「断面部分の顕微鏡写真
」とあるな、「新面部分の金属組織の顕微簀写真」と補
正する。 2 明細書第7頁第7行目に、「断面部分の顕微鏡写真
」とあるを、「断面部分の金属組織の顕微鏡写真」と補
正する。 8 明細書第10頁第7行目に、「断面部分の顕微鏡写
真」とあるを、「断面部分の金属組織のIi1微鏡写真
」と補正する。 以上
射を行なった被加工材焼入部分の表面から深さ方向への
硬さ分布を示す図。第2図および第8図は、その焼入れ
断面部分の顧徽鏡写真(倍率5.t1倍)、第4図は、
珪酸ソーダ、リン酸マンガン、マイカ、酸化珪素、カー
ボンブラックを被覆層とした場合のレーザ照射による被
覆量と燭入れ断面積との関係を示す図である。 特許出願人 株式会社 豊田中央研究所 代理人 弁理士111柵祥拳 弁理士高橋克彦 升城士杉本 勝 第4TiJ 被 覆 量 (ginり2) 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表子 昭和66年特許願第 19188
8 号1発明の名称 V−ず加熱方法 8、補正をする者 事件との関係 特許出願人 愛知県愛知郡長久手町大字長瀬字横道41番地のlC8
60)株式会社豊田中央研究所 代表取締役 小 松 ! 4、代理人 & 補正命令の日付 昭和67年8月6日(発送日
昭和5?年3月1108) 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」。 rawimの1単な説明」の― 十−補一事−4 ÷i手吟割腎 7 補正の内容 】 明細書第6頁第18行に、「断面部分の顕微鏡写真
」とあるな、「新面部分の金属組織の顕微簀写真」と補
正する。 2 明細書第7頁第7行目に、「断面部分の顕微鏡写真
」とあるを、「断面部分の金属組織の顕微鏡写真」と補
正する。 8 明細書第10頁第7行目に、「断面部分の顕微鏡写
真」とあるを、「断面部分の金属組織のIi1微鏡写真
」と補正する。 以上
Claims (1)
- 加熱すべき被加工材の表面に、珪酸ソーダの被覆層を形
成し、然る後被加工材の加熱所望部分にレーザを照射す
ることを特徴とするレーザ加熱方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56191368A JPS5893811A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | レ−ザ加熱方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56191368A JPS5893811A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | レ−ザ加熱方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5893811A true JPS5893811A (ja) | 1983-06-03 |
| JPS639004B2 JPS639004B2 (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=16273415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56191368A Granted JPS5893811A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | レ−ザ加熱方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5893811A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2637587A1 (fr) * | 1988-10-12 | 1990-04-13 | Dipsol Chem | Procede pour former un revetement ceramique par irradiation par un faisceau laser |
| JPH02169192A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-29 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 立方晶窒化ホウ素焼結体の切断方法 |
| JP2008088031A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Toshio Teranaka | シリカ膜の製造方法 |
| JP2008088032A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Toshio Teranaka | セラミック膜の製造方法 |
| JP2013082563A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Disco Corp | セラミックス基板のアブレーション加工方法 |
| JP2021099308A (ja) * | 2019-11-13 | 2021-07-01 | ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa | 時計部品 |
-
1981
- 1981-11-27 JP JP56191368A patent/JPS5893811A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2637587A1 (fr) * | 1988-10-12 | 1990-04-13 | Dipsol Chem | Procede pour former un revetement ceramique par irradiation par un faisceau laser |
| JPH02169192A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-29 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 立方晶窒化ホウ素焼結体の切断方法 |
| JP2008088031A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Toshio Teranaka | シリカ膜の製造方法 |
| JP2008088032A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Toshio Teranaka | セラミック膜の製造方法 |
| JP2013082563A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Disco Corp | セラミックス基板のアブレーション加工方法 |
| JP2021099308A (ja) * | 2019-11-13 | 2021-07-01 | ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa | 時計部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS639004B2 (ja) | 1988-02-25 |
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