JPS5913609Y2 - 液晶空間変調器 - Google Patents

液晶空間変調器

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Publication number
JPS5913609Y2
JPS5913609Y2 JP1975136940U JP13694075U JPS5913609Y2 JP S5913609 Y2 JPS5913609 Y2 JP S5913609Y2 JP 1975136940 U JP1975136940 U JP 1975136940U JP 13694075 U JP13694075 U JP 13694075U JP S5913609 Y2 JPS5913609 Y2 JP S5913609Y2
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JP
Japan
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liquid crystal
spatial modulator
phase plate
crystal spatial
pattern
Prior art date
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Expired
Application number
JP1975136940U
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English (en)
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JPS5250074U (ja
Inventor
恵一 窪田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS5250074U publication Critical patent/JPS5250074U/ja
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  • Holo Graphy (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案はフーリエ変換ホログラムの製作に用いるマト
リクス形式の表示を行なうための液晶空間変調器に関す
るものである。
フーリエ変換ホログラムは高密度記録と冗長性を持つた
めに、大容量メモリとして注目されている。
マトリクス状にバイナリ−に表示されたパターンのフー
リエ変換ホログラムはマトリクス状パターンを表示する
空間変調器を用いて製作される。
しかし、マトリクス状にバイナリ−に表示されたパター
ンのフーリエ変換パターンは、その周期的配列のため局
所的に急峻な強度ピークを持っているので、そのまま忠
実に感光材料に記録することはできない。
そこで、表示パターンと同じピッチを有し、ランダムな
光学的位相差を与える位相板を用いて、これを表示パタ
ーンに重ねることによりフーリエ変換パターンの急峻な
強度ピークを押さえる方法が用いられている。
マトリックス状にパターンを表示する空間変調器は種々
考案されており、機械的シャッター列、液晶、電気光学
結晶等を用いたものがあるが、十分なS/N、書き込み
速度と大きさを有するのは液晶空間変調器である。
液晶空間変調器に位相板を重ねると、液晶セルを構成し
ているガラス基板の厚みだけパターン表示部分と位相板
が離れてしまう。
レンズなしで再生できるフーリエ変換ホログラム作製に
おいては、空間変調器に光が斜めに入射し、その入射角
もレンズの移動につれて変化する。
このために位相板のパターンと空間変調器のパターンが
ずれてしまい、位相板の効果を滅じてしまう。
これを解決するためには、液晶空間変調器のガラス基板
を薄くすれば良いがガラスの強度および平面度の問題で
難しい。
このため従来は液晶、空間変調器に入射する光は垂直入
射するような光学系構成がとられ、再生にレンズを必要
とせざるを得なかった。
この考案は上記の欠点を除き、斜入射光に対してもラン
ダム位相効果を有する液晶空間変調器を提供することに
ある。
この考案によれば、内側に透明電極を付けた透明基盤と
、内側に透明電極および空間的にランダム配置されかつ
光学的位相差(nl−nz)dがλ/2を与えるような
膜厚をもつ薄膜を付けた透明基盤との間に、表示機能を
有する液晶を充填した液晶空間変調器を得ることができ
る。
本考案の各構成要素に類似したものが、特開昭47−1
1737、第21回応用物理学関係連合講演会講演予稿
集1.P167(以下応物学会予稿集と略記する)、特
開昭48−96141に記載されている。
しかし、特開昭47−11737号公報は、液晶を用い
た光学セルで特にホログラム記憶に用いるものに関する
ものであり、応物学会予稿集はホログラム作成に必要な
IC−変換素子のひとつである液晶−光電導体素子に関
するものである。
また、特開昭48−96141号公報は物体面上に位相
成分が段々状に変化する位相板を設置してホログラムを
記録する方式に関するものである。
これら文献には本考案の構成要素である液晶を用いたホ
ログラフィ用空間変調器でバイナリ−パターンに位相差
を付与する位相板を備えたものは記載されていない。
これら文献に記載された技術を組み合わせた場合に得ら
れる構成は、位相板と液晶空間変調器を重ねることであ
る。
しかし、位相板と液晶空間変調器を重ねる。
または両者を接着した場合には液晶空間変調器のガラス
基盤の厚み分だけパターン表示部分と位相板が離れ、空
間変調器に光が斜めに入射した場合に両者のパターンが
ずれるために位相板の効果が減じてしまう。
したがって位相板と液晶空間変調器のパターン表示部を
できるだけ接近する必要がある。
このために空間変調器のガラス基盤を薄くすることは強
度的に限界があって実現できない。
この考案はかかる点において行なわれたもので、液晶空
間変調器内部のパターン表示部下に位相板を構成したも
のである。
すなわち、液晶による表示パターンを駆動するための透
明電極下に屈折率の異なる位相膜をランダムに配置せし
めることによってパターン表示部(液晶)に隣りあって
位相板が構成されるので斜入射光によるパターンずれの
問題点はなくなる。
また、透明電極部は下部に位相膜の有無によって段差が
あるのは、好ましくなくこのために高屈折率による位相
膜を覆って低屈折率の絶縁膜を一様につけ、両者の屈折
率差による位相差を得るようになされており、従来のラ
ンダム位相板とは構造を異にしている。
したがって、本考案は前記文献の技術思想とは異るもの
である。
以下、この考案について図面を参照しつつ詳しく説明す
る。
第1図はレンズなしで再生できるフーリエ変換ホログラ
ムの製作方法を示す。
コヒーレント光1はレンズ2によって収束光になり、位
相板3、液晶空間変調器4を通過したのち記録媒体6上
に集光する。
コヒーレント光1と同一光源から出た参照光5は記録媒
体6上に入射し、コヒーレント光1との干渉縞が記録媒
体6に記録され、フーリエ変換ホログラム7が作られる
。
次にレンズ2と参照光5をy方向に移動し、記録媒体6
に前とは違った位置にホログラムを作っていく。
ホログラムから情報を取り出す再生過程においては、再
生光5′を参照光5とは共役の方向よりホログラム7に
入射すれば、再生像が空間変調器4の所にできる。
第2図は第1図において位相板3と液晶空間変調器4の
ところを拡大して示したものである。
位相板3はガラス基盤8と位相差を与える薄膜9よりな
っている。
液晶空間変調器4はガラス基盤10、14上にそれぞれ
透明電極11.13が付いている。
このような従来のものにおいては、位相板用薄膜9のパ
ターンと透明電極11のパターンのピッチは同じである
が、光1が斜入射するとガラス基盤10の厚みのために
両者のパターンが光学的に重なり合わない。
これは液晶空間変調器4において表示される1ビツトが
位相的に2分割されたことになり、再生される1ビツト
像に大きな劣化が生じるのは良く知られているところで
ある。
したがって、従来の構成では第1図のようにレンズ2の
後方に液晶空間変調器4を置くことはできない。
次に、この考案の一実施例について説明する。
第3図および第4図は、それぞれ本実施例による液晶空
間変調器の構造の模式的断面図および上面図である。
この液晶空間変調器は酸化錫あるいは酸化インジウムの
幅数mmのストライプ形状の透明電極薄膜19を付した
ガラス等の透明上面基板20と、位相板用ZnO薄膜1
6を付け、その上に絶縁薄膜17を介してストライブ形
状の透明電極薄膜18を付した透明下面基板15との間
に例えばネマチック液晶MBBA (メトオキシベンジ
リテ゛ン・ブチル・アニリン)を充填した構造を有して
いる。
液晶層の厚さは10〜30μmであり、図示していない
がマイラーフィルム等のスペーサによって一定の厚さに
保持されている。
下面基板15に位相板16や透明電極薄膜18の付は方
について述べる。
下面基板15に、まず位相板用薄膜16をつける。
この材料は屈折率の高い誘電体で、ZnO,CeO2,
ZnS、 Tie、、等が好ましい。
これらの誘電体の薄膜は、スパッター法、蒸着法等によ
って下面基板15につけられる。
この薄膜をフォトエツチングによってパターンを作り、
位相板用薄膜16ができあがる。
マトリクスのどこに薄膜が残るかはランダムに決定する
。
次に絶縁薄膜17をスパッター法あるいは低温酸化法で
SiO2等を上記位相板用薄膜16の上に一様につける
。
その上にさらに透明電極19と直交し、位相板用薄膜1
6のパターンとピッチが合うように、ストライプ形状の
透明電極18を酸化錫あるいは酸化インジウムをスパッ
ター法等でつける。
ここで位相板用薄膜16の厚みdは、位相板用薄膜の屈
折率をnl、絶縁薄膜17ノ屈折率をn2とすると、(
n7−n2)d=λ/2(λは第1図におけるコヒーレ
ント光の波長)を満足する値に設定される。
また絶縁薄膜17は十分薄いから斜入射光によるパター
ンの位置ずれを生じないので、第1図のレンズ1の後方
にこの液晶空間変調器を置くことができる。
第5図は本実施例による液晶空間変調器の駆動方法を示
すための模式図である。
一般的なX−Yマトリクス形式液晶空間変調器に、通常
の印加法によって液晶駆動電圧を印加した場合のX、
Y電極基交点に現われる半選択電圧を示している。
今、表示選択点はX2.Y2であり、この点には駆動電
圧■が加わっており、選択点X2.Y2は強い光散乱を
生じる。
その他の点では閾値電圧より低いので散乱を生じること
はなく、マトリクス状にバイナリ−なパターンが表示さ
れる。
以上、第4図、第5図および第6図を用いて説明した液
晶空間変調器はこの考案の実施に関しては上記した寸法
、材料や構造に限定されない。
このようにこの考案に係る位相板を液晶セル内に設けた
液晶空間変調器は斜入射光に対する位相板パターンと表
示パターンとの位相ずれを解消することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はレンズなしで再生できるフーリエ変換ホログラ
ムの製作方法を示す図、第2図は位相板と液晶空間変調
器の細部を示す図、第3図および第4図は本考案の一実
施例による液晶空間変調器の構造を示す模式的断面図お
よび上面図、第5図は本実施例による液晶空間変調器の
駆動方法を示すための模式図である。 1.5,5’・・・・・・コヒーレント光、2・・・・
・・レンズ、3・・・・・・位相板、4・・・・・・液
晶空間変調器、6・・・・・・記録媒体、7・・・・・
・フーリエ変換ホログラム、8,10゜14、15.2
0・・・・・・ガラス基板、9,16・・・・・・位相
板用薄膜、11.13.18.19・・・・・・透明電
極、12.21・・・・・・液晶、17・・・・・・絶
縁薄膜。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 内側に透明電極を付けた透明基盤と、内側に透明電極お
    よび空間的にランダム配置されかつ光学的位相差(nt
    n2) dがλ/2を与えるような膜厚をもつ薄膜
    を付けた透明基盤との間に、表示機能を有する液晶を充
    填したことを特徴とする液晶空間変調器。
JP1975136940U 1975-10-07 1975-10-07 液晶空間変調器 Expired JPS5913609Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1975136940U JPS5913609Y2 (ja) 1975-10-07 1975-10-07 液晶空間変調器

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JP1975136940U JPS5913609Y2 (ja) 1975-10-07 1975-10-07 液晶空間変調器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5250074U JPS5250074U (ja) 1977-04-09
JPS5913609Y2 true JPS5913609Y2 (ja) 1984-04-23

Family

ID=28616895

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1975136940U Expired JPS5913609Y2 (ja) 1975-10-07 1975-10-07 液晶空間変調器

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Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5132111B2 (ja) * 1972-03-23 1976-09-10

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JPS5250074U (ja) 1977-04-09

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