JPS59166285A - 超純水の比抵抗制御装置 - Google Patents
超純水の比抵抗制御装置Info
- Publication number
- JPS59166285A JPS59166285A JP4057483A JP4057483A JPS59166285A JP S59166285 A JPS59166285 A JP S59166285A JP 4057483 A JP4057483 A JP 4057483A JP 4057483 A JP4057483 A JP 4057483A JP S59166285 A JPS59166285 A JP S59166285A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は半導体製造分野で使用さｎる超純水の比抵抗
を低下させる超純水の比抵抗制御装置に関する。
を低下させる超純水の比抵抗制御装置に関する。
超純水は工業用水中の微粒子、生菌、有機物、塩類等ヲ
濾過、イオン交換樹脂、活性炭、逆浸透膜、限外濾過膜
、紫外線照射などの手段の組合わせにより除去して製造
し、半導体製造分野では製造したウェハにこの超純水を
高圧（３００〜３０００ ｐ８６ ）でスプレーし、ジ
ェット作用で洗？に行っている。しかし、その際圧力の
高さと、スプレーする超純水の比抵抗の大きさに比例し
てウェハに静電気を発生させる欠点があるので超純水の
比抵抗を低下させることが要望さｎている。
濾過、イオン交換樹脂、活性炭、逆浸透膜、限外濾過膜
、紫外線照射などの手段の組合わせにより除去して製造
し、半導体製造分野では製造したウェハにこの超純水を
高圧（３００〜３０００ ｐ８６ ）でスプレーし、ジ
ェット作用で洗？に行っている。しかし、その際圧力の
高さと、スプレーする超純水の比抵抗の大きさに比例し
てウェハに静電気を発生させる欠点があるので超純水の
比抵抗を低下させることが要望さｎている。
そこで不発明はスプレーノズルに向かつて流量る主流路
から超純水の一部を分流して炭酸ガスと接触させたのち
主流路に合流させ、その際合流して混合した超純水の比
抵抗全測定して炭酸ガスを溶解した超純水の分流が主流
に合流する流量を調節し、比抵抗がはｙ一定に低下した
超純水をスプレーノズルから噴出させてウェハに静電気
を発生させる・ことを無くしたのであって、以下、図示
の実施例を参照して本発明を説明する。
から超純水の一部を分流して炭酸ガスと接触させたのち
主流路に合流させ、その際合流して混合した超純水の比
抵抗全測定して炭酸ガスを溶解した超純水の分流が主流
に合流する流量を調節し、比抵抗がはｙ一定に低下した
超純水をスプレーノズルから噴出させてウェハに静電気
を発生させる・ことを無くしたのであって、以下、図示
の実施例を参照して本発明を説明する。
／はスプレーノズルなどに至る超純水の主流路で、とｎ
には上流の分岐点／αに分岐流路−の一端が接続し、分
岐流路の他端は分岐点／ａよシも下流の合流点／ｂで再
び主流路に接続する。
には上流の分岐点／αに分岐流路−の一端が接続し、分
岐流路の他端は分岐点／ａよシも下流の合流点／ｂで再
び主流路に接続する。
分岐流路二の途中には充填材層を有する炭酸ガスとの接
触塔３があシ、接触塔の下流には流量調節弁ｌが設けで
ある。従って、−流量調節弁グの開２度によって主流路
／から分岐流路λに流込む超純水の流量が定まる。
触塔３があシ、接触塔の下流には流量調節弁ｌが設けで
ある。従って、−流量調節弁グの開２度によって主流路
／から分岐流路λに流込む超純水の流量が定まる。
接触塔３け分岐流路に流込んだ超純水を充填材層３′の
上面上に散水すると共に、充填材層３′の下にはボンベ
Ｓ甲の炭酸ガスを減圧弁６を介して導入し、超純水と炭
酸ガスを充填材層中で向流接触させ、超純水中に炭酸ガ
スを溶解させる。
上面上に散水すると共に、充填材層３′の下にはボンベ
Ｓ甲の炭酸ガスを減圧弁６を介して導入し、超純水と炭
酸ガスを充填材層中で向流接触させ、超純水中に炭酸ガ
スを溶解させる。
図示の実施例ではぐ炭酸ガスの供給分としてボンベ音用
いているが、化学反応、例えば炭酸塩又は重炭酸塩に鉱
酸を反応させて炭酸ガスを得る様にしてもよい。
いているが、化学反応、例えば炭酸塩又は重炭酸塩に鉱
酸を反応させて炭酸ガスを得る様にしてもよい。
接触塔３は例えば容量が、２００１、操作圧が！ｒＯｔ
ｈａｎ Ａ’ｆｌ−１塔内を下向流する超純水の通水線
１度は／θｍ／Ｈである。
ｈａｎ Ａ’ｆｌ−１塔内を下向流する超純水の通水線
１度は／θｍ／Ｈである。
接触塔の塔底から出る炭酸ガス、を溶解した超純水はポ
ンレ°りで分岐流路中を前述の流量調節弁ｌに圧送さｎ
、流量調節弁の開度に応じた流量で合流点Ｉ／ｂにて主
流路／を流れる超純水の主流と合流、混合する。
ンレ°りで分岐流路中を前述の流量調節弁ｌに圧送さｎ
、流量調節弁の開度に応じた流量で合流点Ｉ／ｂにて主
流路／を流れる超純水の主流と合流、混合する。
上記流量調節弁グの開度を調節するため、主流路／には
合流点／ｂよシも下流に、合流混合した超純水の電導度
を測定し、好ましくは記録する測定手段ｇ’ｔｚ設けて
あシ、その測定値によって電気信号で流量調節弁を調節
する様になっている。
合流点／ｂよシも下流に、合流混合した超純水の電導度
を測定し、好ましくは記録する測定手段ｇ’ｔｚ設けて
あシ、その測定値によって電気信号で流量調節弁を調節
する様になっている。
勿論、分岐流路λにも例えばポンプ７と流量調節弁ｔの
間に炭酸ガスを溶解した超純水の電導Ｋｋ測測定、好ま
しくは記録する測定手段９を設けて置く。
間に炭酸ガスを溶解した超純水の電導Ｋｋ測測定、好ま
しくは記録する測定手段９を設けて置く。
尚、必猥に応じボンベＳから炭酸ガスを接触塔−に導入
する通気管１０と、分岐流路のポンプと測定手段ワの間
にメンブランフィルタ／／ヲ設けると共に、主流路／の
分岐点／ＣＬの下流、分岐流路の接触塔よりも上流と流
量調節弁りの上流、並びに通気管１０の途中には夫々非
常の場合に流ｆｌ’に止める停止弁／２を設ける。
する通気管１０と、分岐流路のポンプと測定手段ワの間
にメンブランフィルタ／／ヲ設けると共に、主流路／の
分岐点／ＣＬの下流、分岐流路の接触塔よりも上流と流
量調節弁りの上流、並びに通気管１０の途中には夫々非
常の場合に流ｆｌ’に止める停止弁／２を設ける。
こｎＫよフ本発明では流量／５ｖｒｚ／ａで主流路／甲
を分岐点／ａまで流れて来た比抵抗／ｇＭΩｍの超純水
の一部／靜／Ｈを分岐流路、２に流込ませ、接触塔３で
二酸化炭素ｋ ？ ｊ ｍ４ｉダ溶解させて合流点／ｂ
で残部の超純水（ｉｔｔ靜／Ｈ）と合流、混合し、合流
した超純水の比抵抗ｆｇ■ｂ低い１０ＭＱｃｍにしスプ
レーノズルなどに供給することができ、高圧で噴出して
ウエノ・を洗浄してもウェハには静電気が発生すること
はない。そ叫て、主流路の合流点／ｂの下流で合流した
超純水の電導度ケ測定し、その値に基いて分岐流路コ甲
の流量調節弁ｔの開度を調節し、炭酸ガスを溶解して比
抵抗を著しく下げた分岐流路中の超純水の主流路中に合
流、混合させる流量を調節する゛ので、製造した超純水
の比抵抗が変化しても常に一定の低い比抵抗の超純水を
スプレーなどに供給することが１きる。
を分岐点／ａまで流れて来た比抵抗／ｇＭΩｍの超純水
の一部／靜／Ｈを分岐流路、２に流込ませ、接触塔３で
二酸化炭素ｋ ？ ｊ ｍ４ｉダ溶解させて合流点／ｂ
で残部の超純水（ｉｔｔ靜／Ｈ）と合流、混合し、合流
した超純水の比抵抗ｆｇ■ｂ低い１０ＭＱｃｍにしスプ
レーノズルなどに供給することができ、高圧で噴出して
ウエノ・を洗浄してもウェハには静電気が発生すること
はない。そ叫て、主流路の合流点／ｂの下流で合流した
超純水の電導度ケ測定し、その値に基いて分岐流路コ甲
の流量調節弁ｔの開度を調節し、炭酸ガスを溶解して比
抵抗を著しく下げた分岐流路中の超純水の主流路中に合
流、混合させる流量を調節する゛ので、製造した超純水
の比抵抗が変化しても常に一定の低い比抵抗の超純水を
スプレーなどに供給することが１きる。
図面は本発明の一実施例を示すフローシート−で、図中
、／は主流路、／ａはその分岐点、／ｂは同じく合流点
、コは分岐流路、３は炭酸ガスとの接触装置として例示
した接触塔、グは＠量調節弁、ｇは流量４節弁を調節す
るための測定手段會示す。 特許出願人 衆田工粟株式会社
、／は主流路、／ａはその分岐点、／ｂは同じく合流点
、コは分岐流路、３は炭酸ガスとの接触装置として例示
した接触塔、グは＠量調節弁、ｇは流量４節弁を調節す
るための測定手段會示す。 特許出願人 衆田工粟株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 超純水の流ｎる主流路と、 主流路の分岐点に一端が接続し、他端は分岐点よりも下
流の合流点で主流路に接続した分岐流路と、 分岐流路中に設けうｎで分岐流路中の超純水に炭酸ガス
を溶解する手段と、 主流路の合流点よシも下流で超純水の比抵抗を測定する
手段と、 分岐流路中に設けらｎ、上記測定手段にょシ分岐流路甲
を流ｎる超純水の流量を調節する流量調節弁と を有することを特徴とする超純水の比抵抗制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4057483A JPS59166285A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 超純水の比抵抗制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4057483A JPS59166285A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 超純水の比抵抗制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59166285A true JPS59166285A (ja) | 1984-09-19 |
| JPS632231B2 JPS632231B2 (ja) | 1988-01-18 |
Family
ID=12584248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4057483A Granted JPS59166285A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 超純水の比抵抗制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59166285A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60876A (ja) * | 1983-05-27 | 1985-01-05 | Nomura Micro Sci Kk | ウェ−ハの洗浄などに使用する比抵抗の低い超純水の製法並びにその装置 |
| JPS6312391A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-19 | Nomura Micro Sci Kk | 超純水の比抵抗制御方法及び装置 |
| JPS6320085A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-27 | Toray Ind Inc | 精製水製造装置 |
| JP2007021454A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Ngk Insulators Ltd | 機能水生成装置及びそれを用いた機能水生成方法 |
| DE19853638B4 (de) * | 1997-05-21 | 2013-06-06 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Verfahren zum Hinzufügen von Kohlendioxidgas zu ultrareinem Wasser |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011245425A (ja) * | 2010-05-27 | 2011-12-08 | Disco Corp | 混合装置 |
| JP2023076056A (ja) * | 2021-11-22 | 2023-06-01 | 株式会社ディスコ | 混合装置及び切削装置 |
-
1983
- 1983-03-14 JP JP4057483A patent/JPS59166285A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60876A (ja) * | 1983-05-27 | 1985-01-05 | Nomura Micro Sci Kk | ウェ−ハの洗浄などに使用する比抵抗の低い超純水の製法並びにその装置 |
| JPS6312391A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-19 | Nomura Micro Sci Kk | 超純水の比抵抗制御方法及び装置 |
| JPS6320085A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-27 | Toray Ind Inc | 精製水製造装置 |
| DE19853638B4 (de) * | 1997-05-21 | 2013-06-06 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Verfahren zum Hinzufügen von Kohlendioxidgas zu ultrareinem Wasser |
| JP2007021454A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Ngk Insulators Ltd | 機能水生成装置及びそれを用いた機能水生成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS632231B2 (ja) | 1988-01-18 |
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