JPS59143249A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPS59143249A JPS59143249A JP58017490A JP1749083A JPS59143249A JP S59143249 A JPS59143249 A JP S59143249A JP 58017490 A JP58017490 A JP 58017490A JP 1749083 A JP1749083 A JP 1749083A JP S59143249 A JPS59143249 A JP S59143249A
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- Japan
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- sample
- reaction gas
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- sample chamber
- gas
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、走査電子顕微鏡に係り、特に、試料に試料
室内でプラズマエツチングを行なうことが可能な走査電
子顕微鏡に関する。
室内でプラズマエツチングを行なうことが可能な走査電
子顕微鏡に関する。
近年、生体試料等を走査電子顕微鏡で観察することがよ
く行なわれる。これは、走査電子顕微鏡での観察は試料
表面の観察で−あシ、試料はバルクのままでよく、光学
顕微鏡の観察像との対応をつけやすいためでもある。ま
た像の集魚深度も深いため立体的な試料を観察するのに
適している。
く行なわれる。これは、走査電子顕微鏡での観察は試料
表面の観察で−あシ、試料はバルクのままでよく、光学
顕微鏡の観察像との対応をつけやすいためでもある。ま
た像の集魚深度も深いため立体的な試料を観察するのに
適している。
ここで生体の試料を作成して、その内部の観察を行なう
場合には、試料の観察したい部分を露出する必要がある
。そのため試料を剃刀等で切断する方法もあるがその切
断面を顕微鏡で観察すると、刃物によって試料につぶれ
が発生していたり、引っかき傷ができていたりして適当
ではない。
場合には、試料の観察したい部分を露出する必要がある
。そのため試料を剃刀等で切断する方法もあるがその切
断面を顕微鏡で観察すると、刃物によって試料につぶれ
が発生していたり、引っかき傷ができていたりして適当
ではない。
そこでプラズマエツチング法で試料表面のエツチングを
行ない、試料内部を表面に出し、この表面の観察を行な
っている。この方法は、プラズマ化した反応ガスを、試
料の表面に衝突させ、試料表面の原子、分子をはじき飛
ばすことによって、試料の表面を徐々に削シ取って内部
を暴露していくものである。
行ない、試料内部を表面に出し、この表面の観察を行な
っている。この方法は、プラズマ化した反応ガスを、試
料の表面に衝突させ、試料表面の原子、分子をはじき飛
ばすことによって、試料の表面を徐々に削シ取って内部
を暴露していくものである。
しかし、このプラズマエツチング装置は、一般には走査
電子顕微鏡とは、別体の装置であるから、試料を希望す
る程度までエツチングするためには、試料を少しづつエ
ツチングしては、そのエツチングの程度を走査電子顕微
鏡で観察し、エツチングが適度になされるまでエツチン
グと観察をくり返していた。この方法では、エツチング
の度に走査電子顕微鏡の試料台に試料を設置しなおすた
めその設置に誤差があり、同一視野の観察を行なうこと
は非常に困難であった。また、このような方法にあって
は、エツチングをしてから実際に試料観察を行なうまで
に時間がかかるため、その間に試料表面が変化してしま
ったシ、移動の際のショック等で表面の微細構造が破壊
されてしまい、試料の正確な状態の観察は困難であると
いう不具合があった。
電子顕微鏡とは、別体の装置であるから、試料を希望す
る程度までエツチングするためには、試料を少しづつエ
ツチングしては、そのエツチングの程度を走査電子顕微
鏡で観察し、エツチングが適度になされるまでエツチン
グと観察をくり返していた。この方法では、エツチング
の度に走査電子顕微鏡の試料台に試料を設置しなおすた
めその設置に誤差があり、同一視野の観察を行なうこと
は非常に困難であった。また、このような方法にあって
は、エツチングをしてから実際に試料観察を行なうまで
に時間がかかるため、その間に試料表面が変化してしま
ったシ、移動の際のショック等で表面の微細構造が破壊
されてしまい、試料の正確な状態の観察は困難であると
いう不具合があった。
本発明は、以上のような従来の不具合に鑑みなされたも
のであって、その目的は、試料室内で試料のプラズマエ
ツチングが可能な走査電子顕微鏡を提供することである
。
のであって、その目的は、試料室内で試料のプラズマエ
ツチングが可能な走査電子顕微鏡を提供することである
。
本発明は、上記目的を達成するために、走査電子顕微鏡
の試料室にプラズマ発生装置を取付ける一方、この試料
室に、上記プラズマ発生装置に連結されプラズマ発生装
置でプラズマ化した反応ガスを試料台上の試料に向けて
吹付ける反応ガス導入管と、排気ポンプに連結され上記
反応ガスを試料室外に排出する反応ガス排出管とを備え
たことを要旨とするものである。反応ガス導入管と排出
管とは、試料をはさんで、互いに対向して開口している
のが反応ガスの送給に最適である。そして、反応カスは
、反応ガス導入管から試料へ当ってから排出管へと吸引
され、試料室内に充満することは殆どない。
の試料室にプラズマ発生装置を取付ける一方、この試料
室に、上記プラズマ発生装置に連結されプラズマ発生装
置でプラズマ化した反応ガスを試料台上の試料に向けて
吹付ける反応ガス導入管と、排気ポンプに連結され上記
反応ガスを試料室外に排出する反応ガス排出管とを備え
たことを要旨とするものである。反応ガス導入管と排出
管とは、試料をはさんで、互いに対向して開口している
のが反応ガスの送給に最適である。そして、反応カスは
、反応ガス導入管から試料へ当ってから排出管へと吸引
され、試料室内に充満することは殆どない。
また、上記構成に加え、試料室にバリアグルオｔ、、１
．０皮ヤッ、−０，よ、。０よ、あ。
．０皮ヤッ、−０，よ、。０よ、あ。
ガスの粒子の飛散をさえぎり、対物レンズ等を保護する
ことが可能である。
ことが可能である。
以下図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本願の第１の発明の実施例を示している。こ
の実施例において走査電子顕微鏡の試料室Ｓには、プラ
ズマ発生装置１が取り付けられている。このプラズマ発
生装置は、高周波電源ＨとマツチングネットワークＭと
プラズマ発生部Ｐとからなる。プラズマ発生部Ｐは石英
ガラスの筒体で形成され、この筒体の外周に電極対が設
けられ１おυ、この電極対ｅ、ｅには、高周波電源Ｈと
マツチングネットワークＭからの高周波電圧が引加され
る。プラズマ発生部Ｐには、反応ガスポンベＢがパルプ
９を介して接続されている。このプラズマ発生部Ｐの反
応ガスボンベＢと接続された側と反対側には、石瑛ガラ
ス等の耐鴎性に富んだ材料で出来た反応ガス導入管２が
接続されており、この反応ガス導入管２は、走査電子顕
微鏡の試料室Ｓ内に突設され１いる。試料室Ｓと反応ガ
ス導入管２との接続部は、０リング等でシールされ、試
料室Ｓの真空が破れないようにしている。反応ガス導入
管２の試料室Ｓ側の先端部は、試料室Ｓ内に設置された
試料台４上の試料５近傍で試料５に向は開口しており、
略円錐形状に先端が絞られてノズル構造をなし、試料５
に効率よく反応ガスが吹き付けられるようになっている
。反応ガス排出管３はこの反応ガス導入管２の開口に試
料５をはさんで対向し且つ開口して設置されている。こ
の反応ガス排出管３は、反応ガス導入管２と同様に石英
ガラスで形成されており、試料室Ｓ内の試料５の近傍か
ら試料室Ｓ外へと喫゛設され一〇いる。この場合も反応
ガス導入管と同様に試料室Ｓとの接続部はＱ ＩＪング
でシールされている。反応ガス排出管３の試料室Ｓ外の
端部には、排気ボンダＥが接続されでいる。この排気ポ
ンプＥには、高真空吸引を行い得る油回転ポンプ等が用
いられる。
の実施例において走査電子顕微鏡の試料室Ｓには、プラ
ズマ発生装置１が取り付けられている。このプラズマ発
生装置は、高周波電源ＨとマツチングネットワークＭと
プラズマ発生部Ｐとからなる。プラズマ発生部Ｐは石英
ガラスの筒体で形成され、この筒体の外周に電極対が設
けられ１おυ、この電極対ｅ、ｅには、高周波電源Ｈと
マツチングネットワークＭからの高周波電圧が引加され
る。プラズマ発生部Ｐには、反応ガスポンベＢがパルプ
９を介して接続されている。このプラズマ発生部Ｐの反
応ガスボンベＢと接続された側と反対側には、石瑛ガラ
ス等の耐鴎性に富んだ材料で出来た反応ガス導入管２が
接続されており、この反応ガス導入管２は、走査電子顕
微鏡の試料室Ｓ内に突設され１いる。試料室Ｓと反応ガ
ス導入管２との接続部は、０リング等でシールされ、試
料室Ｓの真空が破れないようにしている。反応ガス導入
管２の試料室Ｓ側の先端部は、試料室Ｓ内に設置された
試料台４上の試料５近傍で試料５に向は開口しており、
略円錐形状に先端が絞られてノズル構造をなし、試料５
に効率よく反応ガスが吹き付けられるようになっている
。反応ガス排出管３はこの反応ガス導入管２の開口に試
料５をはさんで対向し且つ開口して設置されている。こ
の反応ガス排出管３は、反応ガス導入管２と同様に石英
ガラスで形成されており、試料室Ｓ内の試料５の近傍か
ら試料室Ｓ外へと喫゛設され一〇いる。この場合も反応
ガス導入管と同様に試料室Ｓとの接続部はＱ ＩＪング
でシールされている。反応ガス排出管３の試料室Ｓ外の
端部には、排気ボンダＥが接続されでいる。この排気ポ
ンプＥには、高真空吸引を行い得る油回転ポンプ等が用
いられる。
反応ガスボンベＢ内の反応ガスは、酸素ガスや酸素ガス
と四７ツ化炭素ガスを混合したガス等であって、上記プ
ラズマ発生部Ｐの電極対間！ｔを通過する際に高周波電
圧を引加され、プラズマ状態となる。このプラズマ状態
となった反応ガスは、反応ガス導入管２を通り、その開
口から試料台４上の試料５に吹き付けられる。
と四７ツ化炭素ガスを混合したガス等であって、上記プ
ラズマ発生部Ｐの電極対間！ｔを通過する際に高周波電
圧を引加され、プラズマ状態となる。このプラズマ状態
となった反応ガスは、反応ガス導入管２を通り、その開
口から試料台４上の試料５に吹き付けられる。
試料５は、例えは生体の組紐等であるが、プラズマ化し
た反応ガスをその表面に吹き付けると、試料５の表面の
原子、分子ははじき飛ばされエツチングされる。そして
、時間がたつにつれて試料表面は徐々に削り取られて内
部を暴露して旨く。この反応ガス導入管２がもの反応ガ
スの吹出し中には、反応ガス排出管３に接続された排出
ポンプＥを運転し、上記反応ガス導入管２から吹出され
た反応ガス及び、この反応ガスによってｔよじき飛ばさ
れた原子、分子を反応ガス排出管３υ１］口部から取入
れ、且つ試料室外に排出するものである。
た反応ガスをその表面に吹き付けると、試料５の表面の
原子、分子ははじき飛ばされエツチングされる。そして
、時間がたつにつれて試料表面は徐々に削り取られて内
部を暴露して旨く。この反応ガス導入管２がもの反応ガ
スの吹出し中には、反応ガス排出管３に接続された排出
ポンプＥを運転し、上記反応ガス導入管２から吹出され
た反応ガス及び、この反応ガスによってｔよじき飛ばさ
れた原子、分子を反応ガス排出管３υ１］口部から取入
れ、且つ試料室外に排出するものである。
第２図は、本願の第２の発明の実施例を示している。こ
の実施例において、走査電子顕微鏡の試料室Ｓには、プ
ラズマ発生装置１と反応ガス導入管２と、反応ガス排出
管３とバリアプルリークパルプ６とが設置されている。
の実施例において、走査電子顕微鏡の試料室Ｓには、プ
ラズマ発生装置１と反応ガス導入管２と、反応ガス排出
管３とバリアプルリークパルプ６とが設置されている。
プラズマ発生装置１と反応ガス導入管２と、反応ガス排
出管３の構成は、前述した第１の発明におけるそれぞれ
の部材と同様である。本発明においては、走査電子顕微
鏡の試料室Ｓの壁面にバリアプルリークパルプ６を設け
、試料室Ｓ内に外気又は不活性ガスを導入することがで
きるようにしている。
出管３の構成は、前述した第１の発明におけるそれぞれ
の部材と同様である。本発明においては、走査電子顕微
鏡の試料室Ｓの壁面にバリアプルリークパルプ６を設け
、試料室Ｓ内に外気又は不活性ガスを導入することがで
きるようにしている。
外気又は不活性ガスの導入は、プラズマエツチングを行
なう際に行なわれる。この時の各部の気体の圧力を、反
応ガス導入管２内のガス圧力をＰ２、反応ガス排出管３
内のガス圧力をＰＳ、試料室Ｓ内のガス圧力をＰｓとす
ると、ＰＳ＞Ｐ２＞ＰＳの関係になるよう、バリアプル
リークパルプ６で外気又は不活性ガスを試料室Ｓ内に導
入する。このようにすれば、第３図に示すように、反応
ガス導入管２がら吹出される反応ガスは、反応ガス排出
管３に吹い込まれる際に、試料室内に導入された外気又
は不活性ガスに包み込まれる様に排出されるため反応ガ
スは試料室内に散乱することがなく、すべて反応ガス排
出管３に吸い込まれる。
なう際に行なわれる。この時の各部の気体の圧力を、反
応ガス導入管２内のガス圧力をＰ２、反応ガス排出管３
内のガス圧力をＰＳ、試料室Ｓ内のガス圧力をＰｓとす
ると、ＰＳ＞Ｐ２＞ＰＳの関係になるよう、バリアプル
リークパルプ６で外気又は不活性ガスを試料室Ｓ内に導
入する。このようにすれば、第３図に示すように、反応
ガス導入管２がら吹出される反応ガスは、反応ガス排出
管３に吹い込まれる際に、試料室内に導入された外気又
は不活性ガスに包み込まれる様に排出されるため反応ガ
スは試料室内に散乱することがなく、すべて反応ガス排
出管３に吸い込まれる。
第４図は、本願の第３の発明の実施例を示している。こ
の実施例において、走査電子顕微鏡の試料室には、プラ
ズマ発生装置１と、反応ガス導入管２と、反応ガス排出
管３と、試料台４と対物レンズ１０との間に可動シヤツ
ク１が設けである。本発明においては、走査顕微鏡の試
料室Ｓの試料台４と対物レンズ１ｏとの間に、試料ては
、と６ツター１は、耐蝕性の材質で例えばステンレス製
あるいは、ステンレスをフッ操作によって試料５のエツ
チング時には、反応ガス導入管２から吹き出される反応
ガスから走査電子顕微鏡の対物レンズ１０を遮蔽する位
置に移動され、エツチングの後、試料５の観察時には、
試料５に入射する電子線の経路に影響を与えない位置ま
で移動させることができる。
の実施例において、走査電子顕微鏡の試料室には、プラ
ズマ発生装置１と、反応ガス導入管２と、反応ガス排出
管３と、試料台４と対物レンズ１０との間に可動シヤツ
ク１が設けである。本発明においては、走査顕微鏡の試
料室Ｓの試料台４と対物レンズ１ｏとの間に、試料ては
、と６ツター１は、耐蝕性の材質で例えばステンレス製
あるいは、ステンレスをフッ操作によって試料５のエツ
チング時には、反応ガス導入管２から吹き出される反応
ガスから走査電子顕微鏡の対物レンズ１０を遮蔽する位
置に移動され、エツチングの後、試料５の観察時には、
試料５に入射する電子線の経路に影響を与えない位置ま
で移動させることができる。
これらの発明は、以上のような構成を有するから、走査
電子ｇ微鋭の試料室内で試料のエツチングを行なう際試
料以外の部分を腐蝕することなく、プラズマエツチング
を行なうことができるため、試料のエツチングと観察を
くり返し同一試料台上で行なえ、同一視野のエツチング
の程度を確認しながら試料の観察を容易に行なうことが
できる他、試料の経時変化をおこさせたり試料台への再
設置の際のショック等で微細構造を破壊することがない
ため試料の正確な観察を行なうことができるという効果
を奏するものである。
電子ｇ微鋭の試料室内で試料のエツチングを行なう際試
料以外の部分を腐蝕することなく、プラズマエツチング
を行なうことができるため、試料のエツチングと観察を
くり返し同一試料台上で行なえ、同一視野のエツチング
の程度を確認しながら試料の観察を容易に行なうことが
できる他、試料の経時変化をおこさせたり試料台への再
設置の際のショック等で微細構造を破壊することがない
ため試料の正確な観察を行なうことができるという効果
を奏するものである。
第１図は第１の発明の実施例に係る走査電子顕微鏡を示
す断面図、第２図は第２の発明の実施例に係る走査電子
顕微鏡を示す断面図、第３図は第２図に示す走査電子顕
微鏡の試料台付近の気体の流れを示す説明図、第４図は
第３の発明の実施例に係る走査電子顕微鏡を示す説明図
である。 １・・・プラズマ発生装置 ２・・・反応ガス導入管３
・・・反応ガス排出管 ４・・・試料台特許出願人
株式会社 明石製作所 手続補正書 昭和ｒ５昨３月２９日 特許庁長官若杉和夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年 特 許願第１７４９０号 ２、発明の名称 走査電子顕微鏡 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 氏 名（名称）株式会社 明石製作所 ４、代 理 人 〒１０５電話５８０−８９３１番６、
補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 補正の内容 １）明細書筒９頁第加行の「吹い込まれる」の記載を「
吸い込まれる」と訂正する。
す断面図、第２図は第２の発明の実施例に係る走査電子
顕微鏡を示す断面図、第３図は第２図に示す走査電子顕
微鏡の試料台付近の気体の流れを示す説明図、第４図は
第３の発明の実施例に係る走査電子顕微鏡を示す説明図
である。 １・・・プラズマ発生装置 ２・・・反応ガス導入管３
・・・反応ガス排出管 ４・・・試料台特許出願人
株式会社 明石製作所 手続補正書 昭和ｒ５昨３月２９日 特許庁長官若杉和夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年 特 許願第１７４９０号 ２、発明の名称 走査電子顕微鏡 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 氏 名（名称）株式会社 明石製作所 ４、代 理 人 〒１０５電話５８０−８９３１番６、
補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 補正の内容 １）明細書筒９頁第加行の「吹い込まれる」の記載を「
吸い込まれる」と訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）走査電子顕微鏡の試料室にプラズマ発生装置を取り
付ける一方、この試料室に上記プラズマ発生装置に連結
されプラズマ発生装置でプラズマ化した反応ガスを試料
台上の試料に向けて吹き付ける反応ガス導入管と、排気
ポンプに連結され上記反応ガスを試料室外に排出する反
応ガス排出管と全備えることにより、試料室内で試料に
プラズマエツチング処理全行なえるようにしたことを特
徴とする走査電子顕微鏡。 ２）走査電子顕微鏡の試料室にプラズマ発生装置を取り
付ける一方、この試料室に上記プラズマ装置に連結され
上記プラズマ発生装置でプラズマ化した反応ガスを試料
台上の試料に向けて吹き付ける反応ガス導入管と、排気
ポンプに連結され上記反応ガスを試料室外に排導入する
バリアグルリークパルプとを備えることにより、試料室
内で試料にプラズマエツチング処理を行えるようにした
ことを特徴とする走査電子顕微鏡。 ３）走査電子顕微鏡の試料室にプラズマ発生装置を取り
付ける一方、この試料室に上記プラズマ発生装置に連結
され、プラズマ発生装置でプラズマ化した反応ガスを試
料台上の試料に向けて吹き付ける反応ガス導入管と、排
気ポンプに連結され上記反応ガスを試料室外に排出する
反応ガス排出管と、上記試料台と対物レンズとの間に設
置される可動シャッターとを備えることにより、試料室
内で試料にプラズマエツチング処理を行なえるようにし
たことを特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58017490A JPH0719556B2 (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58017490A JPH0719556B2 (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59143249A true JPS59143249A (ja) | 1984-08-16 |
| JPH0719556B2 JPH0719556B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=11945441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58017490A Expired - Lifetime JPH0719556B2 (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719556B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007234583A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-09-13 | Toshiba Corp | 荷電ビーム装置および欠陥修正方法 |
| JP2008046324A (ja) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Sanyu Seisakusho:Kk | 顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置 |
| JP2010153278A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線加工装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5356962A (en) * | 1976-11-02 | 1978-05-23 | Nippon Steel Corp | Capsule unit for electron microscope |
| JPS5531733U (ja) * | 1978-08-21 | 1980-02-29 |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP58017490A patent/JPH0719556B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5356962A (en) * | 1976-11-02 | 1978-05-23 | Nippon Steel Corp | Capsule unit for electron microscope |
| JPS5531733U (ja) * | 1978-08-21 | 1980-02-29 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007234583A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-09-13 | Toshiba Corp | 荷電ビーム装置および欠陥修正方法 |
| JP2008046324A (ja) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Sanyu Seisakusho:Kk | 顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置 |
| JP2010153278A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線加工装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0719556B2 (ja) | 1995-03-06 |
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