JPS59148308A - 高均一磁界発生装置 - Google Patents
高均一磁界発生装置Info
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- JPS59148308A JPS59148308A JP58024185A JP2418583A JPS59148308A JP S59148308 A JPS59148308 A JP S59148308A JP 58024185 A JP58024185 A JP 58024185A JP 2418583 A JP2418583 A JP 2418583A JP S59148308 A JPS59148308 A JP S59148308A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
- H01F7/20—Electromagnets; Actuators including electromagnets without armatures
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、高均一磁界発生装置、特忙空間均一度が著
しい高い磁界を発生できる磁界補正コイルを備えた高均
一磁界発生装置忙関するものである。
しい高い磁界を発生できる磁界補正コイルを備えた高均
一磁界発生装置忙関するものである。
従来この種の装置として第１図に示すものがあった。図
において主コイルｌおよび磁界補正コイルλは巻枠３に
順次巻回されて高均一磁界領域ヶを形成する。この高均
一磁界領域ダ内に軸方向Ｚおよび半径方向ｒも示した。
において主コイルｌおよび磁界補正コイルλは巻枠３に
順次巻回されて高均一磁界領域ヶを形成する。この高均
一磁界領域ダ内に軸方向Ｚおよび半径方向ｒも示した。
主コイルｌは主磁界を発生するコイルであり、コイルが
有限長である。
有限長である。
ために生じる大きな不均一磁界を補正するコイル等も含
んでいる。磁界補正コイルコはシムコイルとも呼ばれる
ものであり、小さな不均一磁界を補正すること妃より、
高均一磁界領域ダ中での磁界の空間均一度を高めるため
のコイル群である。
んでいる。磁界補正コイルコはシムコイルとも呼ばれる
ものであり、小さな不均一磁界を補正すること妃より、
高均一磁界領域ダ中での磁界の空間均一度を高めるため
のコイル群である。
このような構成により、主コイルｔＫ時間的に変化しな
い定電流を流すと、主磁界成分が２軸方向にある高均一
磁界が高均一磁界領域ダに発生する。
い定電流を流すと、主磁界成分が２軸方向にある高均一
磁界が高均一磁界領域ダに発生する。
磁界の均一度すなわち磁界の空間分布の均一性をよくす
るために、高均一磁界領域グの寸法に比べて主コイル／
の直径および長さを大きくしている。しかしながら、主
コイルｌの電流密度分布が主コイル断面内で完全に一様
忙できないこと、主コイル／を完全な円筒状にできない
こと等の理由により、主コイルｌのみが発生する磁界の
均一度をよくすることは困難であった。そこで、磁界の
均一度を向上させるため釦、磁界補正コイル２が一般に
用いられる。磁界補正コイルλは円形コイル、くらＩＩ
コイル、矩形コイル等１種々の形状のコイル多数で構成
され、てふ・す、高均一磁界領域ダ内の磁界分布中の不
均一磁界成分に対応して磁界補正コイル２の発生する磁
界を調整し、高均一磁界領域り内の磁界均一度を向上さ
せていた。
るために、高均一磁界領域グの寸法に比べて主コイル／
の直径および長さを大きくしている。しかしながら、主
コイルｌの電流密度分布が主コイル断面内で完全に一様
忙できないこと、主コイル／を完全な円筒状にできない
こと等の理由により、主コイルｌのみが発生する磁界の
均一度をよくすることは困難であった。そこで、磁界の
均一度を向上させるため釦、磁界補正コイル２が一般に
用いられる。磁界補正コイルλは円形コイル、くらＩＩ
コイル、矩形コイル等１種々の形状のコイル多数で構成
され、てふ・す、高均一磁界領域ダ内の磁界分布中の不
均一磁界成分に対応して磁界補正コイル２の発生する磁
界を調整し、高均一磁界領域り内の磁界均一度を向上さ
せていた。
このような磁界補正コイルの一例を第一図に示す、同図
には、Ｚ軸方向に変化する磁界成分を補正する半径ａの
一対の円形コイル、２ａを示した。
には、Ｚ軸方向に変化する磁界成分を補正する半径ａの
一対の円形コイル、２ａを示した。
円形コイルコａの取り付は位置はコイル中心がＺ ／
ａ ＝αとなる特定位置α（無次元定数）であり、αは
必要な特定次数の磁界補正出力に応じて線電流モデルを
用いた計算により求められた。円形コイルλａは、巻線
にするのを容易に行うために。
ａ ＝αとなる特定位置α（無次元定数）であり、αは
必要な特定次数の磁界補正出力に応じて線電流モデルを
用いた計算により求められた。円形コイルλａは、巻線
にするのを容易に行うために。
通常は幅が広くかつ肉厚の薄いコイル断面形状で−ある
。なお、円形コイル２ａの幅は、必要な磁界出力が大き
いほどコイルのアンペアターンを増加させるために、幅
広となる。円形コイルλａが有限の幅を有するために、
これらの円形コイルコａの発生する磁界出力はＺ ／
ａ ＝αを用いた理論値とは異なる磁界成分をも含むこ
とになる。その結果、主コイルｌのａ界補正に必要な特
定次数の磁界補正出力以外の磁界成分の割合が大きくな
っていた。
。なお、円形コイル２ａの幅は、必要な磁界出力が大き
いほどコイルのアンペアターンを増加させるために、幅
広となる。円形コイルλａが有限の幅を有するために、
これらの円形コイルコａの発生する磁界出力はＺ ／
ａ ＝αを用いた理論値とは異なる磁界成分をも含むこ
とになる。その結果、主コイルｌのａ界補正に必要な特
定次数の磁界補正出力以外の磁界成分の割合が大きくな
っていた。
すなわら、磁界補正コイル−〇出力磁界中には、主コイ
ルｌが発生する不均一磁界を打ち消す磁界成分の他に、
不均一磁界の補正には全（関与しない誤差磁界成分がわ
ずかながら含まれ、このような誤差磁界成分の全出力磁
界中に占める割合が磁界補正コイル２の有限の幅のせい
で増大した。このような、コイル有限幅の効果な次に定
量的忙考察する。
ルｌが発生する不均一磁界を打ち消す磁界成分の他に、
不均一磁界の補正には全（関与しない誤差磁界成分がわ
ずかながら含まれ、このような誤差磁界成分の全出力磁
界中に占める割合が磁界補正コイル２の有限の幅のせい
で増大した。このような、コイル有限幅の効果な次に定
量的忙考察する。
一部に流した場合、ルーズ対の中心付近には位置ＺＫは
ぼ比例する磁界出力が生じることは理論的に判っている
。この理論結果を用いてコイルの有限幅の効果を、計算
機で求めた結果を第３図に示した。同図中有限幅コイル
のコイル断面は幅ｗ ａｏ。
ぼ比例する磁界出力が生じることは理論的に判っている
。この理論結果を用いてコイルの有限幅の効果を、計算
機で求めた結果を第３図に示した。同図中有限幅コイル
のコイル断面は幅ｗ ａｏ。
間で厚さｌ５朋とし、線電流ルーズ、有限幅コイル共に
内径ａを夕／＆ｍとした。コイル幅はコイル直径の約２
０％程度でしかない。有限幅コイルの位置はコイル断面
の中心Ｚ座標と内径ａとの比が上述した値芸＝十いとな
るように定めて（・る。
内径ａを夕／＆ｍとした。コイル幅はコイル直径の約２
０％程度でしかない。有限幅コイルの位置はコイル断面
の中心Ｚ座標と内径ａとの比が上述した値芸＝十いとな
るように定めて（・る。
また、第３図の出力磁界は座標軸Ｚに比例することを理
想としており、座標原点２＝０では出力磁界も０となろ
うそのため、同図の縦軸を規格化された無次元量とする
ために、Ｚ＋７＝＝／ｃｍでの磁界出力を用い、２＝０
の磁界出力（０でｋ）る）から２＝ Ｚ ／の磁界出力
Ｂ／までが完全九画線的であると仮定した上でＺ ＞
／ ｃｍの一誤差磁界の割合ｈｚを次式により求めた。
想としており、座標原点２＝０では出力磁界も０となろ
うそのため、同図の縦軸を規格化された無次元量とする
ために、Ｚ＋７＝＝／ｃｍでの磁界出力を用い、２＝０
の磁界出力（０でｋ）る）から２＝ Ｚ ／の磁界出力
Ｂ／までが完全九画線的であると仮定した上でＺ ＞
／ ｃｍの一誤差磁界の割合ｈｚを次式により求めた。
ただし、ＺおよびＢ（Ｚ）は、各々、誤差磁界を求めた
い点の座標とその点であ磁界である。Ｚ軸上以外の位置
での誤差磁界量はＺ軸上での誤差磁界量よりも小さ〜・
ことが判っており、そのためにＺ軸上での上記評価を行
うだけで最大誤差磁界を知ることができるので、Ｚ軸上
でのみの上式ｈｚを用いるだけでよい。
い点の座標とその点であ磁界である。Ｚ軸上以外の位置
での誤差磁界量はＺ軸上での誤差磁界量よりも小さ〜・
ことが判っており、そのためにＺ軸上での上記評価を行
うだけで最大誤差磁界を知ることができるので、Ｚ軸上
でのみの上式ｈｚを用いるだけでよい。
第３図より分るよ５に、コイルを有限幅をしたために、
必要な磁界出力以外の誤差磁界量が著しく増大している
。例えば、高均一磁界領域弘を直径ψスの球とした場合
、すなわち２≦：１ｃｍでの誤差磁界量は有限′幅コイ
ルの場合が線電流ループの場合の１９倍にも及ぶ。
必要な磁界出力以外の誤差磁界量が著しく増大している
。例えば、高均一磁界領域弘を直径ψスの球とした場合
、すなわち２≦：１ｃｍでの誤差磁界量は有限′幅コイ
ルの場合が線電流ループの場合の１９倍にも及ぶ。
高均−磁界発・主装置は高分解能核磁気共鳴装置や核磁
気共鳴を用いた画像構成装量の一部として用いられるが
、このような核磁気関連装置が必要とする磁界の、均一
度はｌθ−“〜ｔｏ”−ｔである。従つて、磁界出力が
主コイル／の／／ｌＯθＯ程度でよい磁界補正コイルλ
についても、各装置によって異なる磁界均一度の最低値
はｌθ−’／（／／／θＯθ）＝／（ＩＩ）−コ、また
最高均一度はｉｏ ’／（ｔ／ｌｏθθ） ＝＝ ｔ６
Ａとなり、／θ−１〜１０−′ のいずわかの均一度
が保てるような設計でなければなら−ない。すなわら、
さほど均一度を必要としない装置では磁界補正コイルλ
の誤差磁界の割合が／θ−コ程度でもよいが、均一度を
必要とする装置では磁界補正コイルλの誤差磁界の割合
は／θ−６でなけねばならず、このような磁界均一度が
保てない場合、装置性能に致命的な打撃を与える。それ
故、第３図に示したようなλつの例の誤差磁界量の数倍
の違いが問題となるわけである。また、非常に大きな高
力−研界領域グを必要とする装置では、誤差磁界が増大
することは第３図より明らかである。このような場合、
座標原点から最も遠い部分での誤差磁界量が最も大きく
、指定された磁界均一度以内とするためには、′この誤
差磁界の割合を十分小さくしなければならない。このよ
うな大きな高均一磁界領域グを指定した場合の原点近傍
の磁界均一度は、高均一磁界領域ｌの周辺より通常著し
く高い。
気共鳴を用いた画像構成装量の一部として用いられるが
、このような核磁気関連装置が必要とする磁界の、均一
度はｌθ−“〜ｔｏ”−ｔである。従つて、磁界出力が
主コイル／の／／ｌＯθＯ程度でよい磁界補正コイルλ
についても、各装置によって異なる磁界均一度の最低値
はｌθ−’／（／／／θＯθ）＝／（ＩＩ）−コ、また
最高均一度はｉｏ ’／（ｔ／ｌｏθθ） ＝＝ ｔ６
Ａとなり、／θ−１〜１０−′ のいずわかの均一度
が保てるような設計でなければなら−ない。すなわら、
さほど均一度を必要としない装置では磁界補正コイルλ
の誤差磁界の割合が／θ−コ程度でもよいが、均一度を
必要とする装置では磁界補正コイルλの誤差磁界の割合
は／θ−６でなけねばならず、このような磁界均一度が
保てない場合、装置性能に致命的な打撃を与える。それ
故、第３図に示したようなλつの例の誤差磁界量の数倍
の違いが問題となるわけである。また、非常に大きな高
力−研界領域グを必要とする装置では、誤差磁界が増大
することは第３図より明らかである。このような場合、
座標原点から最も遠い部分での誤差磁界量が最も大きく
、指定された磁界均一度以内とするためには、′この誤
差磁界の割合を十分小さくしなければならない。このよ
うな大きな高均一磁界領域グを指定した場合の原点近傍
の磁界均一度は、高均一磁界領域ｌの周辺より通常著し
く高い。
従来の高均一磁界発生装置は上述したようにコイル断面
が有限幅である磁界補正コイルを用いていたために磁界
補正コイルの出力磁界の均一度が卯論値よりも１桁以上
悪く、主コイル磁界出力中の誤差磁界成分を除去する能
力が著しく制限される欠点があった。
が有限幅である磁界補正コイルを用いていたために磁界
補正コイルの出力磁界の均一度が卯論値よりも１桁以上
悪く、主コイル磁界出力中の誤差磁界成分を除去する能
力が著しく制限される欠点があった。
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、コイルの対称軸からの距離と、
コイルの内径の比が常に一定となるコイル構造とするこ
とにより高均一磁界を発生できる磁界補正コイルを備え
た高均一磁界発生装置を提供することを目的とするもの
である。
ためになされたもので、コイルの対称軸からの距離と、
コイルの内径の比が常に一定となるコイル構造とするこ
とにより高均一磁界を発生できる磁界補正コイルを備え
た高均一磁界発生装置を提供することを目的とするもの
である。
以下、この発明を第グ図に示す一実施例について説明す
る。同図は磁界補正コイルλ中の７種類を表わしており
、一対の円すい台状コイル、２ｂが高均一磁界領域ダの
中心に対して対称に配置されている。座標軸２の関数と
して表わされる円すい台状コイルｕｂの内径ａＺは、円
すい台状コイルｊｂが存在すも場所全体について、Ｚが
一定値であるように定めである。また、円すい台状コイ
ル２ｂのコイル幅は第一図の従来例で示した円形コイル
Ｘａと同様に幅広であり、コイルの厚さはコイルの幅に
比べて十分薄い形である。
る。同図は磁界補正コイルλ中の７種類を表わしており
、一対の円すい台状コイル、２ｂが高均一磁界領域ダの
中心に対して対称に配置されている。座標軸２の関数と
して表わされる円すい台状コイルｕｂの内径ａＺは、円
すい台状コイルｊｂが存在すも場所全体について、Ｚが
一定値であるように定めである。また、円すい台状コイ
ル２ｂのコイル幅は第一図の従来例で示した円形コイル
Ｘａと同様に幅広であり、コイルの厚さはコイルの幅に
比べて十分薄い形である。
第３図に示したように、座標ＺＫ比例するような磁界出
力を有する一対の線電流ループの位置は、理論的ＶｃＡ
−？りであることが判っていることをａ＋２ 前述した。第グ図に示すような円すい台状コイル：１ｂ
として、コイルの内径ａ（Ｚ）とコイルの２座標の比Ｚ
／ ａ（ｚ）が、コイルに存在する全ての２について
Ｚ ／ ａ （ｚ） ＝４となるように、高均一磁界領
域グから遠ざかるにつれてコイルの半径が大きくなるよ
うなコイル構造とすハば、コイルが有限幅を有する場合
にも、最適配置された線電流ループの考え方をそのまま
用いることができる。コイルの厚さはコイルの幅忙比べ
て十分に薄くしであるので、コイルの厚みによる誤差磁
界成分の増加についてははとんど問題にする必要がない
。
力を有する一対の線電流ループの位置は、理論的ＶｃＡ
−？りであることが判っていることをａ＋２ 前述した。第グ図に示すような円すい台状コイル：１ｂ
として、コイルの内径ａ（Ｚ）とコイルの２座標の比Ｚ
／ ａ（ｚ）が、コイルに存在する全ての２について
Ｚ ／ ａ （ｚ） ＝４となるように、高均一磁界領
域グから遠ざかるにつれてコイルの半径が大きくなるよ
うなコイル構造とすハば、コイルが有限幅を有する場合
にも、最適配置された線電流ループの考え方をそのまま
用いることができる。コイルの厚さはコイルの幅忙比べ
て十分に薄くしであるので、コイルの厚みによる誤差磁
界成分の増加についてははとんど問題にする必要がない
。
なお上記実施例では円形コイルを円すい台状コイルとす
る場合について説明したが、くら型コイルや矩形コイル
であってもよい。くら型コイルの場合には、磁界補正に
必要な磁界成分を発生させる円弧面を、上記実施例と同
様にＺ ／ ａ（ｚｌが一定となるように曲げて用いれ
ばよい。矩形コイルの場合には、コイルを形成する複数
の平面の位置Ｚと、Ｚ軸と交わる１つの平面からコイル
内面までの距離１との比Ｚ ／ ｉが一定となるように
コイル形状を定めればよい。これらの場合にも、上記実
施例と同様の効果を奏する。
る場合について説明したが、くら型コイルや矩形コイル
であってもよい。くら型コイルの場合には、磁界補正に
必要な磁界成分を発生させる円弧面を、上記実施例と同
様にＺ ／ ａ（ｚｌが一定となるように曲げて用いれ
ばよい。矩形コイルの場合には、コイルを形成する複数
の平面の位置Ｚと、Ｚ軸と交わる１つの平面からコイル
内面までの距離１との比Ｚ ／ ｉが一定となるように
コイル形状を定めればよい。これらの場合にも、上記実
施例と同様の効果を奏する。
また、この発明に使用される磁界補正コイルは一生コイ
ルｌの外周上に必ず設置する必要はなく、巻枠３の内側
に設置してもよく、あるいは主コイルｌと巻枠３の両者
から全く離れたところに設置しても上記実施例と同様の
効果を奏する。
ルｌの外周上に必ず設置する必要はなく、巻枠３の内側
に設置してもよく、あるいは主コイルｌと巻枠３の両者
から全く離れたところに設置しても上記実施例と同様の
効果を奏する。
また第５図のように、複数個の幅狭コイル−〇の断面中
心が一定のＬとなる組合せコイル配置としても、上記実
施例と同様の効果を奏する。さらに、この発明に使用さ
れる磁界補正コイルは、主コイルｌの磁界出力補正用コ
イルとしてばかりでタく、全く独立に特定の磁界分布発
生用コ、イルとして用いてもよい。
心が一定のＬとなる組合せコイル配置としても、上記実
施例と同様の効果を奏する。さらに、この発明に使用さ
れる磁界補正コイルは、主コイルｌの磁界出力補正用コ
イルとしてばかりでタく、全く独立に特定の磁界分布発
生用コ、イルとして用いてもよい。
また、時間的に変化する電流をコイルに流すような利用
を行ってもよく、この場合にコイル群を集中電流モデル
で取り扱える範囲の周波数の電流であわば、磁界の空間
均一度は低下しない。
を行ってもよく、この場合にコイル群を集中電流モデル
で取り扱える範囲の周波数の電流であわば、磁界の空間
均一度は低下しない。
その上、上記実施例で述べたＺ ／ｑｚ）を一定にした
コイル配置の場合には、補正コイル磁界出力中の誤差磁
界を最小にできるが、 Ｚ ／ａ（ｚ）がほぼ一定であ
る場合にも上記誤差磁界を減少させることができる。
コイル配置の場合には、補正コイル磁界出力中の誤差磁
界を最小にできるが、 Ｚ ／ａ（ｚ）がほぼ一定であ
る場合にも上記誤差磁界を減少させることができる。
以上のように、この発明によれば、８界補正コイルの軸
対線中心からの距離とコイル内径の比がコイル内面全体
について一定となるような薄肉コイルとすることにより
、磁界補正コイルの発生する誤差磁界を従来のものより
も１桁以上軽減させることが可能である。従って、磁界
補正コイルの出力磁界が大きくても、同時に発生する誤
差磁界が小さいため、主コイルの発生磁界中での補正範
囲が１桁以上広まり、主コイルの製作精度に特別の注意
をはられなくてもよく、主コイルを安価に製作できると
いう格別の効果がある。
対線中心からの距離とコイル内径の比がコイル内面全体
について一定となるような薄肉コイルとすることにより
、磁界補正コイルの発生する誤差磁界を従来のものより
も１桁以上軽減させることが可能である。従って、磁界
補正コイルの出力磁界が大きくても、同時に発生する誤
差磁界が小さいため、主コイルの発生磁界中での補正範
囲が１桁以上広まり、主コイルの製作精度に特別の注意
をはられなくてもよく、主コイルを安価に製作できると
いう格別の効果がある。
第１図は従来の高均一磁界発生装置の縦断面図、第２図
は第１図の装置で使用される磁界補正コイルの一例を示
す縦断面図、第３図は一般にコイルを有限幅とすること
による誤差磁界の増加を示す線図、第り図と第５図はこ
の発明の各実施例の縦断面図である。 コ・・磁界補正コイル１．ｚｂ・・円すい台状コイル１
．２Ｃ・・幅狭コイル。 なお、各図中、同一符合は同−又は相当部分を示す。 代理人 葛 野 信 − 殆１図 殆２図 幣４図 高力−砿ネ伸４或中１菅）５の２軸方向袢１慝（ｃｍ）
幣５図 ′ｊ−１−許庁長宮殿 １、事件の表示 特願昭３ｔ−コ４１／ｇ！ｆ号２
、発明の名称 高均一磁界発生装置 ：３．補正をする者 よ 補正の対象 （１）４明細書の特許請求の範囲の欄 （２） 明細書の発明の詳細な説明の欄（３） 明
細書の図面の簡単な説明の欄ム 補正の内容 （１）現特許請求の範囲の記載を別紙のとおり補正する
。 （２） 明細書第Ｓページ第７行の「幅Ｗ」の記載を
「幅（Ｗ）」と補正子る。 （３） 明細書第６ページ第ｉｇ行の「画線的である
」の記載を「直線的である」と補正する。 （４） 明細書第Ｓページ第１９行および第６ページ
第７行の「ｈ２」の記載をｒｈ（ｚ）Ｊと補正する。 （５） 明細書第６ページ第９行の「有限幅をした」
の記載を「有限幅とした」と補正する。 （６） 明細書第７ページ第Ｓ行の「いずれかの」の
記載を削除する。 （７） 明細書第Ｓページ第２０行の「内径ａ２Ｊの
記載を「内径ａ（Ｚ）Ｊと補正する。 （８） 明細書第６ページ第９行の「ｚ」の記載なｒ
Ｚ／ａ （Ｚ ）Ｊと補正する〇 （９） 明細書第１／ベージ第３行の「２軸と変わる
」の記載を「Ｚ軸を含む」と補正する。 θ１ 明細書第１／ベージ第３行の「軸封線中、［、Ｉ
の記載を「軸対称中心」と補正する。 θり 明細瞥第１コページ第１２行の「同一符合」の記
載を「同一符号」と補正する。 ２、特許請求の範囲 （１） 少なくとも一対の磁界補正コイルを備え、各
コイル対の対称軸からの距離とコイル内径の比をほぼ一
定にした高均一磁界発生装置。 （２） 磁界補正コイルが口重い台状コイルである特
許請求の範囲第１項記載の高均一磁界発生装置。 （３） 磁界補正コイルがくら型コイルであり、その
円弧面を、コイル対称軸からの距離とコイル内径の比が
ほぼ一定となるように曲げた特許請求の範囲第１項記載
の高均一磁界発生装置。 （４）磁界補正コイルが矩形コイルであり、コイルを形
成する複数の平面の位置と、対称軸に垂直な軸を含む１
つの平面からコイル内面までの距離との比をほぼ一定に
した特許請求の範囲第７項記載の高均一磁界発生装置。 （５） 磁界補正コイルが幅狭コイルである特許請求
の範囲第１項記載の高均一磁界発生装置。
は第１図の装置で使用される磁界補正コイルの一例を示
す縦断面図、第３図は一般にコイルを有限幅とすること
による誤差磁界の増加を示す線図、第り図と第５図はこ
の発明の各実施例の縦断面図である。 コ・・磁界補正コイル１．ｚｂ・・円すい台状コイル１
．２Ｃ・・幅狭コイル。 なお、各図中、同一符合は同−又は相当部分を示す。 代理人 葛 野 信 − 殆１図 殆２図 幣４図 高力−砿ネ伸４或中１菅）５の２軸方向袢１慝（ｃｍ）
幣５図 ′ｊ−１−許庁長宮殿 １、事件の表示 特願昭３ｔ−コ４１／ｇ！ｆ号２
、発明の名称 高均一磁界発生装置 ：３．補正をする者 よ 補正の対象 （１）４明細書の特許請求の範囲の欄 （２） 明細書の発明の詳細な説明の欄（３） 明
細書の図面の簡単な説明の欄ム 補正の内容 （１）現特許請求の範囲の記載を別紙のとおり補正する
。 （２） 明細書第Ｓページ第７行の「幅Ｗ」の記載を
「幅（Ｗ）」と補正子る。 （３） 明細書第６ページ第ｉｇ行の「画線的である
」の記載を「直線的である」と補正する。 （４） 明細書第Ｓページ第１９行および第６ページ
第７行の「ｈ２」の記載をｒｈ（ｚ）Ｊと補正する。 （５） 明細書第６ページ第９行の「有限幅をした」
の記載を「有限幅とした」と補正する。 （６） 明細書第７ページ第Ｓ行の「いずれかの」の
記載を削除する。 （７） 明細書第Ｓページ第２０行の「内径ａ２Ｊの
記載を「内径ａ（Ｚ）Ｊと補正する。 （８） 明細書第６ページ第９行の「ｚ」の記載なｒ
Ｚ／ａ （Ｚ ）Ｊと補正する〇 （９） 明細書第１／ベージ第３行の「２軸と変わる
」の記載を「Ｚ軸を含む」と補正する。 θ１ 明細書第１／ベージ第３行の「軸封線中、［、Ｉ
の記載を「軸対称中心」と補正する。 θり 明細瞥第１コページ第１２行の「同一符合」の記
載を「同一符号」と補正する。 ２、特許請求の範囲 （１） 少なくとも一対の磁界補正コイルを備え、各
コイル対の対称軸からの距離とコイル内径の比をほぼ一
定にした高均一磁界発生装置。 （２） 磁界補正コイルが口重い台状コイルである特
許請求の範囲第１項記載の高均一磁界発生装置。 （３） 磁界補正コイルがくら型コイルであり、その
円弧面を、コイル対称軸からの距離とコイル内径の比が
ほぼ一定となるように曲げた特許請求の範囲第１項記載
の高均一磁界発生装置。 （４）磁界補正コイルが矩形コイルであり、コイルを形
成する複数の平面の位置と、対称軸に垂直な軸を含む１
つの平面からコイル内面までの距離との比をほぼ一定に
した特許請求の範囲第７項記載の高均一磁界発生装置。 （５） 磁界補正コイルが幅狭コイルである特許請求
の範囲第１項記載の高均一磁界発生装置。
Claims (3)
- （１） 少なくとも一対の磁界補正コイルを備え、各
コイル対の対称軸からの距離とコイル内径の比乞はｙ一
定にした高均一磁界発生装置。 - （２）磁界補正コイルが円すい台状コイルである特許請
求の範囲第１項記載の高均一磁界発生装置。 - （３）磁界補正コイルがくら型コイルであり、その円弧
面を、コイル対称軸からの距離とコイル内径の比がはｙ
一定となるように曲げた特許請求の範囲第１項記載の高
均一磁界発生装置。 （ｆ） 磁界補正コイルが矩形コイルであり、コイル
を形成する複数の平面の位置と、対称軸に垂直と軸と交
わる１つの平面からコイル内面までの距離との比をｉｒ
一定圧した特許請求の範囲第１項記載の高均一磁界発生
装置。 （ｊ） 磁界補正コイルが幅狭コイルである特許請求
の範囲第１項記載の高均一磁界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024185A JPS59148308A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 高均一磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024185A JPS59148308A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 高均一磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59148308A true JPS59148308A (ja) | 1984-08-25 |
Family
ID=12131268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58024185A Pending JPS59148308A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 高均一磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59148308A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100423775B1 (ko) * | 2002-02-27 | 2004-03-30 | (주)에스시엠아이 | 평등 자계 형성용 전자석의 자극 |
| CN107490775A (zh) * | 2017-09-30 | 2017-12-19 | 北京航空航天大学 | 一种三轴线圈常数与非正交角一体化测量方法 |
| WO2019202063A1 (de) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | Stl Systems Ag | Polyederförmige spulensysteme mit grossem homogenitätsvolumen und grossem zugangsbereich |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57172238A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Hitachi Ltd | Magnetic field correcting device |
-
1983
- 1983-02-14 JP JP58024185A patent/JPS59148308A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN112335003A (zh) * | 2018-04-20 | 2021-02-05 | Stl系统股份公司 | 具有大均匀性体积和大接触区域的多面体线圈系统 |
| CN112335003B (zh) * | 2018-04-20 | 2022-10-21 | Stl系统股份公司 | 具有大均匀性体积和大接触区域的多面体线圈系统 |
| US12387867B2 (en) | 2018-04-20 | 2025-08-12 | Stl Systems Ag | Polyhedral coil systems having a large homogeneity volume and large access zone |
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