JPS59145576A - プログラム可能なmosトランジスタ - Google Patents
プログラム可能なmosトランジスタInfo
- Publication number
- JPS59145576A JPS59145576A JP58210690A JP21069083A JPS59145576A JP S59145576 A JPS59145576 A JP S59145576A JP 58210690 A JP58210690 A JP 58210690A JP 21069083 A JP21069083 A JP 21069083A JP S59145576 A JPS59145576 A JP S59145576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charge
- trap
- control electrode
- region
- transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0408—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
- H10D30/68—Floating-gate IGFETs
- H10D30/681—Floating-gate IGFETs having only two programming levels
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P34/00—Irradiation with electromagnetic or particle radiation of wafers, substrates or parts of devices
- H10P34/40—Irradiation with electromagnetic or particle radiation of wafers, substrates or parts of devices with high-energy radiation
- H10P34/42—Irradiation with electromagnetic or particle radiation of wafers, substrates or parts of devices with high-energy radiation with electromagnetic radiation, e.g. laser annealing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US44040582A | 1982-11-09 | 1982-11-09 | |
| US440405 | 1982-11-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59145576A true JPS59145576A (ja) | 1984-08-21 |
Family
ID=23748632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58210690A Pending JPS59145576A (ja) | 1982-11-09 | 1983-11-09 | プログラム可能なmosトランジスタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0108650A3 (de) |
| JP (1) | JPS59145576A (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038257A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 株式会社アドバンテスト | プログラマブルデバイス、およびデータ書込方法 |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10043204A1 (de) | 2000-09-01 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Feld-Effekt-Transistor, Verfahren zur Strukturierung eines OFETs und integrierte Schaltung |
| DE10045192A1 (de) | 2000-09-13 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Datenspeicher, RFID-Tag mit organischem Datenspeicher, Verwendung eines organischen Datenspeichers |
| DE10061299A1 (de) | 2000-12-08 | 2002-06-27 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Feststellung und/oder Weiterleitung zumindest eines Umwelteinflusses, Herstellungsverfahren und Verwendung dazu |
| DE10061297C2 (de) | 2000-12-08 | 2003-05-28 | Siemens Ag | Verfahren zur Sturkturierung eines OFETs |
| DE10105914C1 (de) | 2001-02-09 | 2002-10-10 | Siemens Ag | Organischer Feldeffekt-Transistor mit fotostrukturiertem Gate-Dielektrikum und ein Verfahren zu dessen Erzeugung |
| DE10151036A1 (de) | 2001-10-16 | 2003-05-08 | Siemens Ag | Isolator für ein organisches Elektronikbauteil |
| DE10151440C1 (de) | 2001-10-18 | 2003-02-06 | Siemens Ag | Organisches Elektronikbauteil, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
| DE10160732A1 (de) | 2001-12-11 | 2003-06-26 | Siemens Ag | Organischer Feld-Effekt-Transistor mit verschobener Schwellwertspannung und Verwendung dazu |
| DE10226370B4 (de) | 2002-06-13 | 2008-12-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Substrat für ein elektronisches Bauteil, Verwendung des Substrates, Verfahren zur Erhöhung der Ladungsträgermobilität und Organischer Feld-Effekt Transistor (OFET) |
| WO2004017439A2 (de) | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektronisches bauteil mit vorwiegend organischen funktionsmaterialien und herstellungsverfahren dazu |
| DE50306683D1 (de) | 2002-08-23 | 2007-04-12 | Polyic Gmbh & Co Kg | Organisches bauelement zum überspannungsschutz und dazugehörige schaltung |
| DE10339036A1 (de) | 2003-08-25 | 2005-03-31 | Siemens Ag | Organisches elektronisches Bauteil mit hochaufgelöster Strukturierung und Herstellungsverfahren dazu |
| DE10340643B4 (de) | 2003-09-03 | 2009-04-16 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Druckverfahren zur Herstellung einer Doppelschicht für Polymerelektronik-Schaltungen, sowie dadurch hergestelltes elektronisches Bauelement mit Doppelschicht |
| DE10340644B4 (de) | 2003-09-03 | 2010-10-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Mechanische Steuerelemente für organische Polymerelektronik |
| DE102004040831A1 (de) | 2004-08-23 | 2006-03-09 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Funketikettfähige Umverpackung |
| DE102004059465A1 (de) | 2004-12-10 | 2006-06-14 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Erkennungssystem |
| DE102004059464A1 (de) | 2004-12-10 | 2006-06-29 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbauteil mit Modulator |
| DE102004063435A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-27 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Organischer Gleichrichter |
| DE102005009820A1 (de) | 2005-03-01 | 2006-09-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbaugruppe mit organischen Logik-Schaltelementen |
| DE102005009819A1 (de) | 2005-03-01 | 2006-09-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbaugruppe |
| DE102005017655B4 (de) | 2005-04-15 | 2008-12-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Mehrschichtiger Verbundkörper mit elektronischer Funktion |
| DE102005031448A1 (de) | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Aktivierbare optische Schicht |
| DE102005035589A1 (de) | 2005-07-29 | 2007-02-01 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
| DE102005044306A1 (de) | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronische Schaltung und Verfahren zur Herstellung einer solchen |
| DE102006013605A1 (de) | 2006-03-22 | 2007-10-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Programmieren einer elektronischen Schaltung sowie elektronische Schaltung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1920162A1 (de) * | 1969-04-21 | 1970-10-22 | Siemens Ag | Feldeffekttransistoranordnung,insbesondere fuer Speicherzwecke |
| DE2446088A1 (de) * | 1974-09-26 | 1976-04-01 | Siemens Ag | Statisches speicherelement und verfahren zu seiner herstellung |
| DE2842631A1 (de) * | 1978-09-29 | 1980-04-10 | Siemens Ag | Verstaerkerstufe, enthaltend einen ersten ig-fet |
| DE2912859A1 (de) * | 1979-03-30 | 1980-10-09 | Siemens Ag | Ig-fet mit schwebendem speichergate und mit steuergate |
-
1983
- 1983-11-09 JP JP58210690A patent/JPS59145576A/ja active Pending
- 1983-11-09 EP EP83306844A patent/EP0108650A3/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038257A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 株式会社アドバンテスト | プログラマブルデバイス、およびデータ書込方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0108650A3 (de) | 1986-02-12 |
| EP0108650A2 (de) | 1984-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS59145576A (ja) | プログラム可能なmosトランジスタ | |
| US4173766A (en) | Insulated gate field-effect transistor read-only memory cell | |
| CA1067208A (en) | Insulated gate field-effect transistor read-only memory array | |
| US6970383B1 (en) | Methods of redundancy in a floating trap memory element based field programmable gate array | |
| US6576511B2 (en) | Method for forming nitride read only memory | |
| US6956258B2 (en) | Reprogrammable non-volatile memory using a breakdown phenomena in an ultra-thin dielectric | |
| US6512696B1 (en) | Method of programming and erasing a SNNNS type non-volatile memory cell | |
| US5467306A (en) | Method of using source bias to increase threshold voltages and/or to correct for over-erasure of flash eproms | |
| US4757359A (en) | Thin oxide fuse | |
| KR100396966B1 (ko) | 박막트랜지스터장치의제조방법 | |
| US7177193B2 (en) | Programmable fuse and antifuse and method therefor | |
| US6566699B2 (en) | Non-volatile electrically erasable and programmable semiconductor memory cell utilizing asymmetrical charge trapping | |
| US4384349A (en) | High density electrically erasable floating gate dual-injection programmable memory device | |
| JPH10335503A (ja) | 読み出し専用メモリ、メモリ、メモリセル、及びメモリセルのプログラミング方法 | |
| JPH02168674A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| US4503524A (en) | Electrically erasable dual-injector floating gate programmable memory device | |
| US6027974A (en) | Nonvolatile memory | |
| US4942450A (en) | Semiconductor memory device having non-volatile memory transistors | |
| US6862216B1 (en) | Non-volatile memory cell with gated diode and MOS transistor and method for using such cell | |
| US6159800A (en) | Method of forming a memory cell | |
| US6329687B1 (en) | Two bit flash cell with two floating gate regions | |
| KR0179791B1 (ko) | 플래쉬 메모리 소자 및 그 제조방법 | |
| US20010049164A1 (en) | One-time UV-programmable non-volatile semiconductor memory and method of programming such a semiconductor memory | |
| US4393479A (en) | Method for erasing data of a non-volatile semiconductor memory integrated circuit | |
| US5291047A (en) | Floating gate type electrically programmable read only memory cell with variable threshold level in erased state |