JPS5913065A - 薄膜防食法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）発明の技術分野 本発明は、Ｎｉ系及びＮ１−Ｆｅ　　膜の防食法に係り
、特にＦ＊（連索中性うディカル）を含む低温プラズマ
にて表面処理を行かうことにより、耐食性を向上させる
薄膜防食法に関する。

（２）技術の背景および従来技術と問題点磁気バブルメ
モリや薄膜ヘッド等に用いられるＮｉ　−ｐｅ　　合金
膜は、Ｎ１とＦｅの標準酸化還元電位の差等に起因し、
腐食することがあった。

又、Ｎｉ系膜は、アルカリに対して耐食性を有するが、
酸化力の強いＨＮＯ３等には腐食される欠点があった。

これ等の腐食に対して、これまで有効な防食法がなかっ
た。

（３）発明の目的 本発明の目的は、Ｎｉ系またはＮｉ　−Ｊ’ｅ　　合金
薄膜の耐食性を向上させることにある。

（４）発明の構成 本発明は上記目的を達するため、Ｎｌ　　またはＮ１−
Ｆｅを主成分とする薄膜に於て、Ｆ＊（沸素中性うジイ
カル）を有するプラズマにて表面処理を行ない、当核膜
の耐食性を向上させる事を特徴とする薄膜防食法を提供
したものである。

即ち、本発明は、低温プラズマ処理を行ない、表面に安
定な　ＮｌＦ２層を作ることにより、Ｎｉ系Ｎ１−Ｆｅ
薄膜の耐食性を向上させるようにしたものである。

ＣＦ４ガスは、高周波励起により次の様に電離する０ ＣＦ４＋ｅ−→ＣＦ３＋＋　Ｆ＊＋　　２ｅ−このＦ＊
（連索中性うディカル）は極めて活性でＮ１−ｒｅ　　
合金の表面にＮ１とＦの結合を作るプラズマ処理を坏た
パー了ロイ（ＮｉＦｅ合金）薄膜　。

表面をｘｐｓ（Ｘ線光電子分光）分析すると通常　　゛
のＮ１金属、酸化Ｎｌの他にＮｌの沸化物のピークが確
認された。沸化物層は約２００Ｘであった。

この　ＮｉＦ２は水にほとんど不溶で、酸化力の強い塩
酸１．硫酸及び硝酸にとけず、極めて耐食性が良い。耐
食性評価のため、プレッシャー・クツカー・テス）（１
２１℃、水蒸気圧′２気圧中に放置）を咎なう履”、″
プラズマ処理をほどこさない部分は゛　　　　　　・１ ４８〜９６時間で腐食し、ピンホールが多数発生した。

一方表面、処理部は、９６時間でもピンホールの発生は
数個工メった。　　、　　　、（５）発明の実施例 パーマロイ（ＮＩ　−１１’ｅ　）膜を使用した磁気バ
ブルメモリチップでの実施例を述べる。

このバブルメモリは第１図に概略断面図で示す如＜、Ｇ
、Ｇ、Ｇ　（ガドリウム・カリウム・ガーネット）等か
らなる非磁性基板１上にバブルを保持しプルを伝搬させ
るパーマロイ膜３と、バブルメモリを制御するＡＡ！−
Ｃｕコンダクタ−４と、絶縁層５およびパッシベーショ
ン層６より構成される。

第２層目の絶縁層５が形成された後、電子ビーム蒸着法
によりパーマロイ膜３が約４００ＯＡ付着される。通常
蒸着後フォトリソグラフィー技術を用いて、パーマロイ
膜３は図示状態のパターンに形成される。本発明に係る
パターン形成方法では、パーマロイ膜３の付着後プラズ
マ処゛理し′ｃＮｌの沸化物からなる被膜３′を形成す
る。即ち、これはパーマロイ膜３の付着後−盲を竺２図
の平行平板型プラズマ・ドライ・エツチング装置、に入
れて、純ＣＦ４ガス圧ｌＸｌ０−１Ｔｏｒ、ｒパワー３
００〜４００Ｗで１〜５分間のプラズマ処理を施すこと
により、パーマロイ膜３上に被膜３′が形成される。

その後通常のフォト・リソグラフィーを行なって上述の
パーマロイパターンを得る。第２図図示の平行平板型プ
ラズマ・ドライエツチング装置は、ペルジャー７内の一
方の電極８が接地され、他方３− の試料台兼用の電極９にはマツチングボックス１０を介
゛してＲＦ電源・１１が接続している。・これにより電
極８．９間にＲＦ高も周波を加えベルジャ、−７内の　
ＣＦ４ガスを電離させる構造になっていもｔだ　ＣＦ４
ガスはペルジャー７、の流入口１・２・より流入し、排
気口１３より上述の一定ガス圧になパるように排気され
る。　　　　　　　・　□・　　１・本実施例では純Ｏ
Ｆ４ガスを、使用し・たが、数−の０２等他の低分圧・
の・ガスを□含、んでも同様の効果を出し′う各のは明
白である。又、ＣＦ４ガスに限らず一般にＦ＊を発生す
るハロゲン化炭素系ガス（ＣＨＰ３＋’　ｃ２Ｆ’６．
ＣａＦｓ）の使用も・可能であるｉＦ＊発生の手段もＲ
Ｆ高周波励起に限らずマイクロ波でも実施できる。又−
Ｎｌを主成分をする薄膜であれば、表面に）Ｊｌ沸、化
物層を形成しり、るので、耐食性を向上できることは明
らかである。

（６）発明の効果　　　　　　　・ 本発明によれば、簡単なプラズマ処理によりＮｉ、Ｎ１
−Ｆｅ　　膜の表面−安、牢、なＮ１の沸イ、ヒ〒層　
、を形成できるので、耐食性の向上に著しい効果が４− ある。　　　　　′

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法を磁気バブルメ・モリチップに適用
した時のチップ断面を示す図、第２図は本発明方法にお
いてプラズマ処理時に使用される一例の平行平板皺下ラ
イエツチング装置の構造を示・　す図である。・　□　
゛　　　　　　　　　・〔符号の説明〕・ ３・・・パーマロイ膜 ３′・・・ＮＩの濃化物被膜 □　　　′　　　　　　・ゝ　　　　□“　　：□ 、“１′、　” 、ト；ノ・ １　　　　　１　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１５　　　　　　・　、　　、　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　“７゛・ｌ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ＮｌｔたはＮｉ−Ｆｅを主成分とする薄膜に於て、２本
   （連索中性うディカル）を有するプラズマにて表面処理
   を行ない、尚該膜にＮ１の沸化物を被膜してなることを
   特徴とする薄膜防食法。