JPS589625A - 培養液 - Google Patents
培養液Info
- Publication number
- JPS589625A JPS589625A JP56107852A JP10785281A JPS589625A JP S589625 A JPS589625 A JP S589625A JP 56107852 A JP56107852 A JP 56107852A JP 10785281 A JP10785281 A JP 10785281A JP S589625 A JPS589625 A JP S589625A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- culture solution
- phosphonic acid
- acid
- cultivation
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y02P60/216—
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- Hydroponics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、養液栽培に用いて培養液に係る。
植物の必要無機成分を合理的な組成、濃度とした培養液
を使用した水耕、れき耕、砂耕、パーミニキライト耕、
くんたん耕、ウレタン耕、噴霧水耕等の養液栽培等の技
術は、その特長を生カして広い分野で有効に使用されて
いる。植物の生育に必要な必須成分は、主に化学元素で
炭素（Ｃ）、水素（Ｈ）、酸素（０）、窒素（Ｎ）、リ
ン（Ｐ）、カリウム（Ｋ）、カルシウム（Ｏａ）、マグ
ネシウム（Ｍ ｇ）、硫黄（Ｓ）、鉄（Ｆｅ）、マンガ
ン（Ｍｎ）、ホウ素（Ｂ）、亜鉛（Ｚｎ） 、銅（Ｃｕ
）、モリブデン（Ｍｏ）、塩素（Ｃ１）の１６元素であ
り、養液栽培に使用する培養液は、通常Ｎ以下の１３成
分が陰イオンまたは陽イオンとして酸素を多く含んだ水
にとけている。例えば標準的には水ｌｌ中にカルシウム
イオン（Ｃ！ａ２＋）ｇミリグラム当険（以下ｍｅと記
す）、マグネシウムイオン（Ｍｇ”）ａ ｍｅ、カリウ
ムイオン（Ｋ”）ｆｍｅ、リン酸イオン（Ｐｏニー）、
ｍｅ、硫酸イオ７（Ｓｏ４ ）ｇｍｅ 、硝酸イオｙ
（Ｎｏ、−） １１ ｍｅ、ホウ酸イオン（ＢＯ２）
３ ｐｐｍ、鉄イオン（Ｆｅｌ）、２ｔｉ ｐｐｍ
（キレートとして）等となって含有され、これを養液栽
培プラントにおいて長期間装置内でリサイクルさせる。
を使用した水耕、れき耕、砂耕、パーミニキライト耕、
くんたん耕、ウレタン耕、噴霧水耕等の養液栽培等の技
術は、その特長を生カして広い分野で有効に使用されて
いる。植物の生育に必要な必須成分は、主に化学元素で
炭素（Ｃ）、水素（Ｈ）、酸素（０）、窒素（Ｎ）、リ
ン（Ｐ）、カリウム（Ｋ）、カルシウム（Ｏａ）、マグ
ネシウム（Ｍ ｇ）、硫黄（Ｓ）、鉄（Ｆｅ）、マンガ
ン（Ｍｎ）、ホウ素（Ｂ）、亜鉛（Ｚｎ） 、銅（Ｃｕ
）、モリブデン（Ｍｏ）、塩素（Ｃ１）の１６元素であ
り、養液栽培に使用する培養液は、通常Ｎ以下の１３成
分が陰イオンまたは陽イオンとして酸素を多く含んだ水
にとけている。例えば標準的には水ｌｌ中にカルシウム
イオン（Ｃ！ａ２＋）ｇミリグラム当険（以下ｍｅと記
す）、マグネシウムイオン（Ｍｇ”）ａ ｍｅ、カリウ
ムイオン（Ｋ”）ｆｍｅ、リン酸イオン（Ｐｏニー）、
ｍｅ、硫酸イオ７（Ｓｏ４ ）ｇｍｅ 、硝酸イオｙ
（Ｎｏ、−） １１ ｍｅ、ホウ酸イオン（ＢＯ２）
３ ｐｐｍ、鉄イオン（Ｆｅｌ）、２ｔｉ ｐｐｍ
（キレートとして）等となって含有され、これを養液栽
培プラントにおいて長期間装置内でリサイクルさせる。
しかしながら、この方法によれば培養液のリサイクル中
に植物の生育に必要な酸素、すなわち空気を補給するの
で、培養液は、空気中の炭酸ガスを吸収し、また温度変
化等によってＭｇ２＋やＦθ五↓等の各イオンが水酸化
物、炭酸化物となって沈澱し、かつその水素イオン濃度
（ＰＨ）の変化と相俟って沈澱物が増大する傾向にあり
、この沈澱物が装置内壁、植物根系に耐着沈積するよう
になる。また日光光線、養分、酸素の供給を受けて藻が
発生し、これが原因となり核となって沈澱物を一層誘発
し、結果的には藻と共に沈積現象を助長混成する（藻と
沈澱物がまざシ合った形で沈積する一以下沈積したもの
を沈積物という）。
に植物の生育に必要な酸素、すなわち空気を補給するの
で、培養液は、空気中の炭酸ガスを吸収し、また温度変
化等によってＭｇ２＋やＦθ五↓等の各イオンが水酸化
物、炭酸化物となって沈澱し、かつその水素イオン濃度
（ＰＨ）の変化と相俟って沈澱物が増大する傾向にあり
、この沈澱物が装置内壁、植物根系に耐着沈積するよう
になる。また日光光線、養分、酸素の供給を受けて藻が
発生し、これが原因となり核となって沈澱物を一層誘発
し、結果的には藻と共に沈積現象を助長混成する（藻と
沈澱物がまざシ合った形で沈積する一以下沈積したもの
を沈積物という）。
これらの現象は、植物の生育上極めて不都合な、例えば
（１）沈積物が根糸にまつわシつき、根の呼吸作用を阻
害する。
害する。
（２） 有効イオン成分が無駄に消費され、結果的に
必要成分の追加添加を必要とする。
必要成分の追加添加を必要とする。
（３）陰イオンがバランスを崩し、陽イオンに対して過
剰な状態となり、結果的に軟弱徒長な生育となって商品
価値を損う。
剰な状態となり、結果的に軟弱徒長な生育となって商品
価値を損う。
（４） 沈積物に病原菌が附着し、あるいは沈積物が
害虫の、産卵培池となるので健全な植物の生育が期待で
きない。
害虫の、産卵培池となるので健全な植物の生育が期待で
きない。
（５）溶液の循環系（）（イブ、ポンプ、ノズル、ホー
ス）の閉塞の原′因となシ、しばしば流路の洗浄を行う
必要がある。また、設計上はこの閉塞を見越した装置の
巨大化を促し、動力消費量の過大化をもたらす。
ス）の閉塞の原′因となシ、しばしば流路の洗浄を行う
必要がある。また、設計上はこの閉塞を見越した装置の
巨大化を促し、動力消費量の過大化をもたらす。
（６）れき耕の場合、れき表面に膜状物が固着し、潅概
時水きりを悪くし、酸素の導入を害するので、しばしば
れきの機械的洗浄を行うわずられしさがある。
時水きりを悪くし、酸素の導入を害するので、しばしば
れきの機械的洗浄を行うわずられしさがある。
等９原因を生起し、このような状態となった場合、作付
状況を勘案して装置の全てを停止し、培養液を廃棄し、
装置全体を消毒洗浄する必要があった。また、上述の現
象は夏季に培養液の液温を下げるためにしばしば曝気さ
れるとき著しく助長された。
状況を勘案して装置の全てを停止し、培養液を廃棄し、
装置全体を消毒洗浄する必要があった。また、上述の現
象は夏季に培養液の液温を下げるためにしばしば曝気さ
れるとき著しく助長された。
本発明者は、薬品の添加により沈積物の析出を防止する
方法、例えばエチレンジアミンテトラアセティツクアシ
ッド（ＥＤＴＡ）、ジエチレリ ント・アミンペンタアセティツクアシッド（ＤＴＰＡ）
等の添加により沈積物の析出防止を鋭意検討したが上述
の現象を阻止することはできず、ただ分子中に少なくと
も２個のホスホン酸またはその塩を有する化合物を添加
することにより、従来生じていた現象を全て解決しうろ
ことを見出し本発明を完成するに到った。
方法、例えばエチレンジアミンテトラアセティツクアシ
ッド（ＥＤＴＡ）、ジエチレリ ント・アミンペンタアセティツクアシッド（ＤＴＰＡ）
等の添加により沈積物の析出防止を鋭意検討したが上述
の現象を阻止することはできず、ただ分子中に少なくと
も２個のホスホン酸またはその塩を有する化合物を添加
することにより、従来生じていた現象を全て解決しうろ
ことを見出し本発明を完成するに到った。
に沈積物が附着しない養液栽培方法に用いる培養液を提
供するにある。
供するにある。
しかして、本発明の要旨は、
〔式中、Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子またはアン
モニウム基 Ｘは、炭素原子数／〜１０のアルキレ ン基 Ｒ，Ｒ，は、水素原子、水酸基、炭素原子ｎは、θ〜３
の整数、Ｘ及びＲ８はｎの数によシそれぞれ異なってい
てもよい。
モニウム基 Ｘは、炭素原子数／〜１０のアルキレ ン基 Ｒ，Ｒ，は、水素原子、水酸基、炭素原子ｎは、θ〜３
の整数、Ｘ及びＲ８はｎの数によシそれぞれ異なってい
てもよい。
をそれぞれ示す。〕
または一般式
〔式中、Ｍは、一般式（Ｉ）と同じ原子または基Ｒ２は
、水素原子、フェニル基、ベンジル基または炭素原子数
／−４のアルキ ル基 Ｒ３は、水素原子、水酸基、アミン基、または炭素原子
数ｌ−≠のアルキル基 ｍは、／−／ ０の整数、Ｒ２及びＲ３はｍの数により
それぞれ異なっていてもよ い。
、水素原子、フェニル基、ベンジル基または炭素原子数
／−４のアルキ ル基 Ｒ３は、水素原子、水酸基、アミン基、または炭素原子
数ｌ−≠のアルキル基 ｍは、／−／ ０の整数、Ｒ２及びＲ３はｍの数により
それぞれ異なっていてもよ い。
をそれぞれ示す。〕
で表わされるホスホン酸化合物を含有してなる養液栽培
用培養液に存する。
用培養液に存する。
本発明の詳細な説明する。
本発明の培養液は、その組成、濃度等は特に限定される
ものではなく、養液栽培する植物、養液栽培の方法、気
象条件、養液一度等により適宜適切な培養液が採用され
る。しかし養液栽培過程中は上述した標準的な均衡培養
液または均衡培養液の稀釈溶液を用いるのが好ましく、
均衡培養液濃度以上の培養液を用いるとむしろ整置が生
じ易くなる。
ものではなく、養液栽培する植物、養液栽培の方法、気
象条件、養液一度等により適宜適切な培養液が採用され
る。しかし養液栽培過程中は上述した標準的な均衡培養
液または均衡培養液の稀釈溶液を用いるのが好ましく、
均衡培養液濃度以上の培養液を用いるとむしろ整置が生
じ易くなる。
本発明の培養液に添加するホスホン酸化合物とは、上述
の一般式ＣＩ）の化学構造を有する、分子中に７少なく
とも７個の窒素原子を有し、かつ窒素原子に直接結合す
る少なくとも２個のメチレンホスホ／酸またはメチレン
ホスホン酸塩基を有する化合物または一般式［ＩＩ）で
表わされる化学構造を有する置換されていてもよいアル
キレン基の両端にホスホン酸基またはホスホン酸基を有
する化合物である。
の一般式ＣＩ）の化学構造を有する、分子中に７少なく
とも７個の窒素原子を有し、かつ窒素原子に直接結合す
る少なくとも２個のメチレンホスホ／酸またはメチレン
ホスホン酸塩基を有する化合物または一般式［ＩＩ）で
表わされる化学構造を有する置換されていてもよいアル
キレン基の両端にホスホン酸基またはホスホン酸基を有
する化合物である。
具体的には、イミノジ（メチレンホスホン酸）、ニトリ
ロトリ（メチレンホスホン酸）、ｎ−へキシルアミノジ
（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンジ（メチレ
ンホスホン酸）、エチレンジアミントリ（メチレンホス
ホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、トリメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、ヘキサメチレンジアミンジ（メチレンホスホン酸
）、ヘキサメチレンシアミント１フ（メチレンホスホン
酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホ
ン酸）、ペンタメチレンジアミンテトラ（メチレンホス
ホン酸）、オクタメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホ／酸）、ノナメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、デカメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、ψ−ヒドロキシーｔ−アザへブタン−／、
７−ジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、クーメチ
ル−ｑ−アザヘプタン−／、７−ジアミンテトラ（メチ
レンホスホン酸）、ジエチレントリアミントリ（メチレ
ンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチ
レンホスホン酸）またはこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等、及びメチレンジホスホン酸、
ｌ−ヒドロキシエチリデン−／、／−ジホスホン酸、イ
ソプロピリデンジホスホン酸、トリメチレンジホスホン
酸、デカメチレンジホスホ／酸、／、Ａ−ジヒドロキシ
−／、６−ジ、メチルへキサメチレンジホスホン酸、ｌ
−アミノーコーフェニルエタンー／、ｌ −ジホスホン
酸、／、３−ジヒドロキシ−／、３−ジプロピルトリメ
チレンジホスホン酸、ｌ−アミノエタン−１，ｌ−ジホ
スホン酸、ジヒドロキシ−ジエチル−エチレンジホスホ
ン酸またはこれらのナト２１ノウム塩、カリウム塩、ア
ンモニウム塩等の一種ま、声は二種以上を混合して使用
する。
ロトリ（メチレンホスホン酸）、ｎ−へキシルアミノジ
（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンジ（メチレ
ンホスホン酸）、エチレンジアミントリ（メチレンホス
ホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、トリメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、ヘキサメチレンジアミンジ（メチレンホスホン酸
）、ヘキサメチレンシアミント１フ（メチレンホスホン
酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホ
ン酸）、ペンタメチレンジアミンテトラ（メチレンホス
ホン酸）、オクタメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホ／酸）、ノナメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、デカメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、ψ−ヒドロキシーｔ−アザへブタン−／、
７−ジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、クーメチ
ル−ｑ−アザヘプタン−／、７−ジアミンテトラ（メチ
レンホスホン酸）、ジエチレントリアミントリ（メチレ
ンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチ
レンホスホン酸）またはこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等、及びメチレンジホスホン酸、
ｌ−ヒドロキシエチリデン−／、／−ジホスホン酸、イ
ソプロピリデンジホスホン酸、トリメチレンジホスホン
酸、デカメチレンジホスホ／酸、／、Ａ−ジヒドロキシ
−／、６−ジ、メチルへキサメチレンジホスホン酸、ｌ
−アミノーコーフェニルエタンー／、ｌ −ジホスホン
酸、／、３−ジヒドロキシ−／、３−ジプロピルトリメ
チレンジホスホン酸、ｌ−アミノエタン−１，ｌ−ジホ
スホン酸、ジヒドロキシ−ジエチル−エチレンジホスホ
ン酸またはこれらのナト２１ノウム塩、カリウム塩、ア
ンモニウム塩等の一種ま、声は二種以上を混合して使用
する。
一般式（Ｉ）及び（ＩＩ’３で表わされる化合物は上記
の具体例に限定されるものではない。本発明においては
特にニトリロトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジ
アミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリ
アミンペンタ（メチレンホスホン酸）、／−ヒドロキシ
エチリテンーｉ、ｉ−ジホスホン酸及びそれらのナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属塩が好ましい。
の具体例に限定されるものではない。本発明においては
特にニトリロトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジ
アミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリ
アミンペンタ（メチレンホスホン酸）、／−ヒドロキシ
エチリテンーｉ、ｉ−ジホスホン酸及びそれらのナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属塩が好ましい。
しかして、ホスホン酸化合物の培養液への添加量は、特
に限定されるものではないが、ホスホン酸化合物の種類
によっても、また培養液のイオン濃度によっても異なり
、いずれにしても僅少量の添加で良く、培養液に対して
０．０／〜１１００ｐＰ、特に０．ｊ 〜／ Ｏｐｐｍ
の範囲でよい。
に限定されるものではないが、ホスホン酸化合物の種類
によっても、また培養液のイオン濃度によっても異なり
、いずれにしても僅少量の添加で良く、培養液に対して
０．０／〜１１００ｐＰ、特に０．ｊ 〜／ Ｏｐｐｍ
の範囲でよい。
／ ｏ ｏ ｐｐｍ以上添加しても期待以上の効果は得
られにくく、効果及び経済性の点を考慮して／ ００１
）１）ｍ以下の範囲にとどめるのが望ましい。
られにくく、効果及び経済性の点を考慮して／ ００１
）１）ｍ以下の範囲にとどめるのが望ましい。
また０、０ ／ ｐｐｍ以下では添加の効果は少なく、
長期間の培養液のリサイクルや追肥等を考慮する場合ｏ
、 ｔ ｐｐｍ 、特に／ ｐｐｍ以上用いるのが賢明
であろう。
長期間の培養液のリサイクルや追肥等を考慮する場合ｏ
、 ｔ ｐｐｍ 、特に／ ｐｐｍ以上用いるのが賢明
であろう。
培養液にホスホン酸化合物を含有させるには、ホスホン
酸化合物をそのま＼添加してもよく、通常はホスホン酸
化合物の水溶液、好ましくは／−／ ０重量％の水溶液
を調製しておき、該調製水溶液を上述の使用濃度になる
ように添加する。添加する時期は、特に限定されるもの
ではないが、通常養液栽培開始前に添加するのがよく、
この場合、標準的な均衡培養液に添加しても均衡培養液
を調製するための濃厚溶液に加えてもよい。また、養溶
栽培過程中の循環中のまたは静置した培養液に添加して
もよい。勿論、ホスホン酸化合物は、培養液中で均一に
なっていることが望ましい。
酸化合物をそのま＼添加してもよく、通常はホスホン酸
化合物の水溶液、好ましくは／−／ ０重量％の水溶液
を調製しておき、該調製水溶液を上述の使用濃度になる
ように添加する。添加する時期は、特に限定されるもの
ではないが、通常養液栽培開始前に添加するのがよく、
この場合、標準的な均衡培養液に添加しても均衡培養液
を調製するための濃厚溶液に加えてもよい。また、養溶
栽培過程中の循環中のまたは静置した培養液に添加して
もよい。勿論、ホスホン酸化合物は、培養液中で均一に
なっていることが望ましい。
本発明の養液、栽培用の培養液を使用して養液栽培を行
うには従来と同様の培養液のように実施すればよく、ま
た従来の養液栽培法である水耕、れき耕、砂耕、パーミ
ニキライト耕、くんたん耕、ウレタン耕、噴霧水耕等の
技術に採用できる。 □１ 本発明の培養液によればホスホン酸化合物を僅少量添加
するだけで培養液の構成要素である各種イオンの水酸化
物、炭酸化物等に起因する沈澱を防止し、培養液中のイ
オン濃度バランスを養液栽培中良好に保持し、−軟弱徒
長な生育とはならず、すぐれた生産性を確保することが
できる。また養液栽培中の培養液に沈澱が認められる時
期に添加することによっても、沈澱物が生成し、沈積物
が装置内や根系に附着するのを。
うには従来と同様の培養液のように実施すればよく、ま
た従来の養液栽培法である水耕、れき耕、砂耕、パーミ
ニキライト耕、くんたん耕、ウレタン耕、噴霧水耕等の
技術に採用できる。 □１ 本発明の培養液によればホスホン酸化合物を僅少量添加
するだけで培養液の構成要素である各種イオンの水酸化
物、炭酸化物等に起因する沈澱を防止し、培養液中のイ
オン濃度バランスを養液栽培中良好に保持し、−軟弱徒
長な生育とはならず、すぐれた生産性を確保することが
できる。また養液栽培中の培養液に沈澱が認められる時
期に添加することによっても、沈澱物が生成し、沈積物
が装置内や根系に附着するのを。
阻止し、さらに附着してから添加した場合でも装置や根
系への洗浄力が働き、附着した沈積物が除去され、植物
の生育を増進する。要するに・沈澱物、沈積物が植物の
根系にまつわりつかないので植物の呼吸を阻害せず、生
育の必須成分の植物への吸収及び溶存酸素の吸収を促進
する。
系への洗浄力が働き、附着した沈積物が除去され、植物
の生育を増進する。要するに・沈澱物、沈積物が植物の
根系にまつわりつかないので植物の呼吸を阻害せず、生
育の必須成分の植物への吸収及び溶存酸素の吸収を促進
する。
また、培養液中のホスホン酸化合物は、金属元素とキレ
ート結合を作るので微量成分を溶解させるのに役立ち、
溶解し難い必須成分を植物の根系に速やかに運ぶ作用を
併せもっており、本発明の培養液を使用することによシ
従来の養液栽培の欠点の全てを解消することができ、工
業的利用価値は頗る高い。
ート結合を作るので微量成分を溶解させるのに役立ち、
溶解し難い必須成分を植物の根系に速やかに運ぶ作用を
併せもっており、本発明の培養液を使用することによシ
従来の養液栽培の欠点の全てを解消することができ、工
業的利用価値は頗る高い。
以下に、本発明を実施例にてさらに詳述するが、本発明
は、その要旨を超えない限シ以下の実施例に限定される
ものではない。
は、その要旨を超えない限シ以下の実施例に限定される
ものではない。
なお、実施例における養液栽培には、図面に示すように
内容積を２分したガラス製の装置を用いた。
内容積を２分したガラス製の装置を用いた。
図中、ｌは養液栽培装置、λは本発明の培養液を入れる
培養槽、３は従来の培養液を入れる培養槽、４４．４（
／は苗株保持具、ｊはコ及び３への空気吹込管、ｔは苗
株をそれぞれ示す。
培養槽、３は従来の培養液を入れる培養槽、４４．４（
／は苗株保持具、ｊはコ及び３への空気吹込管、ｔは苗
株をそれぞれ示す。
実施例１
培養槽２及び３それぞれに水／ｌ当ｆｉＮｔ、７ｍｅ、
Ｐ２ｍｅ、Ｋｅｍｅ、Ｃａ＜ｚｍｅ、Ｍｇ、ｚｍｅ。
Ｐ２ｍｅ、Ｋｅｍｅ、Ｃａ＜ｚｍｅ、Ｍｇ、ｚｍｅ。
Ｂ ２ ｍｓ を含み、微量元素をＦｅ（キレート）
／、ｊ ｐＰｍ、 Ｂ Ｏ，２ｊ ｐｐｍ、 Ｍｎ ０
．２ ｊ ｐＩ）ｍ。
／、ｊ ｐＰｍ、 Ｂ Ｏ，２ｊ ｐｐｍ、 Ｍｎ ０
．２ ｊ ｐＩ）ｍ。
Ｚｎ Ｏ，０２ｊ−ｐｐｍ、 Ｃｕ Ｏ，０／ ｐｐｍ
、 ＭＯｏ、ｏ ｏ ｔ、ｐｐｍ、 ａｌｏ、ざざｐｐ
ｍ含む培養液ｔ−同量入れ、別途ウレタン床に播種し水
栽培を行って育てた７儂程度のクレソン苗株をμ株ずつ
計ｇ株を苗株保持具弘、ｊ′に挾み培養槽コ及び３中相
、茎ともすぐれていた。また槽λのガラス面には耐着物
は認められなかったが、槽３のガラス面は若干耐着物が
認められた。
、 ＭＯｏ、ｏ ｏ ｔ、ｐｐｍ、 ａｌｏ、ざざｐｐ
ｍ含む培養液ｔ−同量入れ、別途ウレタン床に播種し水
栽培を行って育てた７儂程度のクレソン苗株をμ株ずつ
計ｇ株を苗株保持具弘、ｊ′に挾み培養槽コ及び３中相
、茎ともすぐれていた。また槽λのガラス面には耐着物
は認められなかったが、槽３のガラス面は若干耐着物が
認められた。
図面は、養液栽培装置の斜視略図である。
図中ｌは養液栽培装置、２は本発明の培養液を入れる培
養槽、３は従来の培養液を入れる培養槽、ｒＦ！、’Ｆ
−気吹気吹管をそれぞれ示す。 ほか１名
養槽、３は従来の培養液を入れる培養槽、ｒＦ！、’Ｆ
−気吹気吹管をそれぞれ示す。 ほか１名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ０）一般式 〔式中、Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子またはアン
モニウム基 Ｘは、炭素原子数／−１０のアルキ レン基 Ｒ，Ｒ，は、水素原子、水酸基、炭素原の数によシそれ
ぞれ異なっていても よい。 ３をそれぞ
れ示す。〕 または一般式 馬は、水素原子、フェニル基、ベン ジル基または炭素原子数／−４’のア ルキル基 鳥は、水素原子、水酸基、アミノ基 または炭素原子数ｌ−μのアルキル 基 ｍは、／−１０の整数、Ｒｔ及びＲ３はｍの数によシそ
れぞれ異なっていて もよい。 をそれぞれ示す。〕 で表わされるホスホン酸化合物を含有してなる養液、栽
培用培養液
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56107852A JPS589625A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 培養液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56107852A JPS589625A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 培養液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS589625A true JPS589625A (ja) | 1983-01-20 |
Family
ID=14469688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56107852A Pending JPS589625A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 培養液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS589625A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS634658U (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-13 | ||
| JPS634659U (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-13 | ||
| JPS6342636A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-23 | 住友電気工業株式会社 | 栽培養液の作製方法 |
-
1981
- 1981-07-10 JP JP56107852A patent/JPS589625A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS634658U (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-13 | ||
| JPS634659U (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-13 | ||
| JPS6342636A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-23 | 住友電気工業株式会社 | 栽培養液の作製方法 |
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