JPS59134647A - 光学部品の研磨方法および研磨具 - Google Patents
光学部品の研磨方法および研磨具Info
- Publication number
- JPS59134647A JPS59134647A JP687783A JP687783A JPS59134647A JP S59134647 A JPS59134647 A JP S59134647A JP 687783 A JP687783 A JP 687783A JP 687783 A JP687783 A JP 687783A JP S59134647 A JPS59134647 A JP S59134647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- workpiece
- molded
- mold
- polishing tool
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 54
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 239000011363 dried mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000011874 heated mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 4
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 abstract 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 5
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000007518 final polishing process Methods 0.000 description 2
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 241000283973 Oryctolagus cuniculus Species 0.000 description 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- 241000124033 Salix Species 0.000 description 1
- 239000013040 bath agent Substances 0.000 description 1
- SHZGCJCMOBCMKK-KGJVWPDLSA-N beta-L-fucose Chemical compound C[C@@H]1O[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H]1O SHZGCJCMOBCMKK-KGJVWPDLSA-N 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- TXKMVPPZCYKFAC-UHFFFAOYSA-N disulfur monoxide Inorganic materials O=S=S TXKMVPPZCYKFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical compound S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B13/00—Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はレンズ、プリズム等の光学部品の研磨方法お
よびこれに用いる仙齢具に関するものである。
よびこれに用いる仙齢具に関するものである。
光学部品の研磨方法はその1J11工治具の改良または
研ト剤の改良等に件って2辻に変革している。一般に、
この柳の研磨方決、予め加工形状に成形された押し生地
を素成形する荒摺り工程と、素成形された被加工部品を
所望の形状に整形する砂掛は工程と、砂掛けに糾いて鏡
面精研(中仕上げ)する精研工程と、如終仕上げを行な
う研磨工程とからなる。
研ト剤の改良等に件って2辻に変革している。一般に、
この柳の研磨方決、予め加工形状に成形された押し生地
を素成形する荒摺り工程と、素成形された被加工部品を
所望の形状に整形する砂掛は工程と、砂掛けに糾いて鏡
面精研(中仕上げ)する精研工程と、如終仕上げを行な
う研磨工程とからなる。
しかるに、光′481S品のp<y5度と原価低減を計
るため、高速反でかつ品質のよい研磨方決が次々と考え
られている。例えば、荒摺り工程においては、カーブジ
ェネレーター製筒(CG)による整形方法がbe %さ
れた、すなわち上述した従来の工程のうち荒摺りと砂掛
けとを同一の工程にて行なわれるようになった。
るため、高速反でかつ品質のよい研磨方決が次々と考え
られている。例えば、荒摺り工程においては、カーブジ
ェネレーター製筒(CG)による整形方法がbe %さ
れた、すなわち上述した従来の工程のうち荒摺りと砂掛
けとを同一の工程にて行なわれるようになった。
また、従来の精研工程ではピッチ剤を研磨面に貼着して
研磨が実施されていたが、これに代り金属粉末若しくは
レジン粉末又はダイヤモンド粉末をシートに含浸せしめ
たものを用いるシート研磨方法、所謂プリサイスゲライ
ニング(p G)が開発され、て研磨の筒辷化が量産化
と共に進歩してきた。また、最終仕上げの研磨工程では
研磨剤を研磨面に塗布しながら研磨していたが、上述し
たPGのような研磨具の進歩により研磨加工が高速にな
り、また研磨剤の代りに水による研磨方法も提案されて
いる。
研磨が実施されていたが、これに代り金属粉末若しくは
レジン粉末又はダイヤモンド粉末をシートに含浸せしめ
たものを用いるシート研磨方法、所謂プリサイスゲライ
ニング(p G)が開発され、て研磨の筒辷化が量産化
と共に進歩してきた。また、最終仕上げの研磨工程では
研磨剤を研磨面に塗布しながら研磨していたが、上述し
たPGのような研磨具の進歩により研磨加工が高速にな
り、また研磨剤の代りに水による研磨方法も提案されて
いる。
その上、従来の荒摺り工程と砂掛は工程とを併用するC
a法や、従来の砂掛は工程と精研工程とを併用するPC
)法等の種々の加工方決が開発されてきたが、中仕上げ
の精研工程と最終仕上げの研磨工程とを併用する加工方
法は未だ開発されておらず、その開発が当該技術分野で
永い間の要望でもあった。すなわち、荒摺り工程と砂掛
は工程とを併用した0G工程に加えて、精研工程と研磨
工程とを併用する研磨工程を1泊発することが強く要望
されている。
a法や、従来の砂掛は工程と精研工程とを併用するPC
)法等の種々の加工方決が開発されてきたが、中仕上げ
の精研工程と最終仕上げの研磨工程とを併用する加工方
法は未だ開発されておらず、その開発が当該技術分野で
永い間の要望でもあった。すなわち、荒摺り工程と砂掛
は工程とを併用した0G工程に加えて、精研工程と研磨
工程とを併用する研磨工程を1泊発することが強く要望
されている。
この発明は上記費望を満足する研磨方法と、これに用い
る研締具とを提供せんとするもので、被加工素材に成形
された押し生地をカーブジェネレーターにより素、波形
する工程と、酵素成形された加工部品をフェノールレシ
ンと、酸化セリウムと、硬化剤とよりなる固形砥粒の研
磨具にて研磨する工程とよりなる光学部品の研磨方法と
、フェノールレジンと酸化セリウムと、硬化剤との混合
物を加熱し、強静1乾燥し、粗砕後置形化してなる光学
部品用研磨具にある。
る研締具とを提供せんとするもので、被加工素材に成形
された押し生地をカーブジェネレーターにより素、波形
する工程と、酵素成形された加工部品をフェノールレシ
ンと、酸化セリウムと、硬化剤とよりなる固形砥粒の研
磨具にて研磨する工程とよりなる光学部品の研磨方法と
、フェノールレジンと酸化セリウムと、硬化剤との混合
物を加熱し、強静1乾燥し、粗砕後置形化してなる光学
部品用研磨具にある。
次に、この発明の一実施例を図面に基いて説明する。
第1図に示す従来の光学部品の研磨方法においては、ま
ず被加工素材を予め目的形状に合わせて押し生地に成形
し、これをは!目的の寸法、例えば只の外径および厚さ
近くの形状に切削加工し、カーブジェネレーター(CG
)による工程を経て中仕上げ加工、すなわちpcによる
精研加工を行なう。次に、この被加工部品を最終仕上げ
である研磨工程に施して所望の加工部品を得る。
ず被加工素材を予め目的形状に合わせて押し生地に成形
し、これをは!目的の寸法、例えば只の外径および厚さ
近くの形状に切削加工し、カーブジェネレーター(CG
)による工程を経て中仕上げ加工、すなわちpcによる
精研加工を行なう。次に、この被加工部品を最終仕上げ
である研磨工程に施して所望の加工部品を得る。
上述した従来の精研工程に用いる研磨具は、第5図に示
すように半円形状の研磨面1の内周面に被加工部品の研
磨面と同−形状のR部を形成するようダイヤモンド粉末
または金属粉末等を含浸せしめたシート2を貼着してな
るものである。この研磨具により精研された被加工部材
は、シート2の代りに、ピッチ剤を内周面に貼着した研
磨面1により最終仕上げのため研磨加工される。
すように半円形状の研磨面1の内周面に被加工部品の研
磨面と同−形状のR部を形成するようダイヤモンド粉末
または金属粉末等を含浸せしめたシート2を貼着してな
るものである。この研磨具により精研された被加工部材
は、シート2の代りに、ピッチ剤を内周面に貼着した研
磨面1により最終仕上げのため研磨加工される。
従来の研磨方法では、上述したように精研工程と研磨工
程との間で研磨面の内周面に貼着する研磨剤を替えて研
磨加工を行なう必要がある。また、研磨加工中に只の変
形を生じるので、加工中にその修正を行なわねばならな
い。さらに、ピッチ剤は研磨毎に研磨面の内周面に貼着
しなけれはならない。このように、従来の研磨方法は4
大′セ時間生労力を要する欠点がある。
程との間で研磨面の内周面に貼着する研磨剤を替えて研
磨加工を行なう必要がある。また、研磨加工中に只の変
形を生じるので、加工中にその修正を行なわねばならな
い。さらに、ピッチ剤は研磨毎に研磨面の内周面に貼着
しなけれはならない。このように、従来の研磨方法は4
大′セ時間生労力を要する欠点がある。
次に、この発明の研磨方法を第2図にて説明する。第2
図からもり」らかな如く、押し生地およびCG工程は第
1図に示す従来法と同一工程であり、ここでは観明を省
略する。この発明が従来法と全く集なるのは精研・研磨
工程であり、これについて以後説明する。
図からもり」らかな如く、押し生地およびCG工程は第
1図に示す従来法と同一工程であり、ここでは観明を省
略する。この発明が従来法と全く集なるのは精研・研磨
工程であり、これについて以後説明する。
この精研・研磨工程に用いる研磨具は第3図に示すフロ
ーシートに従って製造した研磨面1の内面に貼着された
ブロック砥石3(第6図)よりなる。ブロック砥石3は
、第3図ニ示スように結合剤としてのフェノールレジン
をまず有機溶剤に溶解し、これに酸化セリウム研磨剤と
硬化剤とを添加してこれらを均一に湿式混合し、生成し
た混合物を150〜170℃で熟成して有機浴剤を除去
し、次いで強制乾燥して成型材料を形成する。
ーシートに従って製造した研磨面1の内面に貼着された
ブロック砥石3(第6図)よりなる。ブロック砥石3は
、第3図ニ示スように結合剤としてのフェノールレジン
をまず有機溶剤に溶解し、これに酸化セリウム研磨剤と
硬化剤とを添加してこれらを均一に湿式混合し、生成し
た混合物を150〜170℃で熟成して有機浴剤を除去
し、次いで強制乾燥して成型材料を形成する。
フェノールレシンとしては掠々のものを用いることがで
きるが、特にカシュウ変戒フェノールレジンの使用が好
ましい−、丁た、饅化セリウム研磨剤としては下記に示
すような組成および比率を有するものが最も好ましい。
きるが、特にカシュウ変戒フェノールレジンの使用が好
ましい−、丁た、饅化セリウム研磨剤としては下記に示
すような組成および比率を有するものが最も好ましい。
酸化硫黄 (S04・)1.2%
酸化鉄 CFe*Os I 0.5%酸化ラ
ンタン (La20s)9.0%酸化セリr>ム(Ce
Oz) 86.0%酸化プルトニウム (Pro
O1ト) 0−8%酸化ネオジウム (、l’
Jdt Os ) 2−5%e化セリウム研磨剤と
、カシュウ変成フェノールレジンと、硬化剤とを下記の
混合比率で混合する: 酸化セリウム研磨剤 85〜95%カシュウ
昶成フェノールレジン 5〜15%硬 化 剤
0.2〜0.4%上記混合比亭にお
いて、研磨剤が上限を越えて多くなりすぎると、生成す
る砥石の硬度および強度が低下し、また逆に下限値より
少ないと、耐久性および摩擦性に影響して研磨精度が低
下する。一方、フェノールレジンが多過ぎると硬くなり
、少な過ぎると柔かく耐久性かなくなるなどの障害が生
ずる。この点に関L、第71dにフェノールレシンのN
(%)に対する成型ブロック3のシミアール硬&の関係
を示す。第7図から、ブロック3の硬軟がフェノールレ
シンの焔によって変1.するため、フェノールレジンの
適Nと研磨剤および硬化剤(ハ配合比か極めて重要なこ
とが明らかになる。
ンタン (La20s)9.0%酸化セリr>ム(Ce
Oz) 86.0%酸化プルトニウム (Pro
O1ト) 0−8%酸化ネオジウム (、l’
Jdt Os ) 2−5%e化セリウム研磨剤と
、カシュウ変成フェノールレジンと、硬化剤とを下記の
混合比率で混合する: 酸化セリウム研磨剤 85〜95%カシュウ
昶成フェノールレジン 5〜15%硬 化 剤
0.2〜0.4%上記混合比亭にお
いて、研磨剤が上限を越えて多くなりすぎると、生成す
る砥石の硬度および強度が低下し、また逆に下限値より
少ないと、耐久性および摩擦性に影響して研磨精度が低
下する。一方、フェノールレジンが多過ぎると硬くなり
、少な過ぎると柔かく耐久性かなくなるなどの障害が生
ずる。この点に関L、第71dにフェノールレシンのN
(%)に対する成型ブロック3のシミアール硬&の関係
を示す。第7図から、ブロック3の硬軟がフェノールレ
シンの焔によって変1.するため、フェノールレジンの
適Nと研磨剤および硬化剤(ハ配合比か極めて重要なこ
とが明らかになる。
次に、上述した配合割合よりなるp・イ型材料を第4図
に示す金型に入れて成型ブロック3(第6図a)を製造
する。
に示す金型に入れて成型ブロック3(第6図a)を製造
する。
第4図aに断面で示す金型において、符号4は中央に成
形品の寸法に対応して形成された円形の突起5を備えた
下型である。下型4の上方には下型4の平面と突起5の
外径と精密に嵌合する側壁円筒体6が装着されている。
形品の寸法に対応して形成された円形の突起5を備えた
下型である。下型4の上方には下型4の平面と突起5の
外径と精密に嵌合する側壁円筒体6が装着されている。
さらに、側壁円筒体6の内径上方には、下型4と同じ寸
法、形状で突起7を備えたT字状の上型8が嵌合装着さ
れている2、そして、下型Aの突起5と上型8の突起7
との間にブロック形成用の成型材料が充填されている。
法、形状で突起7を備えたT字状の上型8が嵌合装着さ
れている2、そして、下型Aの突起5と上型8の突起7
との間にブロック形成用の成型材料が充填されている。
成型ブロックを製造するに節し、まず下型4上に側壁円
筒「体6を嵌合装着し、突起5上で円筒体間内に第3図
の70−シートに従って得た成型材料を適量充填し、上
型8を嵌合装着し、150〜170℃に加熱しながら上
型8を下型4の方へ押圧する。しかる後、上型8を円筒
体6より離脱し、さらに該円筒体6を下型4より上方に
離脱せしめ、生成した成型ブロック3を下型4より離脱
して得る。
筒「体6を嵌合装着し、突起5上で円筒体間内に第3図
の70−シートに従って得た成型材料を適量充填し、上
型8を嵌合装着し、150〜170℃に加熱しながら上
型8を下型4の方へ押圧する。しかる後、上型8を円筒
体6より離脱し、さらに該円筒体6を下型4より上方に
離脱せしめ、生成した成型ブロック3を下型4より離脱
して得る。
このようにして得た円形の成型ブロック3の一方の面を
、第6図すに示すように、底面が平坦な円形の研磨皿1
に接合し、研磨皿1の中心を例えば旋盤等のチ°ヤック
に嵌着させた後、ブロック3の他方の面を所望の曲率R
の形状に切削整形すると同時に研磨時の給水用溝9(第
6図C)を形成し、これを用いてこの発明の精研−研磨
工程を実施する。
、第6図すに示すように、底面が平坦な円形の研磨皿1
に接合し、研磨皿1の中心を例えば旋盤等のチ°ヤック
に嵌着させた後、ブロック3の他方の面を所望の曲率R
の形状に切削整形すると同時に研磨時の給水用溝9(第
6図C)を形成し、これを用いてこの発明の精研−研磨
工程を実施する。
第4図すは成型ブロックを製造するのに用いる金型の他
の例を示す〜「面図である。一般に、成型ブロック3を
金型から離脱させる際、金型に傷かあったり汚れている
場合、若しくは成型温度が高い場合、又は上下の型温度
が不均一な場合等によりブロックの型離れが恕<、金型
を叩いてブロックを離型させなければならない場合が多
く生じる。すなわち、か\る離型作業は極めて多大な労
力を必要とするばかりか、金型の破損や成型ブロックの
す損等を生じる危険がある。この離型作業を容易にする
ため、成型材料を金型に充填する際、離型剤を予め金型
に塗布しておく方法が通常使用されている。すなわち、
下型4の突起5の上面と、側壁円筒体6の内壁面および
上型8の突起7の下面にそれぞれ離型剤を塗布する方法
である。し力1し、離型剤を敵布しても離型が困難な場
合がある。第4図すに示す金型は上述した欠点を解消し
、離型を更に容易にするものである。
の例を示す〜「面図である。一般に、成型ブロック3を
金型から離脱させる際、金型に傷かあったり汚れている
場合、若しくは成型温度が高い場合、又は上下の型温度
が不均一な場合等によりブロックの型離れが恕<、金型
を叩いてブロックを離型させなければならない場合が多
く生じる。すなわち、か\る離型作業は極めて多大な労
力を必要とするばかりか、金型の破損や成型ブロックの
す損等を生じる危険がある。この離型作業を容易にする
ため、成型材料を金型に充填する際、離型剤を予め金型
に塗布しておく方法が通常使用されている。すなわち、
下型4の突起5の上面と、側壁円筒体6の内壁面および
上型8の突起7の下面にそれぞれ離型剤を塗布する方法
である。し力1し、離型剤を敵布しても離型が困難な場
合がある。第4図すに示す金型は上述した欠点を解消し
、離型を更に容易にするものである。
第4゛図すの金型はm型補助板10.11を用いること
以外第4図aのものと基本的に同一の構造を有する。第
4図すの金型を用いて成型ブロックを製造するには、下
型4の突起5の上面と、上型Bの突起Tの下面にそれぞ
れ#S型補助板10.11を配置すると共に、これら補
助板10.11の成型材料と接する側の面にそれぞれ離
型剤を塗布しておく。このような補助板10.11と離
型剤とを併用しても離型がまた困難な場合には、補助板
10の上面と補助板11の下面との各々に組型紙を介在
させ、これら離型紙の成型材料に接する側の面に離型剤
を塗布すれば、離型を一層容易に実施し得る。
以外第4図aのものと基本的に同一の構造を有する。第
4図すの金型を用いて成型ブロックを製造するには、下
型4の突起5の上面と、上型Bの突起Tの下面にそれぞ
れ#S型補助板10.11を配置すると共に、これら補
助板10.11の成型材料と接する側の面にそれぞれ離
型剤を塗布しておく。このような補助板10.11と離
型剤とを併用しても離型がまた困難な場合には、補助板
10の上面と補助板11の下面との各々に組型紙を介在
させ、これら離型紙の成型材料に接する側の面に離型剤
を塗布すれば、離型を一層容易に実施し得る。
第4図a又はbに示す金型を用いて得た成型ブロック3
を前述した如く研、管面1に接合すると同時に任意所望
の形状に整形したものを用いることにより、任意形状の
光学部品を研磨することができる。また、従来の研磨法
によれば研磨皿の研磨面に狂いを生じて修正したり、ま
た研磨皿の使用が不可能になり再生を行なう等の障害が
生じていたが、この発明によれは成型ブロックを一回だ
け整形することにより多数の光学部品を連続して研磨す
ることができ、また研磨の尚連化にも耐えると共にゼ産
研酌にも適するなどの多大の効果を奏する。
を前述した如く研、管面1に接合すると同時に任意所望
の形状に整形したものを用いることにより、任意形状の
光学部品を研磨することができる。また、従来の研磨法
によれば研磨皿の研磨面に狂いを生じて修正したり、ま
た研磨皿の使用が不可能になり再生を行なう等の障害が
生じていたが、この発明によれは成型ブロックを一回だ
け整形することにより多数の光学部品を連続して研磨す
ることができ、また研磨の尚連化にも耐えると共にゼ産
研酌にも適するなどの多大の効果を奏する。
第1図は従来の光学部品の研磨方法の工程を示すフロー
シート、第2図はこの発明の光学部品の研磨方法の工程
を示すフローシート、第3図はこの発明に用いる研磨具
の製造工程を示す70−シート、嬉4図aおよびbはそ
れぞれこの発明に係る研磨具を製造するのに用いる金型
の線図的断面図、第5図は従来の光学部品用研暦具の線
図的断面図、第6図はこの発明の研磨具を示すもので、
aは成凋ブロックの断面図、bは他M具の島r面図、0
は研磨具を成型ブロック側力)ら見た平面図、第7図は
フェノールレジンの量と生成する成型ブロックの硬度と
の関係を示すグラフである0 1・・0研磨皿 3・・・成型プ四ツク 4・・・下 型 5.71]突 起 8・・・上 型 9Φ−・給水用溝 10.11・・・離型液助板 特許 出願人 オリンパス光学工業株式会社第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 (C1) (b) 、 (c) し ジ ン 量 (チ) 手続補正書(自発) 1、事件の表示 昭和58年特 許願第6877号 発明の名称 2 光学部品の研磨方法および研磨具3 補正をする
者 事件との関係 特許出願人 M”’+W 東京都渋谷区幅ヶ谷2丁目43番2号4
、代理人 明細曹の「発明の詳細な説明」の掴及び図面8、補正の
内容 (1)明細曹第2頁第6行目から同第4頁第14行目ま
での記載を下記の洩り補正する。 [光学部品のHm方法はその加工治具の改良または研磨
剤の改良等に伴って急速に変革している。一般に、この
榎の研磨方法、予め加工形状に成形された押し生地を集
成形する荒摺り工程と、集成形された被加工部品ケ所望
の形状に整形する砂掛は工程と、最終仕上げを行なう研
磨工程とからなる。 しかるに、光学部品の需要度と原価低減を計るため、高
速度でかつ品質のよい研磨方法が次々と考えられている
。例えば、兎摺り工程においては、カーブジェネレータ
ー装置t(CG)による歪形方法が開発された。すなわ
ち上述した従来の工程のうち荒摺りか短時間で加工出来
る様になった。 また、従来の砂畑は工程では砂を水で浴かした切q+」
液を研磨面に墜布し砂!にけ皿で加工していた1J)、
これに代り金属粉末若しくはレジン粉末又はダイヤモン
ド粉末°をシートに含浸せしめたものを用いるシート研
磨方法、所謂プリサイスゲライニング(PG)が開発さ
れて研磨の尚連化が量産化と共に進歩してきた。また、
最終仕上げの研磨工程では研磨剤を研磨面に塗布しなか
ら研磨していたが、上述したPGのような研磨具の進歩
により幼心加工が高速になり、また研磨剤の代りに水に
よる研磨方法も提案されている。 従来の荒摺り工程のCG化、そして砂掛は工程のPG化
等か開発されてきたが、中仕上げの精研工程と最終仕上
げのイυti工程とな併用する加工方法は未だ開発され
ておらず、その開発が当該技術分野で永い間の要望でも
あった。 この発明は上記要望を満足する研磨方法と、これに用い
る研磨具とを徒供せんとするもので、被加工素材に成形
された押し生地をカーブジェネレーターにより集成形す
る工程と、レジン粒末又はダイヤモンド粒末を含浸した
砥粒な用いたPG工程、そして該集成形された加工部品
をフェノールレジンと、酸化セリウムと、硬化剤とより
なる固形砥粒の研磨具にて研磨する工程とよりなる光学
部品の研磨方法と、フェノールレジンと酸化セリウムと
、硬化剤との混合物を加熱し、強制乾燥し、粗砕後置形
化してなる光学部品用研磨具にある。」 (2) 図中、第6図Cを別紙の逝り補正する。 9、添付書類の目録 (1)補 正 図 面 1通 第6図 (C)
シート、第2図はこの発明の光学部品の研磨方法の工程
を示すフローシート、第3図はこの発明に用いる研磨具
の製造工程を示す70−シート、嬉4図aおよびbはそ
れぞれこの発明に係る研磨具を製造するのに用いる金型
の線図的断面図、第5図は従来の光学部品用研暦具の線
図的断面図、第6図はこの発明の研磨具を示すもので、
aは成凋ブロックの断面図、bは他M具の島r面図、0
は研磨具を成型ブロック側力)ら見た平面図、第7図は
フェノールレジンの量と生成する成型ブロックの硬度と
の関係を示すグラフである0 1・・0研磨皿 3・・・成型プ四ツク 4・・・下 型 5.71]突 起 8・・・上 型 9Φ−・給水用溝 10.11・・・離型液助板 特許 出願人 オリンパス光学工業株式会社第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 (C1) (b) 、 (c) し ジ ン 量 (チ) 手続補正書(自発) 1、事件の表示 昭和58年特 許願第6877号 発明の名称 2 光学部品の研磨方法および研磨具3 補正をする
者 事件との関係 特許出願人 M”’+W 東京都渋谷区幅ヶ谷2丁目43番2号4
、代理人 明細曹の「発明の詳細な説明」の掴及び図面8、補正の
内容 (1)明細曹第2頁第6行目から同第4頁第14行目ま
での記載を下記の洩り補正する。 [光学部品のHm方法はその加工治具の改良または研磨
剤の改良等に伴って急速に変革している。一般に、この
榎の研磨方法、予め加工形状に成形された押し生地を集
成形する荒摺り工程と、集成形された被加工部品ケ所望
の形状に整形する砂掛は工程と、最終仕上げを行なう研
磨工程とからなる。 しかるに、光学部品の需要度と原価低減を計るため、高
速度でかつ品質のよい研磨方法が次々と考えられている
。例えば、兎摺り工程においては、カーブジェネレータ
ー装置t(CG)による歪形方法が開発された。すなわ
ち上述した従来の工程のうち荒摺りか短時間で加工出来
る様になった。 また、従来の砂畑は工程では砂を水で浴かした切q+」
液を研磨面に墜布し砂!にけ皿で加工していた1J)、
これに代り金属粉末若しくはレジン粉末又はダイヤモン
ド粉末°をシートに含浸せしめたものを用いるシート研
磨方法、所謂プリサイスゲライニング(PG)が開発さ
れて研磨の尚連化が量産化と共に進歩してきた。また、
最終仕上げの研磨工程では研磨剤を研磨面に塗布しなか
ら研磨していたが、上述したPGのような研磨具の進歩
により幼心加工が高速になり、また研磨剤の代りに水に
よる研磨方法も提案されている。 従来の荒摺り工程のCG化、そして砂掛は工程のPG化
等か開発されてきたが、中仕上げの精研工程と最終仕上
げのイυti工程とな併用する加工方法は未だ開発され
ておらず、その開発が当該技術分野で永い間の要望でも
あった。 この発明は上記要望を満足する研磨方法と、これに用い
る研磨具とを徒供せんとするもので、被加工素材に成形
された押し生地をカーブジェネレーターにより集成形す
る工程と、レジン粒末又はダイヤモンド粒末を含浸した
砥粒な用いたPG工程、そして該集成形された加工部品
をフェノールレジンと、酸化セリウムと、硬化剤とより
なる固形砥粒の研磨具にて研磨する工程とよりなる光学
部品の研磨方法と、フェノールレジンと酸化セリウムと
、硬化剤との混合物を加熱し、強制乾燥し、粗砕後置形
化してなる光学部品用研磨具にある。」 (2) 図中、第6図Cを別紙の逝り補正する。 9、添付書類の目録 (1)補 正 図 面 1通 第6図 (C)
Claims (2)
- (1)被加工素材に成形された押し生地をカーブジェネ
レーターにより紫成形する工程と、該素成形された加工
部品をフェノールレジンと、酸化セリウムと、嫉化剤と
よりなる后;彫砥粒の研M具にて研磨する工程とよりな
ることを特徴とする光学部品の研磨方法。 - (2)フェノールレジンと、酸化セリウムと、硬化剤と
の混合物を加熱し、強itiUNmし、粗砕後「!(形
化してなる光学部品用研磨具。 (317エレールレジンを有機溶剤に俗解する工程と、
これに酸化セリウムと硬化剤とを添加し、均一に混合す
る工程と、混合物を加熱する工程と、加熱己れた混合物
を強制乾燥する工程と、乾燥された混合物を粉砕する工
程と、粗砕物を熱圧プレスにて固形化する工程とよりな
ることを特徴とする光学部品用研磨具の製造方法1、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP687783A JPS59134647A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | 光学部品の研磨方法および研磨具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP687783A JPS59134647A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | 光学部品の研磨方法および研磨具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59134647A true JPS59134647A (ja) | 1984-08-02 |
Family
ID=11650449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP687783A Pending JPS59134647A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | 光学部品の研磨方法および研磨具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59134647A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6464766A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-10 | Tadatomo Suga | Machining method for specular surface of hard and brittle material and grinding wheel member used therefor |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5279398A (en) * | 1975-11-11 | 1977-07-04 | Showa Denko Kk | Polishing device for glass face finishing |
| JPS5451091A (en) * | 1977-09-29 | 1979-04-21 | Fujimi Kenmazai Kougiyou Kk | Glass polishing material |
| JPS54164083A (en) * | 1978-05-24 | 1979-12-27 | Minnesota Mining & Mfg | Fininggsheet*its preparation and fining method of vitreous surface |
-
1983
- 1983-01-19 JP JP687783A patent/JPS59134647A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5279398A (en) * | 1975-11-11 | 1977-07-04 | Showa Denko Kk | Polishing device for glass face finishing |
| JPS5451091A (en) * | 1977-09-29 | 1979-04-21 | Fujimi Kenmazai Kougiyou Kk | Glass polishing material |
| JPS54164083A (en) * | 1978-05-24 | 1979-12-27 | Minnesota Mining & Mfg | Fininggsheet*its preparation and fining method of vitreous surface |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6464766A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-10 | Tadatomo Suga | Machining method for specular surface of hard and brittle material and grinding wheel member used therefor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1099940C (zh) | 磨料制品 | |
| JP5503150B2 (ja) | 微細トリミングのための研削砥石、研削砥石の使用ならびにその製造方法及び装置 | |
| CN1102800A (zh) | 磨料制品、它的制造方法以及用它来研磨工件表面的方法 | |
| TW478995B (en) | Method of polishing stainless steel laminate press plates to a nondirectional finish | |
| CN105081996A (zh) | 一种软弹性抛光磨具的制备工艺 | |
| KR101524297B1 (ko) | 판유리 연마용 탄성휠 및 그 제조방법 | |
| JPS59134647A (ja) | 光学部品の研磨方法および研磨具 | |
| JPH08506769A (ja) | 脆性材料製部材の機械加工方法およびこの方法を実施する装置 | |
| JP2971764B2 (ja) | 砥粒固定型研磨定盤 | |
| US7338712B2 (en) | Coating composition for a smoothing and/or polishing element and a grinding wheel provided with said coating composition | |
| US1651181A (en) | Tool for treating ophthalmic lenses and process of making same | |
| JP2002178265A (ja) | 陰極線管パネルフェース面研磨のための超研磨材砥石組成物とこれを用いた超研磨材工具およびその製造方法 | |
| CN109531454A (zh) | 一种橡胶磨具的制备方法 | |
| JPS62107954A (ja) | 可塑性研磨材料 | |
| US2921419A (en) | Grinding and polishing of glass sheets | |
| KR20220165911A (ko) | 폴리싱용 연마지 및 이의 제조방법 | |
| JP2002126987A (ja) | 光学素子加工方法 | |
| JPH0536193B2 (ja) | ||
| JP3065987U (ja) | 超砥粒研削定盤 | |
| JP3359553B2 (ja) | レジノイド砥石の製造方法および成形装置 | |
| KR102820659B1 (ko) | 슈퍼피니싱용 연삭숫돌 및 그 제조방법 | |
| KR20030047929A (ko) | 연마패드 및 그 제조방법 | |
| JPS58171262A (ja) | 砥石及びその製法 | |
| USRE19318E (en) | Abrasive article | |
| JP2001138196A (ja) | 研磨工具の製造方法、研磨加工方法、研磨工具及び光学素子またはその金型 |