JPS5895883A - 多重ホスト平面ポンピング形レ−ザ - Google Patents

多重ホスト平面ポンピング形レ−ザ

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JPS5895883A
JPS5895883A JP57191951A JP19195182A JPS5895883A JP S5895883 A JPS5895883 A JP S5895883A JP 57191951 A JP57191951 A JP 57191951A JP 19195182 A JP19195182 A JP 19195182A JP S5895883 A JPS5895883 A JP S5895883A
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アレキサンダ−・ジヨ−ジ・ロビンス
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は平面ポンピング形レーザに関するものである。
　更に詳しく言えば本発明は、７つのヘッド内に複数の
レーザホスト部材を具備することにより、平面ポンピン
グ形内部全反射レーザ技術の利点を保持しながらホスト
容積の増大ひいては平均レーザ出力の向上を可能にする
上記のごときレーザに関する。
当業界において公知の通り、レーザ装置は一般に電磁ス
ペクトルの赤外域および可視域内の波長を持った電磁線
を放出する。　かかる電磁線は実質的にコヒーレントで
あり、しかも狭い波長幅を特徴とする。
レーザ装置は、適当な光学的ボンピングによって特定の
準安定エネルギー準位における反転分布を達成し得るよ
うな適宜の媒質すなわちホストを用いて動作させること
ができる。　通例使用される媒質としては、ネオジムガ
ラス、ルビー、ヘリウム、ネオンおよび二酸化炭素が挙
げらねる。
ボンピングすなわち反転分布を生み出すのに必要なエネ
ルギーを持った電磁線を活性媒質に照射することにより
、コヒーレントな電磁線の放出を可能にする状態を得る
ことができる。　なお、分布反転をもたらす電磁線を放
出する手段は「ポンピング手段」と呼ばれ、またかかる
電磁線の波長は「ポンピング波長」として知られている
。
高エネルギーパルスを放出するレーザ装置は、当業界で
はパレスレーザとして知られている。かかる放出パルス
は商工“ネルギーではあるが持続時間が短かくて、ミリ
秒ないしピコ秒程度の時間しか持続しない。
レーザの出力は入力エネルギーの僅かな部分にしか相当
しないのであって、入力エネルギーの大部分はレーザ媒
質中において熱に変化してしまう。　パルスレーザの場
合、余分の熱を除去するだめに活性媒質の７つ以上の表
面が冷却される。
ホスト材料の熱伝導率は有限であるから、余分の熱は内
部よりも表面付近において早く除去され、そのためにホ
ストの中心部は表面よりも高温となる。　そのため、適
当な冷却期間を置かずにレーザホストを繰返して動作さ
せると実質的に大きな温度勾配が生じ、それによって構
造上の故障や出力ビームのひずみの起こる可能性がある
。　特に、熱伝導率の小さいホスト材料を用いたレーザ
ではパルス繰返数が小さい値に制限されることになる。
パルス繰返数の大きいパルスレーザに対する関心の高ま
りに伴い、最近ではこの分野における研究活動が活発と
なってきた。　すなわち、活性レーザホストとして使用
される各種の材料（特に不純物添加ガラス類）が小さい
熱伝導率を有することから、それによるパルス繰返数の
制約を解消するだめに幾つかの方法が提唱された。　こ
わらの方法に共通するのは、レーザホスト材料を分割し
、そしてそねらの周囲に冷却材を分散させて流すことで
ある。　このような処理の結果、相対的に小さな寸法を
持ったレーザホスト材料の分割体からは不要の熱が一層
迅速に除去され、従って熱的に誘起された応力による構
造上の故障なしに装置全体を一層大きなパルス繰返数の
下で動作させることが可能となる。　しかしながら、一
般的に言ってかかる技術は完全に満足すべきものでない
ことが判明した。　なぜなら、装置の開口を横切る方向
に沿って不均一な温度逆転が起こるという問題が残存し
、それによってレーザ出力ビームのひずみが生じるから
である。　このようなレーザ出力ビームのひずみはそれ
自体として望ましくないばかりでなく、構造上の損傷を
もたらすこともある。
現在のところ、パルスレーザとしては平面ポンピング形
レーザを使用するのが有利である。平面ボンピング形レ
ーザによれば、側面ボンピング形の棒状レーザ装置が不
均一な光学的性質を示すのと異なり、レーザの開口を横
切る方向に沿って実質的に一様な活性化およびそれに伴
う温度分布を得ることができる。　例えば、アルマシ（
Ａｌｍａｓｉ）等の米国特許第３乙３／３ｔ、！号明細
書中には、平面ポンピング形レーザ装置のパルス繰返数
を実質的に増大させるだめの手段が開示されている。
ところで、従来技術によって解決されていない問題の１
つとして、熱応力の限界を越えずかつ熱的に誘起される
レーザホスト部材の湾曲を防止するようにしながら７つ
のヘッド内に設置されるレーザホスト材料の容積を増大
させることが挙げられる。　たとえば、マーティン（Ｍ
ａｒｔｉｎ）　等の米国特許第３１，３３７．２乙号の
ごとき従来技術ではレーザホスト材料から成る単一の厚
板が使用される。
この場合、かかる厚板の垂直方向寸法（すなわち厚さ）
は、高温状態にあるホストの中心線から冷却されだホス
トの上面および下面に至るまでの温度勾配により誘起さ
れる応力によって制限されるのである。
このように、平面ポンピング形内部全反射レーザ技術の
利点を保持しながら平均出力の向上をもたらすような平
面ボンピング形レーザが要望されている。
従って本発明の目的の７っは、平面ボンピング形レーザ
におけるレーザホスト材料の容積を増大させて平均出力
を向上させることにある。
また、平面ポンピング形レーザ内に多重レーザホスト部
材を・設置することにより、レーザ全体の寸法を顕著に
増大させることなしに平均出力の向上を達成することも
本発明の目的の７っである。
更にまた、熱応力の限界を越えずかつ熱的に誘すされる
レーザホスト部材の湾曲を防止するようにしながら平面
ボンピング形レーザ内に上記のごとき多重レーザホスト
部材を設置することも本発明の目的の７つである。
本発明のその他の目的や利点は、以下の説明を読み進む
に従って自ら明らかとなろう。
さて本発明に従えば、多重ホスト平面ボンピング形レー
ザが提供される。　ががるレーザには活性レーザホスト
材料から成る少なくとも２個の細長くて均質なレーザホ
スト部材が含まれていて、その各々は長袖を有すると共
にお互い同士および長袖に対して実質的に平行な少なく
とも２つの光学的平面を有している。　かかるレーザホ
スト部材は、それぞれの光学的平面および長軸同士が概
して平行となるよう互いに離隔して配置されている。　
また、レーザホスト部材の少なくとも一方が有する光学
的平面の一方を通してその内部に入射すべき電磁線を供
給するためのボンピング手段が含まれていて、かかる電
磁線の少なくとも一部は上記のレーザホスト部材を通過
してから他方のレーザホスト部材が有する光学的平面の
一方を通してその内部に入射する結果、かかる電磁線は
両方のレーザホスト部材の原子を準安定状態に励起して
その内部に分布反転を生じさせる。　更にまた、レーザ
ホスト部材の光学的平面に沿つヤ流体冷却材を流してレ
ーザホスト部材の内部で発生した熱を除去するだめの手
段が含まれている。　好適な実施例の場合、流体冷却材
を流すだめの手段は光学的平面をほぼ同じ温度に冷却す
るだめの手段を含み、その結果として熱的に誘起される
レーザホスト部材の湾曲が防止される。
以下、添付の図面を参照しながら本発明を一層詳しく説
明しよう。
図面には、本発明の好適な実施例を成す多重ホスト平面
ボンピング形レーザ１０が示されている。　かかるレー
ザ内には、活性レーザホスト材料から成る／対の細長く
て均質なレーザホスト部材２０および３０が含まれてい
る。　本実施例においては、かかる用途のためにネオジ
ム添加イツトリウム−アルミニウムーガーネット（ＮＤ
　：　ＹＡＧ）が選ばれている。　レーザホスト部材２
０および　−３０は長軸２５および３５をそれぞれ有す
ると共に、お互い同士および長軸に対して実質的に平行
な少なくとも２つの光学的平面２１．２２および３１．
３２をそれぞれ有している。　かかるレーザホスト部材
２０および３０は、図示のごとく、それぞれの光学的平
面および長軸同士が概して平行となるよう互いに離隔し
て配置されている。
ポンピング手段は、レーザホスト部材２０および３０の
少なくとも一方が有する光学的平面の一方に入射すべき
（第２図中に矢印で示された）電磁線を供給するのに役
立つ／対のフラッシュランプ４０および４１を含んでい
る。　図示のごとき好適な実施例の場合、フラッシュラ
ンプ４０はレーザホスト部材２０の光学的平面２１を通
してその内部に入射すべき電磁線を供給すると共に、反
射器５０の併用によってランプから放射された電磁線の
大部分がレーザホスト部材２０に到達することを保証し
ている。　同じく、フラッシュランプ４１およびそれに
対応する反射器５１はレーザホスト部材３０の光学的平
面３２を通してその内部に入射すべき電磁線を供給する
。　レーザホスト部材２０お′よび３０に入射するフラ
ッシュランプ４０および４１からの電磁線は、レーザホ
スト部材の原子を準安定状態に励起してその内部に分布
反転を生じるように作用する。
レーザホスト部材２０および３０のごとき平面ポンピン
グ形レーザ用のホスト材料においては、そわらが動作中
に加熱を受ける結果として光学的ひずみ効果が生じる。
　それ故、レーザホスト部材２０および３０の光学的平
面に沿って流体冷却材を流してホスト材料の内部で発生
した熱を除去するための手段が設置されているのであっ
て、かかる手段は空胴又は流路６０．６１および６２を
含んでいる。　流体が漏れないように形成さねだ流路６
０および６２は、フラッシュランプ４０および４１から
放射、された電磁線を透過させると同時にレーザホスト
部材２０および３０のそれぞれの光学的平面２１および
３２に沿って流れる冷却材を保持するのに役立つ／対の
窓７０および７１をそれぞれ具備している。　一連のノ
ズル８０　、８０　。
８ｏ“など、８１，８１１８１′など、および８２．８
２’。
８２”などは、冷却材流路６０．６１および６２に送入
されて出口９０から流出することによりレーザホスト部
材２０および３０の光学的平面の冷却を行うための冷却
材を導入し且つその流量調整を行うように作用する。
ところで、容易にわかる通り、レーザホスト部材２０お
よび３０の各々は非対称のポンピングを受ける。　すな
わち、冷却材流路６１に隣接した部材平面が受ける光学
的ポンピングエネルギーは流路６０および６２に隣接し
た。平面が受けるものより少ない。　なぜなら、フラッ
シュランプからの電磁線がレーザホスト部材を通過して
冷却材流路６１に隣接した平面に到達するまでに電磁線
の吸収が起こるからである。　その結果として非対称の
加熱が起こり、それによってレーザホスト部材は湾曲す
る傾向を示す。　このような湾曲まだは屈曲を放置する
と、レーザビームは平面ポンピング形レーザにおける内
部全反射の結果として片寄りを生じ、そのために出力ビ
ームは入力ビームと平行でなくなる。　かかる位置の狂
いはレーザの性能を甚だしく低下させる。　それ故、流
路６１へのノズル８１．８１′、８１“などを流路６０
および６２へのノズルより細くして流路６１を流れる冷
却材の速度を低下させることにより、流路６１に隣接し
たレーザホスト部材の光学的平面が流路６０および６２
に隣接した光学的平面とほぼ同じ温度に保だねるように
すれば有利である。　非対称の加熱と非対称の冷却とを
うまく釣合わせれば、各レーザホスト部材の上面および
下面はほぼ同じ温度を有するから、部材の湾曲によって
ビームの位置狂いが生じることはないのである。
所望ならば、たとえばカーガー（Ｋａｒｇｅｒ）等の米
国特許第９２０２５９７号明細書中に示されるごとく、
適当な流体冷却材の使用によってフラッシュランプ４０
および４１を冷却することもできる。
このような構成の場合、フラッシュランプの周囲に同心
の管が配置され、そしてフラッシュランプから余分の熱
を除去するのに役立つ流体冷却材がその内部に流される
。
本明細書中の説明および図面は特に二重のレーザホスト
部材に関連するものである。　　しかしながら、各冷却
材流路に関する冷却材流量を適当に補正しさえすれば、
本発明は同様にして配置された三重、四重またはそれよ
り多重のレーザホスト部材に対しても等しく適用するこ
とができる。
好適な実施例において使用するために選ばれた冷却材は
エチレングリコールと水との混合物である。　とは言え
、その他適宜の冷却材たとえば水、アルコール、フルオ
ロカーボン、各種の気体などを使用することもできる。
　また、好適なホスト材料としてはアメリカ合衆国ニュ
ージャージ州モリス・プレーンズ所在のエアトロン社（
Ａｉｒｔｒｏｎ　Ｉｎｃ　、　）から入手し得るＮｂ：
ＹＡＧが選ばわた。　　しかるに、その他適宜のホスト
材料たとえばネオジム添加リン酸塩またはケイ酸塩ガラ
ス、ルビー、アレキサンドライト（Ａｌｅｘａｎｄｒｉ
ｔｅ）などを使用することもできる。
以上、現時点において好適と考えられる本発明の実施例
に関連して多重ホスト平面ボンピング形レーザを説明し
たが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、
使用する構造や手段に様様な変更や修正を施し得ること
は当業者にとって自明であろう。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の好適な実施例を成す多重ホスト平面ポ
ンピング形レーザの置所面図、そして第２図は第１図の
レーザの部分切欠き斜視図−Ｃある。 図中、１０は多重ホスト平面ポンピング形レーザ、２０
および３０はレーザホスト部材、２１゜２２．３１およ
び３２は光学的平面、２５および３５は長軸、４０およ
び４１はフラッシュランプ、５０および５１は反射器、
６０．６１および６２は冷却材流路、７０および７１は
窓、８０．８１お上び８２はノズル、そして９０は出口
を表わす。 図面の浄書・（内容に変更なし） １、事件の表示 昭和５７年特訂願第１９１９５１号 ２、発明の名称 多重ホスト平面ボンピング形レーザ ３、補正をする石 事ｆ１との関係　　　　　　出願人 任　所　　アメリカ合衆国、１２３０５、ニューヨーク
州、スケネクタデイ、リバーロード、１番 名　称　　ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ代表
者　　アーリー・エム・キング ４、代理人 住　所　　１０７東京都港区赤坂１丁［１１４番１４号
第３５興和ビル　４Ｗ３ 日本ゼネラル・ルクトリック株式会社・極東特許部内６
、補正の対象 図面 ７、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし） ８、添付書類の目録 浄書図面　　　　　１通

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ／（ａ）活性レーザホスト材料から成る少々くとも２個
    の細長くて均質なレーザホスト部材の各々が長軸を有す
    ると共にお互い同士および前記長軸に対して°実質的に
    平行な少なくとも２つの光学的平面を有していて、前記
    レーザホスト部材はそれぞれの光学的平面および長軸同
    士が概して平行となるよう互いに離隔して配置されてお
    り、（ｂ）前記レーザホスト部材の少なくとも一方が有
    する前記光学的平面の一方を通してその内部に入射すべ
    き電磁線を供給するだめのポンピング手段が設置されて
    いて、前記電磁線の少なくとも一部は前記一方のレーザ
    ホスト部材を通過して休ら他方のレーザホスト部材が有
    する前記光学的平面の一方を通してその内部に入射する
    結果、前記電磁線は両方の前記レーザホスト部材め原子
    を準安定状態に励起してその内部に分布反転を生じさせ
    、かつまた（Ｃ）前記レーザホスト部材の前記光学的平
    面に沿って流体冷却材を流して前記レーザホスト部材の
    内部で発生した熱を除去するための手段が設置されてい
    ることを特徴とする多重ホスト平面ボンピング形レーザ
    。 コ、流体冷却材を流すだめの前記手段が前記光学的平面
    をほぼ同じ温度に冷却するだめの手段を含み、その結果
    として熱的に誘起される前記レーザホスト部材の湾曲が
    防止される特許請求の範囲第１項記載の多重ホスト平面
    ボンピング形レーザ。 ３　前記ポンピング手段が、レーザホスト部材の一方が
    有する前記光学的平面の一方に隣接して配置された少な
    くとも７つの電磁線供給源を含む特許請求の範囲第１項
    記載の多重ホスト平面ポンピング形レーザ。 グ　前記電磁線供給源からの電磁線を前記レーザホスト
    部材に向けるだめの反射器が含壕れている特許請求の範
    囲第３項記載の多重ホスト平面ボンピング形レーザ。 ｊ　前記ポンピング手段が、前記レーザホスト部材を通
    過した前記電磁線供給源からの電磁線を前記レーザホス
    ト部材に向けて戻すため前記レーザホスト部材の他方が
    有する前記光学的平面の一方に隣接して配置された反射
    器を含む特許請求の範囲第３項記載の多重ホスト平面ポ
    ンピング形レーザ。 乙　前記ポンピング手段が、外方に向いた前記光学的平
    面にそれぞれ隣接して配置された少なくとも２つの電磁
    線供給源を含む特許請求の範囲第１項記載の多重ホスト
    平面ポンピング形レーザ。 ２　前記電磁線供給源の各々が電磁線を前記レーザホス
    ト部材の前記光学的平面に向けるだめの反射器を具備し
    ている特許請求の範囲第１項記載の多重ホスト平面ポン
    ピング形レーザ。 と　流体冷却材を流すための前記手段が前記光学的平面
    をほぼ同じ温度に冷却するだめの手段を含み、その結果
    として熱的に誘起される前記レーザホスト部材の湾曲が
    防止される特許請求の範囲第７項記載の多重ホスト平面
    ボンピング形レーザ。 ９、（ａ）活性レーザホスト材料から成る細長くて均質
    な第１のレーザホスト部材が長軸を有すると共にお互い
    同士および前記長軸に対して実質的に平行な少なくとも
    一つの光学的平面を有し、また活性レーザホスト材料か
    ら成る細長くて均質な第２のレーザホスト部材が長軸を
    有すると共にお互い同士および前記長軸に対して実質的
    に平行な少なくともλつの光学的平面を有していて、前
    記第７および第２のレーザホスト部材はそれぞれの長軸
    同士およびそれぞれの各光学的平面同士が概して平行と
    なるよう互いに離隔して配置され、かつそわそれのレー
    ザホスト部材の外方の光学的平面に入射してそれを通過
    した電磁線の少なくとも一部が他方のレーザホスト部材
    の内方の光学的平面に入射するように整列しており、（
    ｂ）第１および第２の電磁線供給源を含む光学的ポンピ
    ング手段が設置され、前記第１の電磁線供給源は前記第
    １のレーザホスト部材の外方の光学的平面に隣接して配
    置されかつ前記第２の電磁線供給源は前記第λのレーザ
    ホスト部材の外方の光学的平面に隣接１〜て配置されて
    いて、それらから放射された電磁線がそねぞれのレーザ
    ホスト部材の外方の光学的平面を通してその内部に入射
    することによりそれぞれのレーザホスト部材の原子を励
    起してその内部に分布反転を生じさせ、かつまた（Ｃ）
    前記レーザホスト部材の前記光学的平面に沿って流体冷
    却材を流して前記レーザホスト部材の内部で発生した熱
    を除去するだめの手段が設置されていることを特徴とす
    る多重ホスト平面ポンピング形レーザ。 １０　流体冷却材を流すだめの前記手段が前記光学的平
    面をほぼ同じ温度に冷却するだめの手段を含み、その結
    果として熱的に誘起される前記レーザホスト部材の湾曲
    が防止される特許請求の範囲第９項記載の多重ホスト平
    面ボンピング形レーザ。 ／／：’（ａ）活性レーザホスト材料から成る少なくと
    も２個の細長くて均質なし一ザホスト部材の各々が長軸
    を有すると共にお互い同士および前記長軸に対して実質
    的に平行な少なくとも認つの光学的平面を有していて、
    前記レーザホスト部材はそれぞれの光学的平面および長
    軸同士が概して平行となるよう互いに離隔して配置され
    ているため前記レーザホスト部材間に流体冷却材を流す
    ことが可能であり、（ｂ）少なくとも２つの電磁線供給
    源を含むポンピング手段が設置され、前記電磁線供給源
    はそれぞれのレーザホスト部材の外方の光学的平面に隣
    接して配置されていて、各々の前記電磁線供給源からの
    電磁線がそれぞれのレーザホスト部材の外方の光学的平
    面を通してその内部に入射することによりそれぞれのレ
    ーザホスト部材の原子を励起してその内部に分布反転を
    生じさせ、前記レーザホスト部、材同士はまたそれぞれ
    のレーザホスト部材に入射してそれを通過した電磁線の
    少なくとも一部が他方のレーザホスト部材の一方の光学
    的平面を通してその内部に入射するように配置されてお
    り、しかも前記ポンピング手段はまたそねぞれの電磁線
    供給源からの電磁線の大部分を対応するレーザホスト部
    材に向けると共に対応するレーザ４ホスト部材を通過し
    た電磁線を同じレーザホスト部材に向けて戻すため前記
    電磁線供給源の各々に対応して設置された反射器をも含
    み、かつ１だ（Ｃ）前記レーザホスト部材の前記光学的
    平面をほぼ同じ温度に冷却するだめの冷却手段が設置さ
    ねていて、前記冷却手段は前記レーザホスト部材の各々
    が有する外方の光学的平面に沿って流れ゛る流体冷却材
    の量を内方の光学的平面に沿って流れる量より多くする
    だめの複数のノズルを含み、このだめ熱的に誘起される
    前記レーザホスト部材の湾曲が防止されることを特徴と
    する多重ホスト平面ポンピング形レーザ。
JP57191951A 1981-11-02 1982-11-02 多重ホスト平面ポンピング形レ−ザ Pending JPS5895883A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6182489A (ja) * 1984-09-29 1986-04-26 Hoya Corp 固体レ−ザ発振装置
JPS61272986A (ja) * 1985-05-29 1986-12-03 Hiroto Kuroda スラブ形固体レ−ザ発振装置
JPS621289A (ja) * 1985-06-11 1987-01-07 Res Dev Corp Of Japan 固体レ−ザ発振装置
JPS62234386A (ja) * 1985-12-28 1987-10-14 カ−ル・ツワイス・ステイフツング 固体レ−ザ発振器

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN85105775B (zh) * 1985-07-31 1987-12-23 华东工学院 序列脉冲激光瞬态全息摄影仪
FR2593615B1 (fr) * 1986-01-28 1990-04-06 Bm Ind Sa Structure de pompage optique a plaque(s)
US4852109A (en) * 1988-12-02 1989-07-25 General Electric Company Temperature control of a solid state face pumped laser slab by an active siderail
GB2310532B (en) * 1993-09-24 1998-02-25 Mitsubishi Electric Corp Solid state laser apparatus
JP3155132B2 (ja) * 1993-09-24 2001-04-09 三菱電機株式会社 固体レーザ装置及びレーザ加工装置
US7200161B2 (en) * 2001-01-22 2007-04-03 The Boeing Company Side-pumped solid-state disk laser for high-average power
DE10243323B4 (de) * 2002-09-18 2005-11-10 Arccure Technologies Gmbh Optisch gepumpter Festkörperlaser
US7310360B2 (en) 2004-10-25 2007-12-18 The Boeing Company Apparatus and method for face cooling of optical components of a laser system

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3487330A (en) * 1965-06-30 1969-12-30 North American Rockwell High power dissipation laser structure
US3631362A (en) * 1968-08-27 1971-12-28 Gen Electric Face-pumped, face-cooled laser device
US3633126A (en) * 1969-04-17 1972-01-04 Gen Electric Multiple internal reflection face-pumped laser
US3766493A (en) * 1972-09-26 1973-10-16 Us Navy Holding cladding for laser slabs
FR2293086A1 (fr) * 1974-11-28 1976-06-25 Bret Georges Procede de compensation des deformations d'un milieu amplificateur de lumiere sous l'effet de la lumiere de pompage et amplificateur de lumiere compense par ce procede
US4232276A (en) * 1977-10-11 1980-11-04 Quanta-Ray, Inc. Laser apparatus
US4207541A (en) * 1978-02-21 1980-06-10 General Electric Company Cooling jacket for laser flash lamps

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6182489A (ja) * 1984-09-29 1986-04-26 Hoya Corp 固体レ−ザ発振装置
JPS61272986A (ja) * 1985-05-29 1986-12-03 Hiroto Kuroda スラブ形固体レ−ザ発振装置
JPS621289A (ja) * 1985-06-11 1987-01-07 Res Dev Corp Of Japan 固体レ−ザ発振装置
JPS62234386A (ja) * 1985-12-28 1987-10-14 カ−ル・ツワイス・ステイフツング 固体レ−ザ発振器

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IL67122A0 (en) 1983-02-23
DE3268878D1 (en) 1986-03-13
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