JPS5914558B2 - アルミニウム系母材の下地銅メツキ方法 - Google Patents
アルミニウム系母材の下地銅メツキ方法Info
- Publication number
- JPS5914558B2 JPS5914558B2 JP1570479A JP1570479A JPS5914558B2 JP S5914558 B2 JPS5914558 B2 JP S5914558B2 JP 1570479 A JP1570479 A JP 1570479A JP 1570479 A JP1570479 A JP 1570479A JP S5914558 B2 JPS5914558 B2 JP S5914558B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- aluminum
- plating
- aluminum base
- bondal
- Prior art date
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- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルミニウム系母材特に純アルミニウム母材と
アルミニウム合金母材が複合された母材の下地銅メッキ
方法に関する。
アルミニウム合金母材が複合された母材の下地銅メッキ
方法に関する。
従来のアルミニウム系母材の下地銅メッキ方法として次
の処理工程が公知である。
の処理工程が公知である。
メッキすべきアルミニウムを３０〜３５重量％の硝酸水
溶液中に３０〜９０秒間浸漬してその表面の酸化被膜（
スマツト）を除去することがまず行なわれ、次にこのア
ルミニウムの串面にＺｎを主体とするボ５ ンダル置換
膜を形成するためにＺｎ：６８重量％、Ｃｕ：８重量％
、Ｎｉ：６重量％の液中にアルミニウムを浸漬せしめて
いた。しかし例えば純アルミニウムとＡｔ−Ｍｇ−ｓｉ
系合金を溶接して１つの物とし、この異種材を同時にス
マツト除去、１０ボンダルデイツプ等の処理をしようと
した場合、Ａι−Ｍｇ−Ｓｉ系合金のようなアルミニウ
ム合金は前記処理工程では酸化被膜を十分に除去するこ
とが困難であるため、ボンダル置換膜の付着状態も均一
でなく、十分に酸化被膜の除去できない１５表面に対し
てボンダル置換膜の生成に不都合を生じていた。又この
ボンダル置換膜を形成する工程は一工程にて行なわれて
いたので、特に均一な付着膜が得られにくい難点があつ
た。又この場合のボンダル置換膜は強酸、強アルカリに
容易に溶解２０するので、次工程の下地銅メッキ液の組
成に甚だ制約を受け、硫酸銅メッキ液、高ＰＨシアン化
浴は採用できなく、高ＰＨ青化第１銅を主成分とするメ
ッキ液も採用ｕ維いものであつた。又、ボンダル置換膜
の溶出度合を極力抑制するためには、メ２５ツキ液中に
浸漬されている時間即ち通電時間を短縮する必要がある
。しかるに従来用いられうるメッキ液組成では陰極電流
密度が低いため高速メッキに不向きであつた。本発明は
前記欠点を除去したもので、以下に本３０発明の一実施
例を図に基づいて詳細に説明する。
溶液中に３０〜９０秒間浸漬してその表面の酸化被膜（
スマツト）を除去することがまず行なわれ、次にこのア
ルミニウムの串面にＺｎを主体とするボ５ ンダル置換
膜を形成するためにＺｎ：６８重量％、Ｃｕ：８重量％
、Ｎｉ：６重量％の液中にアルミニウムを浸漬せしめて
いた。しかし例えば純アルミニウムとＡｔ−Ｍｇ−ｓｉ
系合金を溶接して１つの物とし、この異種材を同時にス
マツト除去、１０ボンダルデイツプ等の処理をしようと
した場合、Ａι−Ｍｇ−Ｓｉ系合金のようなアルミニウ
ム合金は前記処理工程では酸化被膜を十分に除去するこ
とが困難であるため、ボンダル置換膜の付着状態も均一
でなく、十分に酸化被膜の除去できない１５表面に対し
てボンダル置換膜の生成に不都合を生じていた。又この
ボンダル置換膜を形成する工程は一工程にて行なわれて
いたので、特に均一な付着膜が得られにくい難点があつ
た。又この場合のボンダル置換膜は強酸、強アルカリに
容易に溶解２０するので、次工程の下地銅メッキ液の組
成に甚だ制約を受け、硫酸銅メッキ液、高ＰＨシアン化
浴は採用できなく、高ＰＨ青化第１銅を主成分とするメ
ッキ液も採用ｕ維いものであつた。又、ボンダル置換膜
の溶出度合を極力抑制するためには、メ２５ツキ液中に
浸漬されている時間即ち通電時間を短縮する必要がある
。しかるに従来用いられうるメッキ液組成では陰極電流
密度が低いため高速メッキに不向きであつた。本発明は
前記欠点を除去したもので、以下に本３０発明の一実施
例を図に基づいて詳細に説明する。
図には、１工程から＠工程までに下地銅メッキすべきア
ルミニウム系母材として、本体に純アルミニウムを用い
、これに冷却フィンとしてＡを一Ｍｇ−Ｓｉ系合金を溶
接したものに、銀もしくは３５錫メッキをする際の全工
程を示す。まず工程１にてトリクロルエチレンにより予
備脱脂し、工程２にてアルカリエッチングを行ない、工
程３において水洗する。この表面の浄化されたアルミニ
ウム系母材は工程４において３０〜３５重量％の硝酸と
５重量％の硫酸との混合水溶液中に３０〜６０秒間浸漬
され、表面の酸化被膜が除去される。この場合従来の如
く硝酸のみでなく少量の硫酸例えば５重量％の硫酸の添
加による混合水溶液をスマツト除去に用いたので、酸化
被膜を除去することが困難であつたＡｔ−Ｍｇ−Ｓｉ系
合金等の酸化被膜の除去作用が著しく向上し、純アルミ
ニウムとＡｔ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金といつた異種材を同時
にスマツト除去を行なえることが確認された。この表面
が活性化されたアルミニウム系母材を工程５にて水洗し
、工程６にてＺｎ：６８重量％、Ｃｕ：８重量％、Ｎｉ
：６重量％の水溶液いわゆるボンダル液中に５〜１０秒
間浸漬し、アルミニウム系母材表面にＺｎを主体とする
ボンダル置換膜が形成されるが、一回のみのボンダル置
換法においては膜が平均的に形成されず、かつ密着度が
不十分であることが確認された。そこで再度工程７にて
水洗後工程４〜７と同様に工程８〜５を反復して、工程
８にてボンダル液中に１〜２分間浸漬されたアルミニウ
ム系母材の表面にＺｎを主体とする均一な銅メツキの下
地が形成される。そして工程＠にて青化第１銅を主成分
とするメツキ液、例えば青化第１銅：４５ｇ／ｔ１シア
ン化ナトリウム：１０〜１２ｇ／ｔ１水酸化カリウム：
２０ｇ／ｔ１ロツシエル塩：２０ｇ／ｔ１光沢剤適量か
らなるメツキ液を採用することにより、このメツキ液を
ＰＨｌＯ．５〜１１．０の範囲に維持すると陰極電流密
度を２．５〜５Ａ／ｄイまであげられ、これにより従来
よりはるかに高速メツキが行なわれることになつたので
、ボンダル置換膜の溶出も軽減できた。その結果銅メツ
キの厚さが均一で、密着度が著しく向上し、耐蝕性も増
すことが確認された。工程◎にてこの銅メツキされたア
ルミニウム系合金を水洗し、工程［有］較て予備メツキ
として銀（もしくは錫）ストライクを行ない、工程９に
て本メツキを行なう。そして工程９にて母材を水洗し、
工程５にて乾燥してアルミニウム系母材に対する銀メツ
キもしくは錫メツキが施された最終製品が完成する。な
お、純アルミニウムとしてＪＩＳＡｌＯ７Ｏ，アルミニ
ウム合金としてＪＩＳＡ６Ｏ６３Ｋを溶接した試験片を
用いて従来の方法及び本発明の方法でそれ試験した結果
を以下に示す。
ルミニウム系母材として、本体に純アルミニウムを用い
、これに冷却フィンとしてＡを一Ｍｇ−Ｓｉ系合金を溶
接したものに、銀もしくは３５錫メッキをする際の全工
程を示す。まず工程１にてトリクロルエチレンにより予
備脱脂し、工程２にてアルカリエッチングを行ない、工
程３において水洗する。この表面の浄化されたアルミニ
ウム系母材は工程４において３０〜３５重量％の硝酸と
５重量％の硫酸との混合水溶液中に３０〜６０秒間浸漬
され、表面の酸化被膜が除去される。この場合従来の如
く硝酸のみでなく少量の硫酸例えば５重量％の硫酸の添
加による混合水溶液をスマツト除去に用いたので、酸化
被膜を除去することが困難であつたＡｔ−Ｍｇ−Ｓｉ系
合金等の酸化被膜の除去作用が著しく向上し、純アルミ
ニウムとＡｔ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金といつた異種材を同時
にスマツト除去を行なえることが確認された。この表面
が活性化されたアルミニウム系母材を工程５にて水洗し
、工程６にてＺｎ：６８重量％、Ｃｕ：８重量％、Ｎｉ
：６重量％の水溶液いわゆるボンダル液中に５〜１０秒
間浸漬し、アルミニウム系母材表面にＺｎを主体とする
ボンダル置換膜が形成されるが、一回のみのボンダル置
換法においては膜が平均的に形成されず、かつ密着度が
不十分であることが確認された。そこで再度工程７にて
水洗後工程４〜７と同様に工程８〜５を反復して、工程
８にてボンダル液中に１〜２分間浸漬されたアルミニウ
ム系母材の表面にＺｎを主体とする均一な銅メツキの下
地が形成される。そして工程＠にて青化第１銅を主成分
とするメツキ液、例えば青化第１銅：４５ｇ／ｔ１シア
ン化ナトリウム：１０〜１２ｇ／ｔ１水酸化カリウム：
２０ｇ／ｔ１ロツシエル塩：２０ｇ／ｔ１光沢剤適量か
らなるメツキ液を採用することにより、このメツキ液を
ＰＨｌＯ．５〜１１．０の範囲に維持すると陰極電流密
度を２．５〜５Ａ／ｄイまであげられ、これにより従来
よりはるかに高速メツキが行なわれることになつたので
、ボンダル置換膜の溶出も軽減できた。その結果銅メツ
キの厚さが均一で、密着度が著しく向上し、耐蝕性も増
すことが確認された。工程◎にてこの銅メツキされたア
ルミニウム系合金を水洗し、工程［有］較て予備メツキ
として銀（もしくは錫）ストライクを行ない、工程９に
て本メツキを行なう。そして工程９にて母材を水洗し、
工程５にて乾燥してアルミニウム系母材に対する銀メツ
キもしくは錫メツキが施された最終製品が完成する。な
お、純アルミニウムとしてＪＩＳＡｌＯ７Ｏ，アルミニ
ウム合金としてＪＩＳＡ６Ｏ６３Ｋを溶接した試験片を
用いて従来の方法及び本発明の方法でそれ試験した結果
を以下に示す。
従来の方法である３０〜３５重量％の硝酸水溶液中に試
験片を３０〜９０秒間浸漬して酸化被膜を除去し、ボン
ダルデイツプ処理を行なつた場合、酸化被膜は８０％程
度しか除去されず、このためボンダル置換膜の付着が均
一でなかつた。
験片を３０〜９０秒間浸漬して酸化被膜を除去し、ボン
ダルデイツプ処理を行なつた場合、酸化被膜は８０％程
度しか除去されず、このためボンダル置換膜の付着が均
一でなかつた。
しかし本発明の方法である３０〜３５重量％の硝酸と５
重量％の硫酸との混合水溶液中に試験片を３０〜６０秒
間浸漬し、ボンダル液中に５〜１０秒浸漬した後、再び
３０〜３５重量％の硝酸と５重量％の硫酸との混合水溶
液中に試験片を３０〜６０秒間浸漬し、ボンダル液中に
１〜２分間浸漬した場合、酸化被膜は１００％除去され
、これによジボンダル置換膜が均一に付着された。
重量％の硫酸との混合水溶液中に試験片を３０〜６０秒
間浸漬し、ボンダル液中に５〜１０秒浸漬した後、再び
３０〜３５重量％の硝酸と５重量％の硫酸との混合水溶
液中に試験片を３０〜６０秒間浸漬し、ボンダル液中に
１〜２分間浸漬した場合、酸化被膜は１００％除去され
、これによジボンダル置換膜が均一に付着された。
第１表において、折曲げ試験はメツキふくれを生じなか
つた物について行なつた結果、剥離した物の割合である
。第１表から明らかなように、従来の方法で処理した場
合は５０％のメツキふくれが生じ、折曲げ試験で１００
１）が剥離した。これに対し、本発明による処理を行な
つた場合はメッキふくれ、剥離共にまつたく生じなかつ
た。また、第２表から明らかなように、銅下地メツキに
おいて、従来の下地銅メツキ液は青化第１銅、青化ソー
ダ、炭酸ソーダを用い、ＰＨが１２．５であつたため陰
極電流密度が０．８〜１Ａ／ｄイ程度であつた。
つた物について行なつた結果、剥離した物の割合である
。第１表から明らかなように、従来の方法で処理した場
合は５０％のメツキふくれが生じ、折曲げ試験で１００
１）が剥離した。これに対し、本発明による処理を行な
つた場合はメッキふくれ、剥離共にまつたく生じなかつ
た。また、第２表から明らかなように、銅下地メツキに
おいて、従来の下地銅メツキ液は青化第１銅、青化ソー
ダ、炭酸ソーダを用い、ＰＨが１２．５であつたため陰
極電流密度が０．８〜１Ａ／ｄイ程度であつた。
このため試験片に銅下地メツキを行なうのに２時間かか
つた。しかし本発明の下地銅メツキ液は青化第１銅：４
５ｇ／Ｔ，シアン化ナトリウム：１０〜１２ｇ／ｔ１水
酸化カリウム：２０ｇ／ｔ１ロツシエル塩：２０ｇ／ｔ
１光沢剤適量からなるメツキ液を用い、ＰＨを１０．５
〜１１．０の範囲に維持すると陰極電流密度を２，５〜
５Ａ／ｄイまであげることができた。これにより試験片
に銅下地メツキを行なうのが３０分でできるようになつ
た。このように本発明は硝酸水溶液中に少量の硫酸を添
加した混合水溶液をスマツト除去に用いたので、酸化被
膜を除去することが困難であつたＡｔ一Ｍｇ−Ｓｉ系合
金のようなアルミニウム合金の酸化被膜を完全に除去し
、これにより純アルミニウムとアルミニウム合金を溶接
して１つの物としたような場合にも同時にスマツト除去
あるいはボンダルデイツプが行なえるようになり、スマ
ツト除去、水洗、ボンダルデイツプの工程を２回反復し
たことによりボンダル置換膜を均一に付着させることが
できた。
つた。しかし本発明の下地銅メツキ液は青化第１銅：４
５ｇ／Ｔ，シアン化ナトリウム：１０〜１２ｇ／ｔ１水
酸化カリウム：２０ｇ／ｔ１ロツシエル塩：２０ｇ／ｔ
１光沢剤適量からなるメツキ液を用い、ＰＨを１０．５
〜１１．０の範囲に維持すると陰極電流密度を２，５〜
５Ａ／ｄイまであげることができた。これにより試験片
に銅下地メツキを行なうのが３０分でできるようになつ
た。このように本発明は硝酸水溶液中に少量の硫酸を添
加した混合水溶液をスマツト除去に用いたので、酸化被
膜を除去することが困難であつたＡｔ一Ｍｇ−Ｓｉ系合
金のようなアルミニウム合金の酸化被膜を完全に除去し
、これにより純アルミニウムとアルミニウム合金を溶接
して１つの物としたような場合にも同時にスマツト除去
あるいはボンダルデイツプが行なえるようになり、スマ
ツト除去、水洗、ボンダルデイツプの工程を２回反復し
たことによりボンダル置換膜を均一に付着させることが
できた。
また下地銅メツキに使用するメツキ液に光沢剤を適量添
加しシアン濃度をＰＨｌＯ．５〜１１．０に抑制するこ
とにより、陰極電流密度を高くすることができ、高速メ
ツキが行なわれるためボンダル置換膜の溶解を軽減する
ことができる。
加しシアン濃度をＰＨｌＯ．５〜１１．０に抑制するこ
とにより、陰極電流密度を高くすることができ、高速メ
ツキが行なわれるためボンダル置換膜の溶解を軽減する
ことができる。
図は本発明によるメツキ工程図を示す。
図において、４は酸化被膜除去工程、６はボンダル置換
工程、１２は下地銅メツキ工程を示す。
工程、１２は下地銅メツキ工程を示す。
Claims (1)
- １ 純アルミニウムとアルミニウム合金を接合して一体
としたアルミニウム系母材を硝酸を主成分としこれに少
量の硫酸を加えた水溶液に浸漬して前記アルミニウム系
母材表面の酸化被膜を除去する工程と、水洗工程と、Ｚ
ｎを主体とするボンダル置換液により前記アルミニウム
系母材の活性表面層にＺｎを主体とする置換膜を形成す
る工程とを２回反復し、次に青化第１銅を主成分とする
メッキ液を用いＰＨを１０．５〜１１．０の範囲に調整
して前記アルミニウム系母材に電気メッキを行なうこと
を特徴とするアルミニウム系母材の下地銅メッキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1570479A JPS5914558B2 (ja) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | アルミニウム系母材の下地銅メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1570479A JPS5914558B2 (ja) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | アルミニウム系母材の下地銅メツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55107796A JPS55107796A (en) | 1980-08-19 |
| JPS5914558B2 true JPS5914558B2 (ja) | 1984-04-05 |
Family
ID=11896148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1570479A Expired JPS5914558B2 (ja) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | アルミニウム系母材の下地銅メツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5914558B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4766052B2 (ja) | 2005-11-24 | 2011-09-07 | 株式会社村田製作所 | 電気音響変換器 |
-
1979
- 1979-02-14 JP JP1570479A patent/JPS5914558B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55107796A (en) | 1980-08-19 |
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