JPS59100855U - 連続スパツタ装置 - Google Patents
連続スパツタ装置Info
- Publication number
- JPS59100855U JPS59100855U JP19663982U JP19663982U JPS59100855U JP S59100855 U JPS59100855 U JP S59100855U JP 19663982 U JP19663982 U JP 19663982U JP 19663982 U JP19663982 U JP 19663982U JP S59100855 U JPS59100855 U JP S59100855U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- continuous sputtering
- gas introduction
- main gas
- piping system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
図Ｃ１本考案の一実施例を示す正面図である。
、Ａ・・・スパッタ装置、１・・・入口室、２・・・ス
パッタ室、３・・・出口室、４ａ、 ４ｂ、 ４Ｃ，
４’ｄ−・・仕切弁、５・・・主ガス導入管系、６・・
・バイパス管系、７・・・排・気管系。
パッタ室、３・・・出口室、４ａ、 ４ｂ、 ４Ｃ，
４’ｄ−・・仕切弁、５・・・主ガス導入管系、６・・
・バイパス管系、７・・・排・気管系。
Claims (1)
- 入口室、スパッタ室および出口室が互いに仕切弁を介し
て直列に接続され、前記スパッタ室に主”ガス導入管系
が接続された連続スパッタ装置において、前記主ガス導
入管系に対しバイパス管系が接続され、該バイパス管系
のガス流量は前記主ガス導入管系のそれよりも大きく定
められたことを特徴とする連続スパッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19663982U JPS59100855U (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 連続スパツタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19663982U JPS59100855U (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 連続スパツタ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59100855U true JPS59100855U (ja) | 1984-07-07 |
| JPS6321573Y2 JPS6321573Y2 (ja) | 1988-06-14 |
Family
ID=30421766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19663982U Granted JPS59100855U (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 連続スパツタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59100855U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4933155U (ja) * | 1972-06-27 | 1974-03-23 | ||
| JPS56130470A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-13 | Hitachi Ltd | Sputtering apparatus |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP19663982U patent/JPS59100855U/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4933155U (ja) * | 1972-06-27 | 1974-03-23 | ||
| JPS56130470A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-13 | Hitachi Ltd | Sputtering apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6321573Y2 (ja) | 1988-06-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6011023U (ja) | 空気流量計測装置 | |
| JPS597229U (ja) | タ−ボチヤ−ジヤ用吸気管装置 | |
| JPS5876875U (ja) | 入口弁制御装置 | |
| JPS6029231U (ja) | 流量検出機構 | |
| JPS62188521U (ja) | ||
| JPS5877293U (ja) | バイパス法によるスポンジボ−ル含水装置 | |
| JPS60122360U (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPS60128714U (ja) | 液体浄化装置 | |
| JPS58148582U (ja) | 分配器 | |
| JPS5973424U (ja) | 放流設備 | |
| JPS58165584U (ja) | 空気分離装置の吸着器再生用ガス供給装置 | |
| JPS59141118U (ja) | 二次空気供給装置 | |
| JPS5878954U (ja) | 高炉ガス回収装置 | |
| JPS59139797U (ja) | 熱交換器の制御装置 | |
| JPS60152005U (ja) | 膨張タ−ビン装置 | |
| JPS58122744U (ja) | 過給デイ−ゼル機関におけるバイパス管装置 | |
| JPS5857508U (ja) | 弁の保護装置 | |
| JPS5984371U (ja) | 冷凍機用ツイン圧縮装置 | |
| JPS58122699U (ja) | 船舶の機関室内換気装置 | |
| JPS6012029U (ja) | ガス配管用安全装置 | |
| JPS6097303U (ja) | 蒸気タ−ビンのウオ−ミング装置 | |
| JPS60164618U (ja) | 消音器 | |
| JPS6063021U (ja) | エンジン駆動コンプレツサのサ−ジ防止装置 | |
| JPS5932108U (ja) | 機関のオイルク−ラシステム | |
| JPS60153813U (ja) | デイ−ゼル機関における排気装置 |