JPS59103768U - 高周波誘導加熱装置 - Google Patents

高周波誘導加熱装置

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JPS59103768U
JPS59103768U JP20230382U JP20230382U JPS59103768U JP S59103768 U JPS59103768 U JP S59103768U JP 20230382 U JP20230382 U JP 20230382U JP 20230382 U JP20230382 U JP 20230382U JP S59103768 U JPS59103768 U JP S59103768U
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JP
Japan
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induction heating
frequency induction
high frequency
heating device
container
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JP20230382U
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JPS6034026Y2 (ja
Inventor
裕行 大場
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東北金属工業株式会社
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Publication date
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • General Induction Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図はそれぞれ、本考案の要部の縦断面図
及び横断面図、第３図は本考案を単結晶育成炉に適用し
た実施例を端面図で示す。 図中、１は高周波誘導加熱コイル、２は支持金具、３は
支柱、４は耐熱板、５はるつぼ、６は容器、８はアフタ
ヒータ、９は保温筒、１０は融液、１１は単結晶体。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高周波誘導加熱コイルの内側に、るつぼを有し回転駆動
    機構により駆動される容器が配設され、該容器の上方に
    はアフタヒータ、保温筒等が配設されて成る高周波誘導
    加装装置に退いて、上記容器の上端部に対応する高さの
    上記コイルの内側１こ、同一水平面上にあるように複数
    の支持金具を設けて上記アフタヒータ、保温筒等を支持
    するようにしたことを特徴とする高周波誘導加熱装置。
JP20230382U 1982-12-28 1982-12-28 高周波誘導加熱装置 Expired JPS6034026Y2 (ja)

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JP20230382U JPS6034026Y2 (ja) 1982-12-28 1982-12-28 高周波誘導加熱装置

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JP20230382U JPS6034026Y2 (ja) 1982-12-28 1982-12-28 高周波誘導加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS59103768U true JPS59103768U (ja) 1984-07-12
JPS6034026Y2 JPS6034026Y2 (ja) 1985-10-09

Family

ID=30427775

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JP20230382U Expired JPS6034026Y2 (ja) 1982-12-28 1982-12-28 高周波誘導加熱装置

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JP (1) JPS6034026Y2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018193277A (ja) * 2017-05-18 2018-12-06 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018193277A (ja) * 2017-05-18 2018-12-06 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置

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JPS6034026Y2 (ja) 1985-10-09

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