JPS59140230A - 重合立体障害ホスホネ−ト安定剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、重合立体障害ホスボネート安定剤に関する。

有機重合物質たとえばプラスチックスおよび樹脂は、熱
、酸化および光−分解を受ける多くの種類の安定剤が種
々の基質を安定化するためにその技術分野において公知
である。これらの効果は、分解原因および安定化される
基質に依存して異なる。一般に、安定剤がいかなる用途
において最も効果的であシ、かつ最も経済的であるかを
予見することは困難である。たとえば、揮発性低減につ
いての安定剤効果は基質分子中の結合が切断するのを抑
制することによって達成される場合がある。ポリマーま
たはゴムにおける脆化を制限し、かつ、弾性を維持する
ために、過剰架橋および／″！、たけ鎖切断を抑制する
ことが必要となる場合がある。変色を防止するために、
基質または安定剤における新たな発色団または発色体の
生成反応を抑止することが必要となる場合がある。加工
安定性および不相溶性の問題も考慮しなければならない
。

本発明者等は、本発明のホスホネート誘導体が、安定剤
として特に効果的であって有用になさしめる所望の特性
の異例の組合せを有することを見い出した。この化合物
は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
耐衝撃性ポリスチレン、ゴムたとえばポリブタジェンお
　゛よびスチレン−ブタジェンゴム、さらには架橋、ひ
び割れ、変色、臭気形成および滲出の抑止が基本的に必
要である他のポリマーを採機するのに特に効果的である
。

本発明の主目的は、広範囲な改良された安定化性能特長
を示す重合ホスホネート類を提供することを目的とする
。

本発明の種々の他の目的および利点は、以下の記載によ
って明白になるであろう。

本発明の重合ホスホネートは、式： 〔式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して炭素原子数
４ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし６のシ
クロアルキル基、炭素原子数７ないし１５のアルアルキ
ル基または炭素原子数７ないし１５のアルカリール基を
表わし、Ａは炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表
わし、 Ｅは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、フェニレ
ン基、炭素原子数１ないし９のアルキル基１個または２
個処よって置換されたフェニレン基；あるいは基−Ｔ（
ＯＴ）ｊ−（式中、Ｔはエチレン、プロピレンまたは１
，４−ブチレン基を表わし、そしてｔは１ないし１０の
数を表わす。）を表わすか；あるいは基−Ｇ−Ｘ−Ｇ−
（式中、Ｇは炭素原子数２ないし４のアルキレン基を表
わし、そしてＸは硫黄原子または−Ｎ　（Ｒ＞　−（式
中、Ｒは水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基を表わす。）を表わす。）を表わし、ｐは０または
１の数を表わし、そして ｎは２ないし５０の数を表わす。〕で表わされる反復構
造単位を有する。

上記構造のうちでの好ましい化合物は、Ｒ２およびＲ２
がそれぞれ各フェニル環においてＡ基に対してメタ位に
あるものである。

Ｒ２およびＲ２基は、好ましくは４ないし８個の炭素原
子を持つ直鎖もしくは枝分かれしたアルキル基例えばｎ
−ブチル基、第ニブチル基、第三ブチル基、第三ペンチ
ル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基および第
三オクチル基を表わす。第三ブチル基、第三ペンチル基
および第三オクチル基が、特に好ましい。Ｒは、好まし
くは１ないし４個の炭素原子を持つアルキル基を表わす
。アルアルキル基はベンジル基を包含し、そしてアルカ
リール基はトリル基、メシチル基、キシリル基およびそ
の類似体を包含する。

Ａ基は好ましくは直接結合（すなわちｐが０を表わす。

）あるいは１ないし２個の炭素原子を有するアルキレン
基例えばエチレン基を表わす。

Ｅは好ましくはへキサメチレン基、２，２−ジメチル−
１，３−プロパンジイル基またはネオベンチレン基、チ
オジエチレン基および４ないし４０個の炭素原子を有す
るポリ（オキシエチレン）を表わすか、あるいは−Ｔ　
（ＯＴ）ｔ−（式中、Ｔはエチレン基を表わし、そして
ｔは１ないし１０の数を表わす。）で表わされる基を表
わす。

本発明のホスホネートは、式： （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ａ、　Ｅおよびｐは上記定義の意
味を有する。）で表わされる適当な置換ビス−フェノー
ルを、適当な濃度の三塩化リンと、場合によシ溶媒系中
で反応させることによって所望の重合生成物を得ること
ができる。

溶媒系は、好ましくは芳香族のもの例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンおよび類似体、あるいは複素環式エー
テル例えばテトラヒドロフラン、場合によシ脂肪族補助
溶媒例えばヘプタン、ヘキサン、および類似体が共存し
たものである。反応温度は、−５℃から反応媒体の還流
温度までの範囲である。本発明のポリマーを製造するの
に好ましい方法は、プロトン受容体例えば第三級アミン
例としてトリエチルアミンもしくはピリジン、または金
属水素化物例えば水素化ナトリウムの存在下で反応を行
うことを包含する。

これらの重合ホスホネートを合成するのに必要な出発フ
ェノール材料は、市販品であるかあるいは公知の方法に
よって合成することができる。典型な製造方法は、立体
障害フェノール系カルボン酸の低級アルキルエステルを
適当なグリコールとエステル交換することを包含する。

好マしいビス−フェノールは、ヘキサメチレンビス（３
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート）
、ヘキサメチレンビス（３，５−シー第三ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナメート）、２，２−ジメチル−
１，３−プロパンジイルビス（３，５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート）およびチオジ
エチレンビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメート）である。

本発明のポリマーは、プラスチックス、ポリマーおよび
樹脂のような有機材料を安定化させるのに有効である。

このポリマーは、特にポリオレフィン例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリインブチレン、ポリ（ブテン
−１）、ポリ（ペンテン−１）、ポリ（３−メチルブテ
ン−１）、ポリ（４−メチル−ペンテン−１）、種々の
エチレン−プロピレンコポリマーおヨヒその類似体の保
護用安定剤として特に有用である。

本発明ポリマーが特に有用な他の基質は、ポリ塩化ビニ
ル、耐衝撃性ポリスチレンを包含するポリスチレン、Ａ
ＢＳ樹脂、ＳＢＲ、ポリイソプレン、ならびに天然ゴム
、ポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレ
フタレートを包含するポリエステル（この場合コポリマ
ーを包含する。）、ポリウレタン、ポリカーボネート、
ポリアミド例えはナイロン６．６７６および類似体なら
びにコポリアミドおよびポリスルホンである。

一般に、安定化され得るポリマーとしては下記のものが
包含される。

（１）　　モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマ
ー、たとえばポリエチレン（架橋されていてもよい。）
、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１
、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリ
ブタジェン、ならびにシクロオレフィンの、たとえば、
シクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー。

（２）前記（１）に列記したポリマーの混合物、たとえ
ばポリプロピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレ
ンとの混合物。

（３）　　モノオレフィンおよびジオレフィン同志また
は他のビニルモノマーとのコポリマー、たトエハエチレ
ン／フロピレン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン
／イソブチレン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／
ブタジエン、インブチレン／イソプレン、エチレン／ア
クリル酸エチル、エチレン／メタクリル酸アルキル、エ
チレン／酢酸ビニルまたはエチレン／アクリル酸コポリ
マー、およびそれらの塩（イオノマー）、そしてエチレ
ンと、プロピレンおよびジエンたとえばヘキサジエン、
ジシクロペンタジェンまたはエチリデン−ノルボルネン
とのターポリマー。

（４）　　ポリスチレン。

（５）スチレンまたはα−メチルスチレンと、ジエンま
たはアクリル酸誘導体とのランダムコホリ−ｙ−１たと
えばスチレン／ブタジェン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／メタクリル酸アルキル、スチレン／アク
リロニトリル／アクリル酸メチル；スチレンコポリマー
と別のボリーンーたとえばポリアクリレート、ジエンポ
リマーまだはエチレン／プロピレン／ジェンターポリマ
ーとから得られた耐衝撃性の混合物；そしてスチレンの
ブロックコポリマー、たとえば、スチレン／ブタジェン
／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレ
ン／エチレン／ブチレン／スチレン、マたはスチレン／
エチレン／フロピレン／スチレン。

（６）　　スチレンのグラフトコポリマー、たとえばス
チレンとポリブタジェン、スチレンおよびアクリロニト
リルとポリブタジェン、スチレンおよびアクリル酸アル
キルまたはメタクリル酸アルキルとポリブタジェン、ス
チレンおよびアクリロニトリルとエチレン／プロピレン
／ジェンターポリマー、スチレンおよびアクリロニトリ
ルとポリアクリレートまたはポリメタクリレート、スチ
レンおよびアクリロニトリルとアクリレート／ブタジェ
ンコポリマー、な−らびにこれらと前記（５）に列挙し
たコポリマーとの混合物、たとえばＡＢＳ−１ＭＢＳ−
１ＡＳＡ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られている
コポリマー混合物。

（７）ハロゲン含有ポリマー、たとえば、ポリクロロプ
レン、塩素化ゴム、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエ
チレン、ハロゲン含有ビニル化合物から得られたポリマ
ー、たとえばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、ならびにこれらの
コポリマーたとえば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／酢酸ビニルまタハ塩化ビニリデン／酢酸ビニル
コポ＋７マー。

（８）　　α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導
されたポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリ
メタクリレート、ポリアクリルアミドならびにポリアク
リロニトリル。

（９）前記（８）に挙けたモノマー同志または他の不飽
和モノマーとのコポリマー、たとえばアクリロニトリ７
＋／／ブタジエンコポリ−ｒ−、アクリロニトリル／ア
クリル酸アルキルもしくはアクリロニトリル／塩化ビニ
ルコポリマーまたはアクリロニトリル／メタクリル酸ア
ルキル／フタジエンターホリマー。

α１　不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはアセタールかう誘導されたポリマー、
たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイ
ン酸ビニル、ポリ酪酸ビモル、ポリフタル酸アリルまた
はポリアリルメラミン。

α］）環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
たとえばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。

（２）ポリアセタール、たとえばポリオキシメチレン、
およびコモノマーとして酸化エチレンを含有するそのポ
リオキシメチレン。

０　ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド。

α→　一方の成分としてのヒドロキシ末端基を有スル、
ポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと、
他方の成分としての脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにこれらの前
駆物質。

（ト）　ジアミンとジカルボン酸とからおよび／または
アミノカルボン酸または相応するラクタムから誘導され
たポリアミドおよびコポリアミド、たとえば、ポリアミ
ド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６
／１０．ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，
４゜４−トリメチルへキサメチレンテレフタルアミドま
たはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド、ならびに
これらとポリエーテル、たとえば、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチ
レングリコールとのコポリマー。

αＱ　ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミ　　
ド。

αリ　ジカルボン酸とジアルコールとからおよび／また
はヒドロキシカルボン酸または相応スるラクトンから誘
導されたポリエステル、たとえばポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−
ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポ
リヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシ末端基
を有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエ
ーテル−エステル。

α椴　ポリカーボネート。

α燵　ポリスルホンおよびポリエーテルスルボン。

（ホ）一方の成分としてのアルデヒドと、他方の成分と
してのフェノール、尿素およびメラミンとから誘導され
た架橋ポリマー、たとえばフェノール／ホルムアルデヒ
ド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／
ホルムアルデヒド樹脂。

Ｑ］）乾性および不乾性アルキド樹脂。

に）飽和および不飽和ジカルボン酸と、多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とから誘導された不
飽和ポリエステル樹脂ならびに低燃焼性のそのハロゲン
含有変性物。

に）置換アクリル酸エステルたとえばエポキシ−アクリ
レート、ウレタン−アクリレートまだはポリエステル−
アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

（ハ）架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイン
シアネートまたはエポキシ樹脂と混合した、アルキド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。

（ハ）ポリエポキシドからたとえばビス−グリシジルエ
ーテルから、あるいは脂環式ジェポキシドと芳香族ジエ
ポキシドとから誘導された架橋エポキシ樹脂。

（ハ）天然、ｊ−”！Ｊママ−りとえばセルロース、ゴ
ム、ゼラチン、およびポリマー変性方法で化学的に変性
されたこれらの誘導体たとえば酢酸セルロース、フロピ
オン酸セルロースおよヒ酪酸セルロース、まタハセルロ
ースエーテルたとえばメチルセルロース に）純粋なモノマー化合物または該化合物の混合物であ
る天然および合成有機物質、たとえば、鉱油、動物およ
び植物脂肪、油およびワックス、または合成エステル（
たとえば、フタレート、アジペート、ホスフェートまた
はトリメリテート）をペースとする油、脂肪およびワッ
クス、ならびに合成エステルと鉱油とのあらゆる重量比
での混合物。これらの物質は、ポリマー用可塑剤または
繊維紡糸油として、およびそのような物質の水性エマル
ジョンとして使用することができる。

（ハ）天然または合成、ゴムの水性エマルジョン、たと
えば天然ラテックスまたはカルボキシ化スチレン／ブタ
ジェンコポリマーのラテックス。

一般に本発明化合物は、個々の基質および適用法によシ
多少異なるが、安定化組成物に対して約０．０１ないし
約５重量％の割合で使用される。

有利な範囲は約ｏ、ｏ’ｓないし２チ、特に０．１ない
し約１％である。

本発明の安定剤は、成形品の製造に先立って適当な時期
に、慣用手段によって有機ポリマーの中に容易に混和さ
れ得る。たとえば安定剤は乾燥粉末形態でポリマーと混
和してもよく、また安定剤の懸濁液またはエマルジョン
はポリマーの溶液、懸濁液またはエマルジョンと混和し
てもよい。また、本発明の安定化ポリマー組成物は所望
によシ、たとえば次のような種々の慣用の添加剤を含有
してもよい。

１、　酸化防止剤 たとえば２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２〜第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール
および２，６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノー
ル。

たとえば２．５−ジー第三ブチル−ヒドロキノン、２．
５−ジー第三アミル−ヒドロキノン、２゜６−ジー第三
ブチル−ヒドロキノン、２．６−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルール、６．５−ジー第三ブチル−４
−ヒドロキシ−アニソール、トリス−（５，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスフィツト、６
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステア
レートおよびビス−（６，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）アジペート。

１．５　　ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルたと
えば２，２−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２−チオ−ビス−（４−オクチル
フェノール）、４，４′−チオ−ビス−（６−、ＭＥ三
ダブナル−３メチルフェノール）、４，４−チオ−ビス
−（３，６−ジー第ニアミルフェノール）、４，４′−
チオ−ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフェノール
）および４゜４−ビス−（２，６−シメチルー４−ヒド
ロキシ−フェニル）ジスルフィド。

１．４．アルキリデン−ビスフェノールたとえば２，２
−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、２．２−メチレン−ビス−（６−第三ブチル
−４−エチルフェノール）、４，４−メチレン−ビス−
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４−
メチレン−ビス−（２，６−ジー第三ブチル−フェノー
ル）、２，６−ジー（６−第三ブチル−５−メチル−２
−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、２．
２’−メチレン−ビス−〔４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−フェノール〕、１，１−ビス−（
６，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）−ブタン
、１，１−ビス−（Ｓ−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−ブタン、２，２−ビス−（３゜
５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン、１，１．６−　トリス−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタン、２，２−
ビス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，
１，５．５−テトラ−（５−Ｍ三ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）−ペンタンおヨヒエチレンク
リコールビスー〔６，６−ビス−（３−第三ブチル−４
′−ヒドロキシフェニル）−フチレート〕。

たとえば３３５５−テトラ−第三ブチル−４゜４′−ジ
ヒドロキシベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプトアセテー
ト、トリス〜（６，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−アミンおよび″ビスー（４−ｇ三ブチル
−３−ヒドロキシー２，６−ジメテルベンジル）ジテオ
テレフタレート。

たとえばジオクタデシル−２，２−ビス−（６゜５−ジ
ーｉＥブチルー２−ヒドロキシベンジル）−マロネート
、ジオクタデシル２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチル−ベンジル）−マロネート、ジ−ドデシ
ルメルカプト−エテル２，２−ビス−（６，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネートおヨ
ヒジー（、４−（１，１，５，５−テトラメチルブチル
）−フェニル〕２，２−ビス−（３，５−ジー第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。

たとえば１，３．５−　）リス−（５，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−トリ
メチルベンゼン、１，４−ビス−（３，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル−２゜３．５．６−テト
ラメチルベンゼンおよび２，４゜６−トリー（６，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノー
ル。

たとえば２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（５
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ−アニリノ）−
Ｓ−）リアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ−アニ
リノ）　−ｓ　−トＩＪアジン、２−オクチルメルカプ
ト−４，６−ビス（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェノキシ）−ｓ−）リアジン、２，４．６−　
）リス−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−ｓ−）リアジン、２，４．６−　）リス−
（３，５−ジーｉニブチル−４−ヒドロキシフェニルエ
チル）−Ｓ−）リアジンおよび１゜３．５−トリス−（
３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ンシアヌレート。

たとえば１，３．５−　　）リス−６，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニル）−へキ
サヒドロ−５−）リアジンおよびＮ。

Ｎ−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルーフロビオニル）−へキサメチレン−ジアミン、
Ｎ、Ｎ−ビス−β−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル−プロピオニル）−ヒドラジン。

一価または多１ｄＭアルコールたとえばメタノール、エ
タノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１
．２−プロパンジオール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、チオジエチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、ペンタエリトリトール、６−チア
−ウンデカノール、３−チア−ペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、トリス−ヒドロキシエチルインシ
アヌレートおよび４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ
−２，６，７−トリオキサビシクロ−Ｃ２，２，２］オ
クタンとのエステル。

ル 一価または多価アルコールたとえばメタノール、エタノ
ール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレンクリコール、１．２
−フロパンジオール、ジエチレンクリコール、トリエチ
レンクリコール、チオジエチレングリコール、ネオペン
チルグリコール、ペンタエリトリトール、５−ｆｆ−’
）ンデカノール、３−チア−ペンタデカノール、トリメ
チルヘキサンジオール、トリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン、トリス−ヒドロキシエチルイソシア
ヌレートおよび４−ヒドロキシメチル−１−ホス７アー
２．６．７　−　トリオキサビシフｏ、−（２，２，２
）オクタンとのエステル。

１．１２．　５．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル酢酸のエステル 一価または多価アルコールたとえばメタノール、エタノ
ール、オクタデカノール、１．６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１．２
−７”ロパンジオール、ジエチレングリコール、チオジ
グリコール、ネオベンｆＪＬ＃＋）コール、ベンタエＩ
）　）　ＩＪ　）　−／ｌ／、６−チア−ウンデカノー
ル、３−テア−ペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールエタ
ン、トリス−ヒドロキシエチルインシアヌレートおよび
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２゜６．７−）
ジオキサビシクロ（２，２，２）−オクタンとのエステ
ル、特にペンタエリトリトールノテトラービスエステル
。

たとえばジメチル３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルーホスホ坏−ト、ジエチルｓ、５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホネート、ジ
オクタデシル３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−ホスホネートおよびジオクタデシル５−第三
プチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジル−ホスホ
ネート。

次に、本発明の安定剤および酸化防止剤とともに使用さ
れ祷る他の添加剤の例を述べる。

たとえばフェニル−１−ナフチルアミン、フェニル−２
−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジ−フェニル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ、マージ−２−ナフチル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジーナフチルーｐ−７エニレン
ジアミン、Ｎ。

々−ジー第ニブチルーｐ−フェニレンジアミン、６−ニ
トキシー２．２．４−　）リメテルー１，２−ジヒドロ
キノリン、６−ドゾシルー２．２．４　＝トリメチル−
１，２−ジヒドロキノリン、モノ−およびジオクチルイ
ミノジベンジル、重合化２゜２．４−）サメチル−１，
２−ジヒドロキノリン。

オクチル化ジフェニルアミン、ノニル化ジフェニルアミ
ン、Ｎ−フェニル−Ｎ−シクロヘキシル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−フェニル−挺−インプロビル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジー第ニオ、ｆ−ヤーｐ
　−７ｘ　”ラフジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−第二オ
クチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジー（１，
４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ
。

Ｒ−ジメチル−Ｎ、に−ジー（第二オクチル）−ｐ−フ
ェニレンジアミン、２．６−ジメテル−４−メトキシア
ニリン、４−エトキシ−Ｎ−第二ブチルアニリン、ジフ
ェニルアミンアセトン組合生成物　アルドール−１−ナ
フチルアミンおへ よびフェノチアジン。

退色効果はこれら酸化防止剤を用いた場合について考慮
しなければならない。

ズトリアゾール ル、５′−第三ブチル−１５−（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−１５−クロロ−３，５−ジー第三ブ
チル−１５−クロロ−６′−第三ブチル−５′−メチル
−１３′−第二ブチル−５−第三−６′−α−メチルベ
ンジル−５７−メチル−５＝、４′−オクトキシ、６，
５′−ジー第三アミル−１３′−メチル−５′−カルボ
メトキシエチル−１３゜５′−ビス（α、α−ジメチル
ベンジル）、”−５′−ビス（α、α−ジメチルベンジ
ル）−５−クロロ−１６，５−ジー第三オクチルフェニ
ル、３、５−　シー　第三、ｔ　りｆルフェニル−５−
りＯ０−および５−クロロ−６，５−ジー第三アミル−
誘導体。

たとえば６−ニチルー、６−ヘブタテシルーまたは６−
ウンゾシルー誘導体。

２、ｉ　　２−ヒドロキシベンゾフェノンたとえばａ−
ヒドロキシ−１４−ノドキシ−１４−オクトキシ−１４
−デシルオキシ−１４−ドテシルオキシ−１４−ベンジ
ルオキシ−１２′。

４．４−）リヒドロキシーまたハ２′−ヒドロキシー４
，４−ジメトキシ−誘導体。

たとえば１，３−ビス−（２−ヒドロキシ−４′−へキ
シルオキシ−ベンゾイル）−ベンゼン１．３−ビス−（
２′−ヒドロキシ−４−オクテルオ＄　’／　−ベンゾ
イル）−ベンゼンマ＊ハ１　、３−ビス−（２′−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシ−ベンゾイル）−ベンゼン
。

ル たとえばオクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシン、ビス−（４−第三７チルベンゾイル）−レ
ゾルシン、ベンゾイルレゾルシン、３，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシ安息香酸−２，４−ジー第三ブチ
ルフェニルエステルまたは−オクタデシルエステルまた
は−２−ｊｆｋ−４，６−ジー第三ブチルエステル。

ｚ６．　　　アクリレート たとえば、エチルまたはインオクチルα−シアノ−β、
β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルポメト
キシシンナメー　ト、メチルまたはブチルα−シアノ−
β−メチル−ｐ−メ、トキシーシンナメート、またはＮ
−（β−カルボメトキシ−α−シアンビニル）−２−メ
チル−インドリン。

たとえば４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチ
ルビベリジン、４−ステアリル−オキシ−２，２，６，
６−チトラメテルビベリジン、ビス−（２，２，６，６
−チトラメテルビベリジル）−セバケートまた株５−ｎ
−オクチル−７，７，９゜９−テトラメチル−１，３，
８−トリアザ−スピロ（４，５）デカン−２，４−ジオ
ン。

たとえば４，４−ジーオクチルオキシーオキサニ第三ブ
チル−オキサニリド、２−エトキシ−２′−エテル−オ
キサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス−（６−ジメテルアミノフ
ロビル）−オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブ
チル−２−エチル−５，４−ジ第三ブチル−オキサニリ
ド、またはオルト−およびパラ−メトキシ−ならびに０
−およびｐ−エトキシー二置換オキサニリドの混合物。

たとえばオキサニリド、インフタル酸ジヒドラジド、セ
バシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、ビス−ベンジリ
デン−シュウ醇ジヒドラジド、Ｎ、Ｎ−ジアセチル−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ、Ｎ−ビスーサ・リテロイル
ーシュウ酸ジヒドラジド、Ｎ、Ｎ−ビス−サリチロイル
ヒドラジン、Ｎ、付−とス−（５，５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルフロビオニル）−ヒドラジン
、Ｎ−サリチロイル−付−サリチルアルヒドラジン、６
−サリチロイル−アミノ−１，２゜４−トリアゾールま
たはＮ、マービス−サリチロイル−チオプロピオン酸ジ
ヒドラジド。

４、塩基性補助安定剤 たとえば高級脂肋戯のアルカリ金属塩およびアルカリ土
類金属塩、たとえばＣａ−ステアレート、Ｚｎ−ステア
レート、両−ベヘネート、Ｎａ−リンノリエートまたは
に一プラミネート。

５、核剤 たとえば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸またはジ
フェニル酢酸。

＆　ホスフィツト タトえハ、トリフェニルホスフィツト、ジフェニルアル
キルホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィッ）、
）ＩＪ−（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリ
ルホスフィツト、トリオクタデシルホスフィツト、３，
９−インデシルオキシ−２，４，８，１０−テトラオキ
サ−３，９−ジホスファスビロ［５，５］−ウンデカン
およびトリー（４−ヒドロキシ−６，５−ジー第三ブチ
ルフェニル）ホスフィツト。

安定化組成物中に混入され得る他の添加剤としてはチオ
相乗剤たとえばジラウリルチオジプロビオ不−トまたは
ジステアリルチオジフロビオネート、潤滑剤たとえばス
テアリルアルコール充填剤、カーボンブラック、アスベ
スト、カオリン、タルク、ガラス繊維、顔料、蛍光増白
剤、防炎加工剤および帯電防止剤が諮げられる。

本発明化合物は主として酸化防止機能または光安定化機
能のいずれかを有する独特の安定剤として単独に、また
酸化防止剤および光安定剤として各種安定剤とともに組
合せて使用することができる。本発明の安定剤はフェノ
ール系酸化防止剤、潤滑剤たとえばステアリン酸カルシ
ウム、顔料、着色剤または染料、Ｗ吸収剤、光安定剤た
とえば立体障害アミン、金属不活性化剤、タルクおよび
他の充填剤など、とともに使用してもよい。

ところで本発明化合物は、糧々の基質に対し、単独およ
び他の補助添加剤と組合せて、安定剤として有益に使用
することができる。本発明化合物と選択した立体障害フ
ェノール系酸化防止剤とを組合せれば、上記基質の保護
を増大させることか示される。特に有用で必ることが知
られているフェノール系酸化防止剤は、２．６−シオー
ビス（６−ｍ三ブチル−５−メチルフェノール）、２，
２−メチレン−ビス（６−第三ブチル−３−メチルフェ
ノール）、４，４−メチレン−ビス（２，６−ジー第三
ブチルフェノール）、１．１．５　−）リス（５−第三
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン
、１，３．５−トリス（６，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−）リメテルベン
ゼン、２−オクチルチオ−４，６−ビス（６，５−ジー
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−Ｓ　−トリア
ジン、ｎ−オクタデシル６．５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナメート、ネオペンタンテトライ
ルテトラキス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロ７ンナメート）、１，３．５−トリス（３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）インシア
ヌレート、チオジエチレンビス−（６，５−ジー第三フ
チルー、４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、β−（
３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオン酸のトリス（２−ヒドロキシエチル）インシア
ヌレートエステル、６゜６−エチリテンービス（２，４
−ジー第三ブチルフェノール）、６．６−メチレン−ビ
ス（２，４−ジー第三ブチルフェノール）および１，３
．５−トリス（４’−ｍ三ブチル−６−ヒドロキシ−２
゜６−シメチルベンジル）インシアヌレートからなる群
より選択される。

組成物は、（ａ）基質好ましくはポリオレフィン例えは
ポリプロピレン、（ｂ）組成物の約０．０１ないし約５
重量％好ましくは約Ｑ、０２５ないし約２重量％毛っと
も好ましくは０．０２５ないし１重量％の本発明化合物
またはその混合物、そして場合により（Ｃ）組成物の（
ＬＯｌないし５重量襲好ましくは０．０５ないし１Ｎ量
％の範囲にある、フェノール系酸化防止剤または上記に
あげた群から選択した上記酸化防止剤の混合物からなる
。

また下記の光安定剤は、上記基質中に本発明安定剤と一
緒に混入するだめの添加剤として、単独あるいは上記フ
ェノール系酸化防止剤と組合せて、使用するのが好まし
い。光安定剤のガニブチルー２−ヒドロキシフェニル）
ベンソトー第三アミルフェニル）ベンゾトリアゾール；
ビス〔〇−エチルー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）〕　ホスホン酸ニッケル；ビス（１
，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−
２−ｎ−ブチル−２−（３。

５−　シー第三フチルー４−ヒドロキシベンジル）マロ
ネート；ビス（２，２，６，６〜テトラメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート；４−ヒドロキシ−２，２，６，
６−テトラメテルニ１−ヒ゛ベリジンエタノールとのジ
メテルスクシ不−トボリマ−；　２，４−ジクロル−６
−オクチルアミノ−５−トリアジンとＮ−（２，２，６
，６−テトラメチル−４−ピペリジル）へキサメテレン
ジアミンとのポリマーである。

下記実施例により本発明の態様をさらに詳細に説明する
。これらの実施例において、記された部は特記しない限
り重量に拠る。

実施例１ ポリ〔ヘキサメチレンビス（ａ　−（３，５−シー第三
ブチル）ベンゾエート）ホスホネート〕２．７１’の三
塩化リンおよび４．２９ｐのトリエチルアミンをトルエ
ン２０ロー中に溶かした溶液を窒素雰囲気下のフラスコ
中に入れ、そして１１．６４１のへキサメチレンビス（
３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
）を１００罰のトルエン中に溶かした浴液で１０℃で処
理した。反応混合物を４８時間室温で攪拌し、０．１８
Ｓ’の水および０．８７　ｒのピリジンで処理し、２４
時間５０℃にカロ熱し、ぞしてろ過してアミン塩酸塩を
除いた。ついで揮発物を真壁下で除いた。残渣を乾式カ
ラムクロマトグラフィーによって精製して、融点７６〜
８９℃の白色固体を得た。工Ｒ：（クロロホルム中１％
）　１４７５Ｇ　ＣＰ−、Ｈ）。

分析’　（Ｃｓａ　Ｈａｓ　０７Ｐ″ｌｎの計算値：　
Ｃ，６＆６：　Ｈ。

ａ５０　；　Ｐ、　４．９３、実１１値Ｃ，６９，５２
；　）ｆ、　ａ７０　；Ｐ。

４．０５゜ ゲル透過クロマトグラフィー分析：　ｎ　＝２−４゜実
施例２ ポリ〔ヘキサメチレンビス（４−（３，５−ジー第三ブ
チル）ベンゾエート）ホスホネート〕低分子量のコポリ
マー（ｉ−１１，５７ｇの三塩化リン、２．１２１のト
リエチルアミン、１１．６６９のへキサメチレンビス（
３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
）、０．７９２のピリジンおよび０．１８りの水を用い
て、実施例１の方法によって製造した。残渣を乾式カラ
ムクロマトグラフィーによって精製して、融点６８〜７
８℃、ＩＲＥ（クロロホルム中１　％　）　１４７５ｃ
Ｉｎ−’（Ｐ−Ｈ）の白色固体を得た。

分析：　（ＣｓａＨａｓＯｙＰ）Ｈの計算値：　Ｃ，，
６Ｆ１．７６　；　Ｈ。

’ａ５０　；　Ｐ、　４．９３、実測値：　Ｃ，７０，
６０；　Ｈ，９，０１；Ｐ。

６．３８゜ ゲル透過クロマトグラフィー分析：ｎ＝２−５゜実施例
３ ポリ〔ヘキサメチレンビス（４−（５，５−ジー第三ブ
チル）ベンゾエート）ホスホネート〕この例は、高分子
量のコポリマーの合成を示す。

２９．１５’のヘキサメチレンビス（３，５−ジー第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート）　’１ｉ３００
−のテトラヒドロフラン中に溶かした溶液を窒素雰囲気
下のフラスコ中に入れ、テトラヒドロフラン１００罰中
の２．４ｙの水素化ナトリウムの懸濁液で処理した。反
応混合物を２時間６ｏ０に加熱し、５℃まで冷却し、そ
して生じた白色懸濁物を６．８７ｙの三塩化リンでゆっ
く多処理した。

反応体を室温で２４時間攪拌し、１５℃まで冷却し、１
．８９の水および４．０２のピリジンで処理し、そして
室温で２４時間攪拌した。ついで反応混合物をろ過し、
溶媒を真空中で除き、そして残渣を乾式カラムクロマト
グラフィーによって精製して、融点９５〜１１０℃の白
色固体を得た。ＩＲＥ（りｏｏホルム中１％）　　２４
５０ｃｍ（Ｐ−Ｈ）。

分析”　（Ｃｓ。Ｈ２Ｓ　０？　Ｐ　］　ｒＬの計算値
：　Ｃ，６ａ７６　：　Ｈ。

ａ５０　；　Ｐ、　４．９３、実測値Ｃ，６８，８１；
　Ｈ，ａ４９　；　Ｐ。

４．１５゜ ゲル透過クロマトグラフィー分析：ｎ＝３−５実施例４ ポリ〔ヘキサメチレンビス（４−（３，５−シー第三ブ
チル）ヒドロシンナメート）ホスホネート　〕 実施力６の方法２．１５．９７９のへキサメチレンビス
（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシン
ナメート）、１．２ｙの水素化ナトリウム、１．７２＠
の三塩化リン、１．８？の水、そして０．９９　ｆのピ
リジンを用いて繰返した。残渣を乾式カラムクロマトグ
ラフィーによって精製して、融点４５〜４９℃の白色固
体を傅た。工Ｒ：（四塩化炭素中１％）　２４５０　ｃ
ｒｎ’（Ｐ−Ｈ）分析”　（Ｃ４０Ｈ６１０７Ｐ　）　
ｎの計算値：　Ｃ，７０，１’５；　Ｈ。

ａ９８；Ｐ、　４．５２、実測値：　Ｃ，７１，７０；
　）ｌ、　９．１５；Ｐ、２．９４゜ ゲル透過クロマトグラフィー分析：　ｎ＝２−１２実施
例５ ポリ〔ヘキサメチレンビス（４−（３，５−シル第三ブ
チル）ヒドロシンナメート）ホスホネート　　〕 本例は、実施例４のコポリマーのよシ高分子量のものの
製造法を示す。実施例３の方法を、６’５．９０９のヘ
キサメチレンビス（３，５−ジー第三フチルー４−ヒド
ロキシヒドロシンナメート）、４．５０ｋｌの水素化す
）　ＩＪウム、１３．７３ｆの三塩化リン、３．６０２
の水、そしてＺ９１１のピリジンを用いて繰返した。残
渣を乾式カラムクロマトグラフィーによって絹製して、
融点６１〜６９℃の白色粉末を得た。ＩＲＩ四塩化炭素
中１％）２４５０　ｃｍ　’　（Ｐ　−Ｈ）。

分析”　ＣＣ＋ｏＨａ＋ＯｙＰ　〕ｎ　ａ）計算値：　
Ｃ，７ａ１５；　Ｈ。

ａ９８；　ｐ、４．５２、実測値Ｃ，７１，５４；Ｈ，
＆８２　；　Ｐ。

工６１゜ 実施例６ ポリ〔２，２−ジメチル−１，３−プロノくンジイルビ
ス（４−（３，５−シ第三ブチル）ヒドロシンナメート
）ホスホオート〕 実施例６の方法を、６２．４９９の２，２−ジメチル−
１，３−プロパンジイルビス（３，５−シー第三ブチル
−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、４．８？の水素
化ナトリウム、１３．７３ｒの三塩化リン、’５．６ｆ
の水、そしてＺ９１１のピリジンを用いて繰返した。残
渣を乾式カラムクロマトグラフィーによって絹製して、
融点７０〜８０℃の白色粉末を得そ。ＩＲ：（四塩化炭
素中１％）２４５０ｃＩｎ（Ｐ−上■）。

分析：　［Ｃ５，Ｈ，，０７Ｐ　ｌｎの計算値：　Ｃ，
，６９，８２；　Ｈ。

ａ８６　；　Ｐ、　４．６２　、実測値：　Ｃ，６９，
９４；　Ｈ，９，２０；Ｐ、４．Ｇ２゜ 実施例 ボｌＪ［Ｆ−オシエチレンビス（４−（３，５−ジー第
三ブチル）ヒドロシンナメート）ホスホネート　〕 実施沙り６の方法−１、ｉｏｏ　ｒのチオジエチレンビ
ス（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
ンナメート）、７．４９２の水素化ナトリウム、２１．
４２ｒの三塩化リン、５．６２ｒの水、そしてピリジン
の代りに１５．８Ｏｒのトリエチルアミンを用いて繰返
した。残渣を乾式カラムクロマトグラフィーによって絹
製して、融点５２〜６４　　℃の白色粉末を侍た。ＩＲ
：（四塩化炭素中１％）’２４５０ｃＩｒＬ（ｐ−Ｈ）
。

分析”　ＣＣ３８Ｈ５７’Ｊ？Ｐ　Ｓ　）Ｈの計算値：
Ｃ，６６，２５：Ｈ，８，５４；Ｐ、　４．５０　：　
Ｓ、　４．６５、実測値：　Ｃ，６５，１０；Ｈ，ａｌ
ｌ；Ｐ、３．７２；Ｓ、　　４．９０゜実施例８ 非安定化ポリプロピレン粉（ハーキュレスプロフ７７ク
ス（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ　　ｐｒｏｆａｘ）６５０１）を
、指示量の添加剤と十分にブレンドする。ついでブレン
ド材料を二本ロールミルにて１８２℃で５分間混練し、
その後安定化ポリプロピレンｆ、該ミルからシートとし
て得、そして冷却した。

ついでこの圧延したポリプロピレンを試験片に切断し、
そして２２０℃で１７５　ｐｓｉ　（１，２×１０６Ｐ
ａ）で圧縮成形して２５ミル（０，６３５朋）厚のプラ
ックとした。代表的な試料を、蛍光太陽光／暗黒光室甲
にて露光し、および１５０℃のオーブン中にさらし各々
の場合について破壊までの時間を画定した。露光ブラッ
クの最初のひび割れおよび変色によって、破壊されたと
みなす。

無　　　　　　　　　　　　　　（２００，１％の笑施
汐り６のポリマー　　　　−１１゜Ｏ・５％の実施例４
のポリマー　　　−４１゜Ｏ・３％の実施例５のポリマ
ー　　　−１０，３００・３％の実雁汐り５のポリマー
　　　０．ｊ　　　　　　　１６０ＱＱ、３％の実施例
６のポリマー　　　−５３゜Ｏ，３ｑｂ）実７Ｈ，ｙ６
ｂｏポリ？−０，１１４４００・２％の実施例７のポリ
マー　　　−８９００、５ｔｈｏ実ｙｍｙｕ　７　ｏポ
リマー’−１１１００，３％の実施例７のポリマー　　
　α１　　　　　１５２０テオシフ−ロノくノエート 酸化防止剤Ａ＝ペンタエリスリチルテトラキス（３−（
３，５−ジ−ｔ−ブチルツ ー４−ヒドロキ、ゾフエニル）フロ ピネート〕 無　　　　　　　　　　　　　　　　０．２　　　　　
　４０００．２５％の実施？Ｉ１１のポリマー　　　Ｑ
、２　　　　　１０８００．２５％の実施例３のポリマ
ー　　　０．２　　　　　１０１００．６％の実施例３
のポリマー　　　　　　　　　　ｉ　ｏｏ。

０１２５％の実施例４のポリマー　　　０．２　　　　
　　４５００．２５％の実施例５のポリマー　　　α２
６０００．２％の実施例７のポリマー−４０００，３％
の実施例７のポリマー　　　　−１１００補助硲加剤Ｂ
　＝　０．０−ジ−ｎ−オクタデシル３．５−　ジーｉ
ニブチル−４−ヒドロキン−ベンジルホスホネート。

実施例 ステアリン鹸カルシウムを０１重量％を含ひが酸化防止
剤を何ら含有しないポリプロピレン（バーキュレス　フ
ロファックス（ＨｅｒｃｕｌｅｓＰｒＯｆａＸ）６５０
１　）を、指示濃度の安定剤とブレンドした。混合物を
ペレット化し、そして１０．１６（１ｍフィルム用ダイ
を使用して２３２℃で押出してα１２７湘厚のテープに
した。テープを６．４陳巾のストリップに切断した。つ
いでこのストリップを１０７℃の温度でゴデッ）ｏ−ル
により６：１比に処伸して、０．０５０８ｏ＋厚の廷伸
フィルムテープを侍た。

このテープを炭素アークウエザオメーター（スプレー付
）中で露光させた。露光後、試片の引張特性を、インス
トロン引張り強さテスターを使用して測定した。引張り
強さが５０％減となる炭素アークウエザオフ−ター中で
の時間を、破壊時間とした。

同碌に、試料テープを１２５℃でオーブン老化させた。

破壊までの時間は、それぞれの場合、ひび割れおよび退
色の最初の現出に基づいて決定した。

α１％の実施１＋Ｉ１１のポリマー　　３８７　　　　
　　　２４０．１％の実施列２のポリマー　　９５１　
　　　　　２５７Ｇ、１％の実施例６のポリマー　　７
５４　　　　　　２３８［１１％の実施例４のポリマー
　　３７５　　　　　　５９１α１％の実適例６のポリ
マー　　７３６　　　　　　２６４この結果によれば、
本安定剤によって有効な熱および光安定７件が与えられ
たことがわかった。

実施例１０ ブチルスズメルカプチド熱安定剤を含むがＴｉＯ２を含
まないｐｖｃ樹脂（Ｂ、上゛、Ｇｏｏｄｒｉｃｈ−ｎａ
ｔｕｒａｌ　　ｐｏｗｄｅｒ社のＧｅｏｎ　８５８６２
　）を、ルチル型Ｔｉｅ、　５　ｐａｒとブレンドした
。この配合物を対照（八とする。さらに実施例３のポリ
マー１　ｐｈｒをサンプルＡに加えて、配合物（Ｂ）を
得た。両配合物を二本ロールミルにて１７０℃で成形し
、そして圧縮成形して試験ブラック（２０ミル厚）を作
り、キセノンウエザオフ−ター中で２０００　時間に老
化を促進させて試験した。（５）および（均のブラック
の黄装置指数カラーをＡＳＴＭ　　Ｄ−１９２５−６３
Ｔにより決定した。結果を下表に示す。

黄色度指数 Ａ（対照）　　　　　　５．３　　　　　　１＆６Ｂ　
　　　　　　５．１９．５ これらの結果は、酸化度を減少させるのに本発明安定剤
が有効であることを明白に示している。

資するに、本発明より、熱、光および空気の分解作用全
打消すのに特に有効な新規重合ホスシネートが提供され
た。割合、方法および材料は、特許請求の範囲に定義し
た本発明の範囲から逸脱しない範囲内で変更することが
できる。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）式： 〔式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して炭素原子数
   ４ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし乙のシ
   クロアルキル基、炭素原子数７ないし１５のアルアルキ
   ル基または炭素原子数７ないし１５のアルカリール基を
   表わし、 Ａは炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表わし、 Ｅは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、フェニレ
   ン基、炭素原子数１ないし９のアルキル基り１個または
   ２個によって置換さレタフエニレン基：あるいは基−Ｔ
   （ＯＴ）ｔ−（式中、Ｔｆｄエチレン、プロピレンまた
   は１゜４−ブチレン基を表わし、そしてｔは１ないし１
   ０の数を表わす。）を表わすか：あるいは基−Ｇ−Ｘ−
   Ｇ−（式中、Ｇは炭素原子数２ないし４のアルキレン基
   を表わし、そしてＸは硫黄原子または−Ｎ（Ｒ）−（式
   中、Ｒは水素原子また′は炭素原子数１ないし８のアル
   キル基を表わす。）を表わす。）を表わし、 ｐは０まだは１の数を表わし、そして ｎは２ないし５０の数を表わす。〕で表わされる反後構
   造単位を有する重合ホスホネート。
2. （２）　　Ｒ＋およびＲ２が、Ａ基に対し各フェニル環
   のメタ位に位置する特許請求の範囲第１項記載のポリマ
   ー。
3. （３）　　Ｒ＋およびＲ２が第三ブチル基である特許請
   求の範囲第１項記載のポリマー。
4. （４）　ｐが０の数を表わすかあるいはＡがエチレン基
   を表わす特許請求の範囲第１項記載のポリ　　マ　−　
   。
5. （５）Ｅがへキサメチレン基、チオジエチレン基、２．
   ２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基または−Ｔ（
   ＯＴ）ｔ−（式中、Ｔはエチレン基を表わし、そしてｔ
   は１ないし１０の数を表わす。）を表わす特許請求の範
   囲第１項記載のポリマー。
6. （６）式： 〔式中、Ｒ＋およびＲ２はそれぞれ独立して炭素原子数
   ４ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし乙のシ
   クロアルキル基、炭素原子数７匁いし１５のアルアルキ
   ル基または炭素原子数７ないし１５のアルカリール基を
   表わし、 Ａは炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表わし、 Ｅは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、フェニレ
   ン基、炭素原子数１ないし９のアルキル基１個または２
   個によって置換されたフェニレン基；あるいは基−Ｔ（
   ＯＴ）ｊ−（式中、Ｔはエチレン、プロピレンまたは１
   ゜４−ブチレン基を表わし、そしてｔは１ないし１０の
   数を表わす。）を表わすか；あるいは基−Ｇ−Ｘ−Ｇ−
   （式中、Ｇは炭素原子数２ないし４のアルキレン基を表
   わし、そしてＸは硫黄原子捷たは−Ｎ（Ｒ）−（式中、
   Ｒは水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基
   を表わす。）を表わす。）を表わし、 ｐは０または１の数を表わし、そして ｎは２ないし５０の数を表わす。〕で表わされる反復構
   造単位を有するポリマーを安定化有効量用いて、安定化
   された、酸化分解、熱分解および化学線分解する有機材
   料からなる組成物。
7. （７）有機材料が合成ポリマーである特許請求の範囲第
   ６項記載の組成物。
8. （８）上記合成ポリマーがポリオレフィンホモポリマー
   またコポリマーである特許請求の範囲第７項記載の組成
   物。
9. （９）上記合成ポリマーがポリ塩化ビニルである特許請
   求の範囲第７項記載の組成物。 α０２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、
   ４，４′−チオ−ビス（６−第三ブチル−３−メチルフ
   ェノール）、４，４′−メチレン−ビス（６−ＪＥ三ズ
   ブチル４−メチルフェノール）、４，４′−メチレン−
   ビス（２，６−ジー第三ブチルフェノール）、１，１．
   ３−）リス（５−ｍ三）−１−ルー４−ヒドロキシ−２
   −メチルフェニル）フタン、’＋３＋５−ト！ｊス（３
   ゜５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２
   ，４，６−ドリメチルベンゼン、２−オクチルチオ−４
   ，６−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
   、アニリノ）　−ｓ　−１−ＩＪアジン、ｎ−’オクタ
   デシル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
   シンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキス（３
   ，５−シー第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメ
   ート）、１，３．５−トリス（３，５−ジー第三ブチル
   −４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、チオジ
   エチレンビス（３，５−シー第三ブチル−４−ヒドロキ
   シ−ヒドロシンナメート）、β−（３，５−ジー第三ブ
   チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のトリス
   （２−ヒドロキシエチル）インシアヌレートエステル、
   ６．６’−エチリテンービス（２１４−ジー第三ブチル
   フェノール）、６，６′−メチレン−ビス（２，４−ジ
   ー第三ブチルフェノール）および１，３．５−トリス（
   ４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメチルベ
   ンジル）インシアヌレートからなる群よシ選ばれたフェ
   ノール系酸化防止剤を特徴とする特許請求の範囲第６項
   記載の組成物。