JPS59155115A - 分極可能な薄板を分極する方法 - Google Patents
分極可能な薄板を分極する方法Info
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- JPS59155115A JPS59155115A JP59024544A JP2454484A JPS59155115A JP S59155115 A JPS59155115 A JP S59155115A JP 59024544 A JP59024544 A JP 59024544A JP 2454484 A JP2454484 A JP 2454484A JP S59155115 A JPS59155115 A JP S59155115A
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- Polarising Elements (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術
本発明は、材料に電界を印加することによって、その材
料を分極化する方法に関する。
料を分極化する方法に関する。
従来技術の説明
ポリッツ化ビニリデン( poly (vir+yl
idenefluoride )、以下PVDFと記す
)は、分極した時に圧電効果とパイ日電気効果とを生ず
る。この拐料は、種々の共重合体と共に、マイクロホン
、ヘッドボン、拡声器、圧力感知器、接触感知形のキー
ボード、嵌入検出器などを含む変換器に使用するために
、今まで研究されてきた。PVI)F材料は多くの場合
、約6ないし1 5 0 Amの範囲の厚さを有するフ
ィルムに成型されている。PVDFフィルムを分極して
、実質的な圧電応答とパイ日電気応答とを得るために、
フィルムを横切って電界が印加される。PVDFを分極
化する/とめの通常の従来技術の方法には、熱ポーリン
グとコロナポーリングとが含まれる。熱ポーリングにお
いては、試料を最初金属化し、次にこの試料に約90℃
ないし1. 1 0 ℃の温度で約500ないし8oo
kv/CwLの電場を通常1時間にわたってかける。フ
ィルムはそれがら印加電界の下で室温にまで冷却される
。コロナ技法においては、通常数分間フィルムにコロナ
放電を印加する。これらの技法の要約は、ザ.ジャーナ
ル オブ ジ アコースティ力ル ソサイアティ オブ
アメリカ( TheJournal of the
Acousttcal society ofAmer
ica )、yoJ.70(リ.ページ1596 −1
608 (198J)のジー.エム.セスラー(G。
idenefluoride )、以下PVDFと記す
)は、分極した時に圧電効果とパイ日電気効果とを生ず
る。この拐料は、種々の共重合体と共に、マイクロホン
、ヘッドボン、拡声器、圧力感知器、接触感知形のキー
ボード、嵌入検出器などを含む変換器に使用するために
、今まで研究されてきた。PVI)F材料は多くの場合
、約6ないし1 5 0 Amの範囲の厚さを有するフ
ィルムに成型されている。PVDFフィルムを分極して
、実質的な圧電応答とパイ日電気応答とを得るために、
フィルムを横切って電界が印加される。PVDFを分極
化する/とめの通常の従来技術の方法には、熱ポーリン
グとコロナポーリングとが含まれる。熱ポーリングにお
いては、試料を最初金属化し、次にこの試料に約90℃
ないし1. 1 0 ℃の温度で約500ないし8oo
kv/CwLの電場を通常1時間にわたってかける。フ
ィルムはそれがら印加電界の下で室温にまで冷却される
。コロナ技法においては、通常数分間フィルムにコロナ
放電を印加する。これらの技法の要約は、ザ.ジャーナ
ル オブ ジ アコースティ力ル ソサイアティ オブ
アメリカ( TheJournal of the
Acousttcal society ofAmer
ica )、yoJ.70(リ.ページ1596 −1
608 (198J)のジー.エム.セスラー(G。
M 、Sessler )による「ポリフッ化ビニリデ
ンにおける圧電気」に示されている。
ンにおける圧電気」に示されている。
より最近、改良された分極化技法が、ティ。
ティー.ワンプ( T. T. Wang )とジェイ
.イー.ウエスト( J. E. West. )とに
よってジャーナル オブ 7プライド フィジックス(
Journal of Applied physic
s )、VOI53(10) 、ページ6552−65
56 (1982ンの「破壊電界の印加によるポリフッ
化ビニリデンの分極」の中に説明されている。その技法
においては、誘電体板を使用してフィルムとサンドウィ
ッチを作り、誘電体板とPVDFフィルムとに接触して
いる電極に電圧を印加する。これによってよシ低い温度
において、またよシ短イ時間で分極化を行うことができ
、しかも従来の技術による方法で通常得られるよりも、
一層一様な結果が得られる。しかしながら、この技法に
よってもなお、良好な圧電応答を得るには、通常20分
程度を必要とする。製造する際にフィルムを手軽に取扱
えるように、室温(20℃)で分極化を行うことができ
て、炉の中に挿入したり、あるいは他の加熱装置と接触
させる必要のないことが、特に望丑れる。さらに、ポー
リング時間の短縮、好適には1分以下が望まれる。
.イー.ウエスト( J. E. West. )とに
よってジャーナル オブ 7プライド フィジックス(
Journal of Applied physic
s )、VOI53(10) 、ページ6552−65
56 (1982ンの「破壊電界の印加によるポリフッ
化ビニリデンの分極」の中に説明されている。その技法
においては、誘電体板を使用してフィルムとサンドウィ
ッチを作り、誘電体板とPVDFフィルムとに接触して
いる電極に電圧を印加する。これによってよシ低い温度
において、またよシ短イ時間で分極化を行うことができ
、しかも従来の技術による方法で通常得られるよりも、
一層一様な結果が得られる。しかしながら、この技法に
よってもなお、良好な圧電応答を得るには、通常20分
程度を必要とする。製造する際にフィルムを手軽に取扱
えるように、室温(20℃)で分極化を行うことができ
て、炉の中に挿入したり、あるいは他の加熱装置と接触
させる必要のないことが、特に望丑れる。さらに、ポー
リング時間の短縮、好適には1分以下が望まれる。
発明の要約
本発明は、電気的に分極可能な材料の改良された分極化
方法である。本技法においては、材料片の一部分の両端
に電界を印加する一方、この材料片の表面と接触してい
る誘電体は、少なくとも材料片の一端からその部分を絶
縁している。それによって破壊電圧の増加が得られる。
方法である。本技法においては、材料片の一部分の両端
に電界を印加する一方、この材料片の表面と接触してい
る誘電体は、少なくとも材料片の一端からその部分を絶
縁している。それによって破壊電圧の増加が得られる。
誘電体は、分極される部分を取p巻く環状の形であるべ
きである。一つの実施例においては、誘電体はしなやか
な材料である。
きである。一つの実施例においては、誘電体はしなやか
な材料である。
材料片の複数の内部部分は材料片の内部の部分間で材料
片表面と接触している誘電体絶縁物によって、別々に分
極すること妙Sできる。
片表面と接触している誘電体絶縁物によって、別々に分
極すること妙Sできる。
ポリフッ化ビニリデンより成るフィルムは、本技法によ
って有利に分極される。
って有利に分極される。
詳細な説明
以下の詳細な説明は、電気的に分極可能な材料の改良さ
れた分極化方法に関する。ポリ(フン化ビニリデン〕フ
ィルムは、本技法によってうまくポールされたが、それ
は、通常の先行技術によるポーリング技法は、フィルム
の両端の近くでの放電のフラッシュオーバによって、実
質的に制限されているという点を我々が発見したことに
関係する。こ\で使用している用語「破壊」は、フィル
ムを通して、またはフィルムの表面に旧って、1つの電
極から他の電極へのアークの発生を意味する。本技法に
よって、沿面の耐アーク性が実質的に増加するので、通
常、破壊電圧はフィルム自体の破壊によって限定される
だけである。
れた分極化方法に関する。ポリ(フン化ビニリデン〕フ
ィルムは、本技法によってうまくポールされたが、それ
は、通常の先行技術によるポーリング技法は、フィルム
の両端の近くでの放電のフラッシュオーバによって、実
質的に制限されているという点を我々が発見したことに
関係する。こ\で使用している用語「破壊」は、フィル
ムを通して、またはフィルムの表面に旧って、1つの電
極から他の電極へのアークの発生を意味する。本技法に
よって、沿面の耐アーク性が実質的に増加するので、通
常、破壊電圧はフィルム自体の破壊によって限定される
だけである。
PVDFフィルムのポーリングに利用できる数種の方法
のう−ちでは、両面金属化フィルムに対する室温ポーリ
ング技法が実用上特に魅力的であるが、それは電極を設
けた面積全体にわたってフィルムを容易に一様に分極で
きるからである。常温ポーリングで高い圧電活性値を得
るには、2または3MV、/cm以上の電界を十分な時
間にわたって、フィルムに印加しなければならない。し
かしながら、高電界でフィルムをポールするこれまでの
試みが困難に遭遇したのは1.3.5M’V/C111
は上の高電界では破壊がほとんど一瞬間時に起こるから
である。1つの先行技術においては、電極を設けたフィ
ルムをパラフィン油捷たは真空中に置く研究によって、
フィルムを僅かに高い電界(約4.2MV/CTL)で
ポールすることができたが、この操作は実用上の目的に
はあ捷りにも骨が折れ過ぎる。さらに、パラフィン油ま
たは真空中においても、最高ポーリング電界は、シリコ
ーン油に浸漬したフィルムについて測定した場合的9M
V/cmと報告されているPVDF’の絶縁耐力よりも
なお遥かに低い。
のう−ちでは、両面金属化フィルムに対する室温ポーリ
ング技法が実用上特に魅力的であるが、それは電極を設
けた面積全体にわたってフィルムを容易に一様に分極で
きるからである。常温ポーリングで高い圧電活性値を得
るには、2または3MV、/cm以上の電界を十分な時
間にわたって、フィルムに印加しなければならない。し
かしながら、高電界でフィルムをポールするこれまでの
試みが困難に遭遇したのは1.3.5M’V/C111
は上の高電界では破壊がほとんど一瞬間時に起こるから
である。1つの先行技術においては、電極を設けたフィ
ルムをパラフィン油捷たは真空中に置く研究によって、
フィルムを僅かに高い電界(約4.2MV/CTL)で
ポールすることができたが、この操作は実用上の目的に
はあ捷りにも骨が折れ過ぎる。さらに、パラフィン油ま
たは真空中においても、最高ポーリング電界は、シリコ
ーン油に浸漬したフィルムについて測定した場合的9M
V/cmと報告されているPVDF’の絶縁耐力よりも
なお遥かに低い。
我々は、3.5MV/cr/L近くおよびそれ以上での
破壊事象は、多くの場合、電極を設けていないフィルム
の端の近くでのフラッシュオーバ、即ちアーク発生によ
って誘起されることを見出した。そのような場合、電荷
(d一方の電極から外方にフィルムの表面に沿って端ま
で流れ、端を越えて他の表面に沿って戻りもう一方の電
極に流れるのであるというふうに我々は決定した。それ
故に、適当な絶縁性固体で電極を設けていない境界をふ
さぐCとによって、破壊を起すことなしに、実質的によ
シ高い電界でフイルムケボールすることができる。例え
ば、これによって従来技術の技法で得られるよシも、ポ
ーリング時間を短縮できる。換言すれば、ある与えられ
たポーリング電圧に対して、本技法は、アーク発生によ
って通常は収量が減る先行技術の方法よりも、高い収量
で使用可能なフィルムを提供する。
破壊事象は、多くの場合、電極を設けていないフィルム
の端の近くでのフラッシュオーバ、即ちアーク発生によ
って誘起されることを見出した。そのような場合、電荷
(d一方の電極から外方にフィルムの表面に沿って端ま
で流れ、端を越えて他の表面に沿って戻りもう一方の電
極に流れるのであるというふうに我々は決定した。それ
故に、適当な絶縁性固体で電極を設けていない境界をふ
さぐCとによって、破壊を起すことなしに、実質的によ
シ高い電界でフイルムケボールすることができる。例え
ば、これによって従来技術の技法で得られるよシも、ポ
ーリング時間を短縮できる。換言すれば、ある与えられ
たポーリング電圧に対して、本技法は、アーク発生によ
って通常は収量が減る先行技術の方法よりも、高い収量
で使用可能なフィルムを提供する。
第1図を引用すると、本研究の最初の段階において、電
極を設けた領域を2つの真鍮のブロック13.14の間
に置くと直ちに、PVDF試料12をポールした。上部
真鍮ブロック13は、約1601の重量を有していた。
極を設けた領域を2つの真鍮のブロック13.14の間
に置くと直ちに、PVDF試料12をポールした。上部
真鍮ブロック13は、約1601の重量を有していた。
フィルムの端は、下部真鍮ブロック1斗を取り巻く下部
絶縁枝16によって支持された。
絶縁枝16によって支持された。
しかしながら、フィルム12の上面には絶縁物はない(
例えば項10と上部板11)。このようなポーリングに
よって、電圧が8 kV(3,2MV/cr/L)以下
である限り、数分間電圧を印加できた。(ポーリングが
破壊で中断された数例では、破壊は常にフィルムの金属
化した部分のピンホールまたは小さな欠陥を通る局部放
電によって引き起されたことが分った)しかしながら、
8kvを越えると、破壊はフィルムを通しての局部放電
によるよりもむしろ端のフラッシュオーバによって多く
の場合起こり始めた。
例えば項10と上部板11)。このようなポーリングに
よって、電圧が8 kV(3,2MV/cr/L)以下
である限り、数分間電圧を印加できた。(ポーリングが
破壊で中断された数例では、破壊は常にフィルムの金属
化した部分のピンホールまたは小さな欠陥を通る局部放
電によって引き起されたことが分った)しかしながら、
8kvを越えると、破壊はフィルムを通しての局部放電
によるよりもむしろ端のフラッシュオーバによって多く
の場合起こり始めた。
フラッシュオーバを除くために、本技法はフィルムの分
極される部分と、フィルムの1つまたはそれ以上の端と
の間で、フィルム表面に接触する誘電体を備えている。
極される部分と、フィルムの1つまたはそれ以上の端と
の間で、フィルム表面に接触する誘電体を備えている。
これによって、フィルムの表面に沿って破壊が進むこと
を、実質的に防いでいる。誘電体は通常はしなやかな材
料であって、フィルムに対して良好な封止となることが
できる。第2の誘導体の重量、または他の手段を必要に
応じて使用して、しなやかな誘電体をフィルムに押し付
けることができる。1方の電極から他方の電極への破壊
径路はそれによって実質的に延長され、フィルムの端の
近くでのフラッシュオーバの発生を減らすか捷たは除く
ことができる。
を、実質的に防いでいる。誘電体は通常はしなやかな材
料であって、フィルムに対して良好な封止となることが
できる。第2の誘導体の重量、または他の手段を必要に
応じて使用して、しなやかな誘電体をフィルムに押し付
けることができる。1方の電極から他方の電極への破壊
径路はそれによって実質的に延長され、フィルムの端の
近くでのフラッシュオーバの発生を減らすか捷たは除く
ことができる。
例えば0リング10とPMMA (ポリメチルメタクリ
レート)板11を、第1図に示しであるポーリング構成
に加えた。PMMA板白、2×30 X 30 c4
)には6.5c/rLの円形の開口があって、板が上部
真鍮ブロック13から浮いてOリング」二に直接乗るよ
うにして、PVDFフィルム12の電極をつけた領域の
まわりに、隙間のない封止全形成することができた。
レート)板11を、第1図に示しであるポーリング構成
に加えた。PMMA板白、2×30 X 30 c4
)には6.5c/rLの円形の開口があって、板が上部
真鍮ブロック13から浮いてOリング」二に直接乗るよ
うにして、PVDFフィルム12の電極をつけた領域の
まわりに、隙間のない封止全形成することができた。
PMMA板は約1. kgの重量であった。しなやかな
Oリングの上へのこの枝の圧力によって、0リングとフ
ィルムとの間に良好な封止が形成される助けとなった。
Oリングの上へのこの枝の圧力によって、0リングとフ
ィルムとの間に良好な封止が形成される助けとなった。
この技法によって完全にフラッシュオーバが除かれ、破
壊的な放電を起こすことなしに、ポールす艮き試料に少
なくとも5秒間9MV/cTL’)での電界を印加でき
た。第2図と第3図とに示しである圧電データは、この
技法によってポールされた試料から得られた。
壊的な放電を起こすことなしに、ポールす艮き試料に少
なくとも5秒間9MV/cTL’)での電界を印加でき
た。第2図と第3図とに示しである圧電データは、この
技法によってポールされた試料から得られた。
試料が特定した時間の間印加電界を受けられることを確
認するために、同じキャパシタンス(jlXlo−8F
)を有する標準コンデンサでPVDFフィルムを置き換
えて、ポーリング回路に対する立上シ時間を決定した。
認するために、同じキャパシタンス(jlXlo−8F
)を有する標準コンデンサでPVDFフィルムを置き換
えて、ポーリング回路に対する立上シ時間を決定した。
充電々流の測定から、コンデンサ両端の電圧は、0.1
秒以内に外部印加電圧(20kvまで)に到達する”こ
とが分ったが、これはとNで使用された1秒の最小ポー
リング時間よシもはるかに短い時間である。
秒以内に外部印加電圧(20kvまで)に到達する”こ
とが分ったが、これはとNで使用された1秒の最小ポー
リング時間よシもはるかに短い時間である。
上記の原理は、以下の実例によって、さらに十分説明さ
れる筈である。
れる筈である。
実例1
こ\で使用された2軸配向PVDFフイルムは、呉羽化
学から入手した25μm厚さのコンデンサグレードのフ
ィルムである。フィルムは、X線解析で測定すると、は
ソ等しい割合でI形(J/)と■形(α)とを含んでい
る。それぞれ15X15iの大きさの片を大きなフィル
ムのロールから切り取つ”C、トリクロルエタンで完全
に清浄にした。約11007Lの厚さで直径6CrfL
の円形のアルミニウム電極を、各フィルム片の相対する
面の中央に蒸着し、金属化しない境界を残した。第1図
の構成を使ってポーリングを行ったが、その構成は、直
流電源15に接続されている1対の真鍮ブロック13.
14、シリコーンゴムOリング10(内径10.:3c
TLで外径I Ll cyn ) 、およびPMA製の
2枚の板11.16から成るものである。真鍮ブロック
13.14は6αの直径を有し、フィルムのまた金属化
された部分を、真鍮ブロックの間に設置した。下部PM
MA板(1,2X 16X、16ca)には6crIL
の円形の開口があって、下部真鍮ブロックに緊密に嵌合
されPVDF試料を支持した。
学から入手した25μm厚さのコンデンサグレードのフ
ィルムである。フィルムは、X線解析で測定すると、は
ソ等しい割合でI形(J/)と■形(α)とを含んでい
る。それぞれ15X15iの大きさの片を大きなフィル
ムのロールから切り取つ”C、トリクロルエタンで完全
に清浄にした。約11007Lの厚さで直径6CrfL
の円形のアルミニウム電極を、各フィルム片の相対する
面の中央に蒸着し、金属化しない境界を残した。第1図
の構成を使ってポーリングを行ったが、その構成は、直
流電源15に接続されている1対の真鍮ブロック13.
14、シリコーンゴムOリング10(内径10.:3c
TLで外径I Ll cyn ) 、およびPMA製の
2枚の板11.16から成るものである。真鍮ブロック
13.14は6αの直径を有し、フィルムのまた金属化
された部分を、真鍮ブロックの間に設置した。下部PM
MA板(1,2X 16X、16ca)には6crIL
の円形の開口があって、下部真鍮ブロックに緊密に嵌合
されPVDF試料を支持した。
ポーリング後、試料を室温で72時間以上短絡状態で貯
蔵し、次いで0.45X’5.3 cr&の大きさの長
方形に切断して、圧電活性を測定した。圧電測定は、1
10H2の周波数とOO,036%の振幅とを有する正
弦波の歪を印加して行った。通常のやシ方に従って、圧
電係数を決定するための座標は、フィルム表面の法線に
沿って「3」軸を、また容認された標準フィルムロール
の長手方向に沿って「1」軸を選んだ。
蔵し、次いで0.45X’5.3 cr&の大きさの長
方形に切断して、圧電活性を測定した。圧電測定は、1
10H2の周波数とOO,036%の振幅とを有する正
弦波の歪を印加して行った。通常のやシ方に従って、圧
電係数を決定するための座標は、フィルム表面の法線に
沿って「3」軸を、また容認された標準フィルムロール
の長手方向に沿って「1」軸を選んだ。
第2図は、2MV/cmの電界の下でポールした試料に
対する見掛けの圧電歪係数d31(圧電歪係数)を、ポ
ーリング時間tp の関数としてプロットしである(圧
電応力係数e3゜はe31=d3、El+で与えられ、
こ\にEl+は分極された材料に対するヤング係数であ
る)。
対する見掛けの圧電歪係数d31(圧電歪係数)を、ポ
ーリング時間tp の関数としてプロットしである(圧
電応力係数e3゜はe31=d3、El+で与えられ、
こ\にEl+は分極された材料に対するヤング係数であ
る)。
データはすべて、特定の長さのポーリング時間の間に、
破壊を受けなかった生の試料から得られた。これらの結
果は(ポーリング時間に対してd3Iの比較的早い初期
の立上9を示している。例えば1秒において、既にd3
1の値は104秒に相当する値の80%以上に上昇した
。データは、1秒以上のポーリング時間に対して、徐々
にではあるが著しい圧電活性の上昇を示している。この
上昇は、分極過程がフィルムの破壊によって中断される
捷で、。
破壊を受けなかった生の試料から得られた。これらの結
果は(ポーリング時間に対してd3Iの比較的早い初期
の立上9を示している。例えば1秒において、既にd3
1の値は104秒に相当する値の80%以上に上昇した
。データは、1秒以上のポーリング時間に対して、徐々
にではあるが著しい圧電活性の上昇を示している。この
上昇は、分極過程がフィルムの破壊によって中断される
捷で、。
数時間軽く傾向がある。
より高いポーリング電界で得られたd3□のデータも捷
た、第2図に示してあ′るようにtp依存性を示した。
た、第2図に示してあ′るようにtp依存性を示した。
しかしながら、一方ではd31 曲線は電界の強さが増
すと共によシ高く立ち上ったが、立ち上りの大部分は最
初の1秒で起ったし、また一方ではポーリングの後段に
おけるd3□の増加は、電界が上昇するにつれて次第に
小さくなった。ポーリング時間の延長は破壊の確率を増
大させるので、長時間にわたってより低い電界でポーリ
ングするよりも、短時間間隔でより高い電界で)、イル
ムをポーリングすることによって、高い圧電活性を得る
ことの方の利点が明らかである。
すと共によシ高く立ち上ったが、立ち上りの大部分は最
初の1秒で起ったし、また一方ではポーリングの後段に
おけるd3□の増加は、電界が上昇するにつれて次第に
小さくなった。ポーリング時間の延長は破壊の確率を増
大させるので、長時間にわたってより低い電界でポーリ
ングするよりも、短時間間隔でより高い電界で)、イル
ムをポーリングすることによって、高い圧電活性を得る
ことの方の利点が明らかである。
圧電活性に及ぼす印加電界の効果を見るために、試料が
印加電圧に特定の長さの時間の間耐えることができなく
なる電界の強さまでの種々の電界で、それぞれ5秒と1
0秒間試料をポールした。ポールしたフィルムに対する
d3+データ(72時間短絡状態においた後)は、第3
図に示しである。2つのポーリング時間の間のd31値
には僅かな差があるけれども、電界が増加すると共にそ
の差は次第に小さくなる。その上、両方のポーリング時
間に対するd31 曲線は、1と2.5MV/cIrL
との間の電界で急激に上昇した後、約6 MV/cnL
で横ばいになる傾向がある。tp=5秒に対する2Mv
/crILにおけるd31値は約6pC/Nであって、
10pC/Nの飽和値よシも約40%低い。
印加電圧に特定の長さの時間の間耐えることができなく
なる電界の強さまでの種々の電界で、それぞれ5秒と1
0秒間試料をポールした。ポールしたフィルムに対する
d3+データ(72時間短絡状態においた後)は、第3
図に示しである。2つのポーリング時間の間のd31値
には僅かな差があるけれども、電界が増加すると共にそ
の差は次第に小さくなる。その上、両方のポーリング時
間に対するd31 曲線は、1と2.5MV/cIrL
との間の電界で急激に上昇した後、約6 MV/cnL
で横ばいになる傾向がある。tp=5秒に対する2Mv
/crILにおけるd31値は約6pC/Nであって、
10pC/Nの飽和値よシも約40%低い。
実例2
この実例においては、約25′μm厚さの1軸配向のP
VDFフィルムを、第1図に図示したような技法を使っ
て分極した。フィルムは樹脂(5olef and C
ie樹脂X8N)から押出したよって3X3インチ(7
,s x 7.5cr& )の材料片に成形した。材料
片は最初100μmの厚さであった。材料片を70℃で
その最初の長さの4倍にまで一方向に引き伸ばし、引き
伸ばした状態で120℃で2時間なました。
VDFフィルムを、第1図に図示したような技法を使っ
て分極した。フィルムは樹脂(5olef and C
ie樹脂X8N)から押出したよって3X3インチ(7
,s x 7.5cr& )の材料片に成形した。材料
片は最初100μmの厚さであった。材料片を70℃で
その最初の長さの4倍にまで一方向に引き伸ばし、引き
伸ばした状態で120℃で2時間なました。
1、00 ?Lmの厚さのアルミニウム電極を、直径6
αの円形の領域に亘って両面に析出させた。分極化は上
記のように2MV/C1rLで1分間テ行ツタ。d3.
−25.7 pc’/N(e31−69mC/m2 )
の値が得られた。
αの円形の領域に亘って両面に析出させた。分極化は上
記のように2MV/C1rLで1分間テ行ツタ。d3.
−25.7 pc’/N(e31−69mC/m2 )
の値が得られた。
実例3
この実例においては、無配向(引き伸ばしてない)のフ
ィルムを、実例2におけるように、樹脂から押出しによ
って成形した。厚さは32μmであって、アルミニウム
電極を上記のように被覆した。フィルムを上記のように
1.6 MV/CTLで30秒間分極した。d31=5
1)C/N (e、、= s、s mc/m2) ノ値
が得られた。
ィルムを、実例2におけるように、樹脂から押出しによ
って成形した。厚さは32μmであって、アルミニウム
電極を上記のように被覆した。フィルムを上記のように
1.6 MV/CTLで30秒間分極した。d31=5
1)C/N (e、、= s、s mc/m2) ノ値
が得られた。
実例4
この実例においては、PVD、Fフィルムのコロナポー
リングは本発明による技法を用いて行つ>’CO第4図
を引用すると、真鍮ブロック41を接地電位にして、そ
の上にPVDFフィルム42を置いた。PVDFフィル
ムは、上記実例1におけると同じ形式であった。しかし
ながら、真鍮ブロック41と接触する側だけ(図示され
ているように下面)に、6cfrLの直径を有する10
0μmのアルミニウムで電極を設けた。フィルムの上面
は裸のま\にしておいた。下部真鍮ブロック41は、前
のようにPMMA板46の中にはまっていた。本発明に
よるOリング絶縁物45と絶縁板47とを、前のように
フィルム上に置いた。コロナ針48をフィルムの上4c
fILに配置して、それに−26kVの電圧を印加した
。円形のステンレス鋼の網である金属グリッド44をフ
ィルムの上方1.2αに置いて、−9,9kVの電圧を
それに印加した。ポーリングはこれらの条件の下で10
分間で終った。得られたd31値は9.7pC/Nで、
e31は27 mc / m2であった。0リング45
と板47とがない場合には、ポーリングはしばしばフィ
ルム42の端でフラッシュオーバを伴って、本発明の技
法に比べて収量は著しく減少した。
リングは本発明による技法を用いて行つ>’CO第4図
を引用すると、真鍮ブロック41を接地電位にして、そ
の上にPVDFフィルム42を置いた。PVDFフィル
ムは、上記実例1におけると同じ形式であった。しかし
ながら、真鍮ブロック41と接触する側だけ(図示され
ているように下面)に、6cfrLの直径を有する10
0μmのアルミニウムで電極を設けた。フィルムの上面
は裸のま\にしておいた。下部真鍮ブロック41は、前
のようにPMMA板46の中にはまっていた。本発明に
よるOリング絶縁物45と絶縁板47とを、前のように
フィルム上に置いた。コロナ針48をフィルムの上4c
fILに配置して、それに−26kVの電圧を印加した
。円形のステンレス鋼の網である金属グリッド44をフ
ィルムの上方1.2αに置いて、−9,9kVの電圧を
それに印加した。ポーリングはこれらの条件の下で10
分間で終った。得られたd31値は9.7pC/Nで、
e31は27 mc / m2であった。0リング45
と板47とがない場合には、ポーリングはしばしばフィ
ルム42の端でフラッシュオーバを伴って、本発明の技
法に比べて収量は著しく減少した。
要約すれば、本発明によるポーリング技法によって、少
なくとも9MV/cmまでの電界でPVDFフィルムを
ポールすることができる。
なくとも9MV/cmまでの電界でPVDFフィルムを
ポールすることができる。
これは従来技術の技法を著しく越えたものであって、フ
ィルム自体の破壊電界によってのみ通常限定される。空
気中および室温でフィルムが高いレベルめ圧電活性にま
で容易にポールできることによって、この技法は実用面
・から特に魅力的になる。本技法では、3MvZcfr
Lを超えるポーリング電界が通常使用される。
ィルム自体の破壊電界によってのみ通常限定される。空
気中および室温でフィルムが高いレベルめ圧電活性にま
で容易にポールできることによって、この技法は実用面
・から特に魅力的になる。本技法では、3MvZcfr
Lを超えるポーリング電界が通常使用される。
二軸配向(形式Iと形式■)フィルムをポーリングする
には、6Mv/c7rLが最適電界であるように思われ
る。材料片と接触する誘電体は内側の部分のまわりが通
常環状をしているけれども、これは必ずしも必要ではな
い。例えば、材料片の端に関して非対称的に配置されて
いる部分を分極化する場合には、フランシュオーバを防
ぐためにその部分と最も近い端との間にだけ誘電体を配
置することが必要である。
には、6Mv/c7rLが最適電界であるように思われ
る。材料片と接触する誘電体は内側の部分のまわりが通
常環状をしているけれども、これは必ずしも必要ではな
い。例えば、材料片の端に関して非対称的に配置されて
いる部分を分極化する場合には、フランシュオーバを防
ぐためにその部分と最も近い端との間にだけ誘電体を配
置することが必要である。
本発明による技法は、フィルムの端におけるフラッシュ
オーバを実質的に減少する一方、間隙のある内部分極領
域を得るのにも使用することができる。フィルムの片面
または両面の上の間隙のある金属電極で範囲を決めるこ
とができるこれらの間隙ある領域は、同−捷たは反対の
分極を有することができる。第5図を引用すると、フィ
ルムはその上に押された絶縁用誘電体51を有するよう
に示されている。内部領域52.53および54は、互
い違いになった分極を有する。これを得るには、分極さ
れるべき領域52.53.54を金属化するが、分極さ
れる領域55.56の間の間隙は金属化しないま\にし
ておく。それ故に、絶縁材料がフィルムの表面に押付け
られると、分極化を行うことができる一方、端のまわシ
または領域間のフラッシュオーバは実質的に除かれる。
オーバを実質的に減少する一方、間隙のある内部分極領
域を得るのにも使用することができる。フィルムの片面
または両面の上の間隙のある金属電極で範囲を決めるこ
とができるこれらの間隙ある領域は、同−捷たは反対の
分極を有することができる。第5図を引用すると、フィ
ルムはその上に押された絶縁用誘電体51を有するよう
に示されている。内部領域52.53および54は、互
い違いになった分極を有する。これを得るには、分極さ
れるべき領域52.53.54を金属化するが、分極さ
れる領域55.56の間の間隙は金属化しないま\にし
ておく。それ故に、絶縁材料がフィルムの表面に押付け
られると、分極化を行うことができる一方、端のまわシ
または領域間のフラッシュオーバは実質的に除かれる。
それ故に本技法によって複合分極の幾何学的配置が得ら
れることは明らかである。例えばこれらのことは、分離
した電極が取付けである複数の圧電活性領域が望捷れる
指向性マイクロホン、プッシュプル・マイクロホンまた
はヘッドホンなどを得るのに有用である。
れることは明らかである。例えばこれらのことは、分離
した電極が取付けである複数の圧電活性領域が望捷れる
指向性マイクロホン、プッシュプル・マイクロホンまた
はヘッドホンなどを得るのに有用である。
指摘したように、本技法によって実質的に何の間隙もな
い良好な封止が誘電体とフィルムとの間に得られて、フ
ィルムに沿った表面電導によってフラッシュオーバが電
極から端に進むのを防いでいる。誘導体と良好な封止金
なすための必要条件をさらに試験するために、第1図に
示したようなOリングを、上記のように電極を設けたP
VDFフィルム上に置いたが、その上にp MMA誘電
体の板11゛は設けなかった。Oリングなしの最初の研
究で上記に指摘したように、フラッシュオーバが実質的
に生ずることが分った。次に、内径が約9、5 csで
外径が約1.1.5 CTL、厚さ約12crfLs重
量約801i’のPMMA板をOリング上に置かれた(
即ち第1図の板11を置き換えた)。この小さなPMM
A板の重量は、試験した最大電界、9 M V/cmま
でフラッシュオーバを防止するのに十分であった。最後
にこのPMMA板を取除いて、内径と外径とが上記のよ
シ小形のPMMA板と同じで、約100 f?の重量の
ある真鍮リングを、第1図の構成の0リングの上に置い
た。関係するポーリング電圧でフラッシュオーバが起こ
る事が分った。それ故に、もし追加の圧力を希望するな
らば、誘電体材料だけをしなやかな誘電体のすぐ近くで
使用すべきであることは明らかである。絶縁用誘電体(
第1図の10)の上の誘電体板(第1図の11)の重量
に頼るよりはむしろ、破壊電圧を高めるために必要な範
囲にまで導電材料を避ける限り、種々の手段によって力
を印加する事ができることもi!た明らかである。
い良好な封止が誘電体とフィルムとの間に得られて、フ
ィルムに沿った表面電導によってフラッシュオーバが電
極から端に進むのを防いでいる。誘導体と良好な封止金
なすための必要条件をさらに試験するために、第1図に
示したようなOリングを、上記のように電極を設けたP
VDFフィルム上に置いたが、その上にp MMA誘電
体の板11゛は設けなかった。Oリングなしの最初の研
究で上記に指摘したように、フラッシュオーバが実質的
に生ずることが分った。次に、内径が約9、5 csで
外径が約1.1.5 CTL、厚さ約12crfLs重
量約801i’のPMMA板をOリング上に置かれた(
即ち第1図の板11を置き換えた)。この小さなPMM
A板の重量は、試験した最大電界、9 M V/cmま
でフラッシュオーバを防止するのに十分であった。最後
にこのPMMA板を取除いて、内径と外径とが上記のよ
シ小形のPMMA板と同じで、約100 f?の重量の
ある真鍮リングを、第1図の構成の0リングの上に置い
た。関係するポーリング電圧でフラッシュオーバが起こ
る事が分った。それ故に、もし追加の圧力を希望するな
らば、誘電体材料だけをしなやかな誘電体のすぐ近くで
使用すべきであることは明らかである。絶縁用誘電体(
第1図の10)の上の誘電体板(第1図の11)の重量
に頼るよりはむしろ、破壊電圧を高めるために必要な範
囲にまで導電材料を避ける限り、種々の手段によって力
を印加する事ができることもi!た明らかである。
シリコーン材料のOリングは、誘電体の環として使用す
るのに非常に適していることが分つ;tが、その他の材
料や形状も可能である。
るのに非常に適していることが分つ;tが、その他の材
料や形状も可能である。
第6図に示しであるように、誘電体の板61によって圧
せられるような0リング60は、圧縮する時にフィルム
62の表面に良好な封止全作るが、それは比較的高い圧
力がOリングに作用して、Oリングを平たくさせるから
である。第7図を引用すると、くさび形をした幾何学的
形態70を有して、誘電体の板71とフィルム72との
間に置かれた絶縁用誘電体も才だ、良好な封止全行るの
に使用することができる。良好な封止を得るために、し
なやかな誘電体の上で十分な圧力が得られる更た他の幾
何学的形状も可能である。事実、十分な厚さの分極可能
な材料片を用いれば、分極される利料自体のしなやかさ
を利用して良好な封止を得ることができる。その場合に
は、材料片に接触する誘電体はしなやかな材料である必
要はない。こ\で使用されているような用語「しなやか
さ」は、105ないし]、 () 8 N // m2
の範囲の横弾性係数を有することを意味する。さらに、
別々のしなやかな誘電体の栗と誘電体の板とが第1図と
第4図とに示しであるが、それらが単一の部品であるべ
きことは明らかである。それ故に、第5図の誘電体51
は、分極された材料片に接触する側の上に隆起した部分
を有する、単一のしなやかな要素であるべきものである
。
せられるような0リング60は、圧縮する時にフィルム
62の表面に良好な封止全作るが、それは比較的高い圧
力がOリングに作用して、Oリングを平たくさせるから
である。第7図を引用すると、くさび形をした幾何学的
形態70を有して、誘電体の板71とフィルム72との
間に置かれた絶縁用誘電体も才だ、良好な封止全行るの
に使用することができる。良好な封止を得るために、し
なやかな誘電体の上で十分な圧力が得られる更た他の幾
何学的形状も可能である。事実、十分な厚さの分極可能
な材料片を用いれば、分極される利料自体のしなやかさ
を利用して良好な封止を得ることができる。その場合に
は、材料片に接触する誘電体はしなやかな材料である必
要はない。こ\で使用されているような用語「しなやか
さ」は、105ないし]、 () 8 N // m2
の範囲の横弾性係数を有することを意味する。さらに、
別々のしなやかな誘電体の栗と誘電体の板とが第1図と
第4図とに示しであるが、それらが単一の部品であるべ
きことは明らかである。それ故に、第5図の誘電体51
は、分極された材料片に接触する側の上に隆起した部分
を有する、単一のしなやかな要素であるべきものである
。
PvDFの分極化は、本技法によって有利に行われる一
方、他の分極可能な材料も同様に本発明から利益が得ら
れることは明らかである。例えばpVDFの共重合体お
よびシアン化ビニリデンと酢酸ビニルとの共重合体は分
極可能な材料であって、多数の変換器や他の応用製品の
ために同様に研究されつ\ある。こ\で使用しているよ
うな用語1分極可能な材料」は、電界を印加すると圧電
またはパイロ電気の高い応答が得られるあらゆる材料を
意味する。
方、他の分極可能な材料も同様に本発明から利益が得ら
れることは明らかである。例えばpVDFの共重合体お
よびシアン化ビニリデンと酢酸ビニルとの共重合体は分
極可能な材料であって、多数の変換器や他の応用製品の
ために同様に研究されつ\ある。こ\で使用しているよ
うな用語1分極可能な材料」は、電界を印加すると圧電
またはパイロ電気の高い応答が得られるあらゆる材料を
意味する。
金属電極は、必要に応じてポーリングに先立って、フィ
ルムの片面または両面に析出させるのが望ましい。この
ことは圧電活性を維持する助けとなるが、さもないと通
常の金属析出プロセスの際に起こる可能性があるように
、ポーリング後にフィルムを加熱すると、活性は低下し
得る。しかしながら、ポーリングに先立って分極される
領域が金属化されているといないとに関らず、本発明は
有効である。こ\でまた「フィルム」として引用した。
ルムの片面または両面に析出させるのが望ましい。この
ことは圧電活性を維持する助けとなるが、さもないと通
常の金属析出プロセスの際に起こる可能性があるように
、ポーリング後にフィルムを加熱すると、活性は低下し
得る。しかしながら、ポーリングに先立って分極される
領域が金属化されているといないとに関らず、本発明は
有効である。こ\でまた「フィルム」として引用した。
比較的薄い分極可能な材料を上記で注目したが、数ミリ
メートルの厚さを有するPVDF材料の片も、通常は水
中聴音器で使用される。
メートルの厚さを有するPVDF材料の片も、通常は水
中聴音器で使用される。
本技法は捷たそのような材料片を分極するのにも有利に
使用することができる。こNで使用されているような用
語「材料片」は、それ故に厚さと幾何学的形状とがどう
あろうと、2つの広い表面を有する材料を含み、さらに
波形形状にされたり、弧状に曲げられ、あるいはその他
の方法で3次元的に成形されたものを含んでいる。
使用することができる。こNで使用されているような用
語「材料片」は、それ故に厚さと幾何学的形状とがどう
あろうと、2つの広い表面を有する材料を含み、さらに
波形形状にされたり、弧状に曲げられ、あるいはその他
の方法で3次元的に成形されたものを含んでいる。
ポーリング後に、絶縁用の誘電体を通常は材料片から取
除くけれども、その代りに分極された材料を使用して、
出来上っている変換器の永久的な部分(例えば、支持リ
ング)を構成することができる。また絶縁用誘電体によ
って、分極可能な材料片との良好な封止を、接合、溶接
、あるいは絶縁用誘電体と材料片との間の圧力を維持す
ることに頼らない他の技法によって得られることも明ら
かである。
除くけれども、その代りに分極された材料を使用して、
出来上っている変換器の永久的な部分(例えば、支持リ
ング)を構成することができる。また絶縁用誘電体によ
って、分極可能な材料片との良好な封止を、接合、溶接
、あるいは絶縁用誘電体と材料片との間の圧力を維持す
ることに頼らない他の技法によって得られることも明ら
かである。
しかしながら、ポーリング後に絶縁用誘電体を取シ去る
べき場合には、圧力封止は便利である。示されているし
なやがな誘電体は、他の側の下にしなや・かでない誘電
体がある材料片の一方の側に、接触点で押し付けられて
いたが、材料片の両側の誘電体はしなやかな材料である
べきことは明らかである。どちらかの面に接触している
誘電体は、フラッシュオーバの可能性を減らすのに役立
っているので、破壊電圧を高めていることは明らかであ
る。
べき場合には、圧力封止は便利である。示されているし
なやがな誘電体は、他の側の下にしなや・かでない誘電
体がある材料片の一方の側に、接触点で押し付けられて
いたが、材料片の両側の誘電体はしなやかな材料である
べきことは明らかである。どちらかの面に接触している
誘電体は、フラッシュオーバの可能性を減らすのに役立
っているので、破壊電圧を高めていることは明らかであ
る。
本発明による教示のそのような応用はすべて、本発明の
精神と範囲との中に含まれるべきものである。
精神と範囲との中に含まれるべきものである。
第1図は、電極が両面に接触しているフィルムの分極化
方法を示し、 第2図は、ポーリング時間の関数として、PVDFの圧
電歪係数を示し、 第3図は、ポーリング電界の関数として、PVDFの圧
電歪係数を示し、 第4図は、電極が片面に接触しているコロナ放電ポーリ
ング技法を示し、 第5図は、本技法によって製造された反対分極の隣接領
域を有する品物を示し、さらに第6および第7図は、典
型的なしなやかな誘電材料の断面を示す。 〔主要部分の符号の説明〕 材料片・・・12.42.62.72 誘電体・・・10,45.60.70
方法を示し、 第2図は、ポーリング時間の関数として、PVDFの圧
電歪係数を示し、 第3図は、ポーリング電界の関数として、PVDFの圧
電歪係数を示し、 第4図は、電極が片面に接触しているコロナ放電ポーリ
ング技法を示し、 第5図は、本技法によって製造された反対分極の隣接領
域を有する品物を示し、さらに第6および第7図は、典
型的なしなやかな誘電材料の断面を示す。 〔主要部分の符号の説明〕 材料片・・・12.42.62.72 誘電体・・・10,45.60.70
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l 材料片の一部分に電界を印加することを包含する工
程によって、分極可能な該材料片を分極化する方法にお
いて、 少なくとも該分極化の間、該部分から該材料片の少なく
とも1端を、該部分と該端との間で該材料片の表面に接
触する誘電体によって絶縁し、それによって、破壊する
ことなしに該材料片に印加できる電圧を実質的に高める
ことを特徴とする分極可能な材料片を分極する方法。 2、特許請求の範囲第1項記載め方法において、該誘電
体がしなやかな材料を包含jることを特徴とする分極可
能な材料片を分極する方法。 3 %許請求の範囲第2項記載の方法において、該接触
が該誘電体を該材料片に押し付けることによって達成さ
れることを特徴とする分極可能な材料片を分極する方法
。 4 特許請求の範囲第1項記載の方法において、該誘電
体が、該部分を取9巻く環であることを特徴とする分極
可能な材料片を分極する方法。 5 特許請求の範囲第1項記載の方法において、該分極
可能な材料がポリフッ化ビニリデン−!たけその共重合
体であることを特徴とする分極可能な材料片を分極する
方法。 6 特許請求の範囲第5項記載の方法において、該ポリ
フッ化ビニリデンまたはその共重合体が、6ないし15
0マイクロメーターの範囲の厚さを有するフィルムの形
であることを特徴とする分極可能な材料片を分極する方
法。 7 特許請求の範囲第6項記載の方法において、該分極
化が、3.000.000 v/ cm以上、または4
.000.000 V /cm以上、または5、000
.0OOV / cm以上の電界で行われることを特徴
とする分極可能な材料片を分極する方法。 8 %許請求の範囲第1ないし第7項のいずれか1項に
記載の方法において、該分極可能な材料片がポリフッ化
ビニリデンの2軸配向フイルムでろって、該分極化によ
って得られる圧電歪係数(d3I)の値が、少なくとも
5 pC/Nであることを特徴とする分極可能な材料片
を分極する方法。 9 特許請求の範囲第1ないし第8項のいずれか1項に
記載の方法において、該分極可能な材料片がポリフッ化
ビニリデンのフィルムであって、該ポーリングが10秒
以下の時間で行われることを特徴とする分極可能な制料
片を分極する方法。 10 特許請求の範囲第9項記載の方法において、該
ポーリングが室温で行われることを特徴とする分極可能
な材料片を分極する方法。 11 特許請求の範囲第1ないし第10項のいずれか
1項に記載の方法において、該材料片の内部の複数の部
分を、該分極(ヒ中、該部分の間で該材料片の表面に接
触する誘電材料によって、相互に絶縁することを特徴と
する分極可能な材料片を分極する方法。 12、特許請求の範囲第1ないし第11項のいずれか1
項に記載の方法において、該材料の該部分が、電界の該
印加に先立って金属化された少なくとも1つの表面を有
することを特徴とする分極可能な材料片を分極する方法
。 13 特許請求の範囲第1ないし第12項のいずれか
1項に記載の方法において、該誘電体を該材料片から該
分極化後に取9去ることを特徴とする分極可能な材料片
を分極する方法。 14 特許請求の範囲第1ないし第13項のいずれか
1項に記載の方法において、該誘電体が該゛材料片から
該分極化の後に取り去られないことを特徴とする分極可
能な材料片を分極する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/466,771 US4512941A (en) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | Polarizing of piezoelectric material |
| US466771 | 1983-02-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59155115A true JPS59155115A (ja) | 1984-09-04 |
| JPH07109813B2 JPH07109813B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=23853040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59024544A Expired - Fee Related JPH07109813B2 (ja) | 1983-02-14 | 1984-02-14 | 分極可能な薄板を分極する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4512941A (ja) |
| EP (1) | EP0119706B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07109813B2 (ja) |
| CA (1) | CA1209950A (ja) |
| DE (1) | DE3468152D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160067932A (ko) * | 2013-10-29 | 2016-06-14 | 다이낑 고오교 가부시키가이샤 | 필름 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830795A (en) * | 1986-07-03 | 1989-05-16 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Process for making polarized material |
| US4961252A (en) * | 1989-12-08 | 1990-10-09 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Means and method for nonuniform poling of piezoelectric transducers |
| US5352108A (en) * | 1991-10-18 | 1994-10-04 | Norito Sudo | Porous film and porous film manufacturing apparatus |
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