JPS591677A - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
イオンプレ−テイング装置Info
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- JPS591677A JPS591677A JP11083382A JP11083382A JPS591677A JP S591677 A JPS591677 A JP S591677A JP 11083382 A JP11083382 A JP 11083382A JP 11083382 A JP11083382 A JP 11083382A JP S591677 A JPS591677 A JP S591677A
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイオンブレーティング装置の構造に関するもの
である。
である。
近年イオンブレーティング方法による薄膜形成技術は従
来の湿式メッキと比較して無公害であり、且つ湿式メッ
キではメッキできない物質を被覆させる方法として注目
を集めており、あらゆる角度から期待をかけられている
技術である。
来の湿式メッキと比較して無公害であり、且つ湿式メッ
キではメッキできない物質を被覆させる方法として注目
を集めており、あらゆる角度から期待をかけられている
技術である。
したがって現在のイオンブレーティング装置にもいくつ
かの方式かあり、その代表的なものを列挙すわは、一つ
はＭ Ａ ｉ’ ＴＯＸ方式と（・われるもので、真空
槽内にイオン化で、きるガスを充填し、基板を支持して
いる陰極と蒸発材料を保持している発熱体を持つ陽極間
に数１０００Ｖの直流電圧を印加し、グロー改電を発生
させ放電中に発熱体より蒸発金属を蒸発させて、蒸発し
た金属材料の一部をイオン化し、イオン化しない蒸発金
属とともに加速させて基板上に薄膜を形成させるもので
ある。
かの方式かあり、その代表的なものを列挙すわは、一つ
はＭ Ａ ｉ’ ＴＯＸ方式と（・われるもので、真空
槽内にイオン化で、きるガスを充填し、基板を支持して
いる陰極と蒸発材料を保持している発熱体を持つ陽極間
に数１０００Ｖの直流電圧を印加し、グロー改電を発生
させ放電中に発熱体より蒸発金属を蒸発させて、蒸発し
た金属材料の一部をイオン化し、イオン化しない蒸発金
属とともに加速させて基板上に薄膜を形成させるもので
ある。
また陰極方法は前記Ｍ Ａ ’Ｉ’ Ｔ ＯＸ方式を改
良したものであり、蒸発金属のイオン化系と膜形成系を
分離したものである。
良したものであり、蒸発金属のイオン化系と膜形成系を
分離したものである。
すなわち被膜を構成すべき基板を保持する主陰極のまわ
りに複数個の熱陰極を配し、熱陰極から放射される電子
でイオン化可能なガスのイオン化を促進させるとともに
、熱陰極と陽極間の電圧でイオン化を制御できるように
した方式である。
りに複数個の熱陰極を配し、熱陰極から放射される電子
でイオン化可能なガスのイオン化を促進させるとともに
、熱陰極と陽極間の電圧でイオン化を制御できるように
した方式である。
他の方式としては蒸発源と基板間に高周波電源を配設し
、イオン化を励起する高周波イオンブレーティング方式
等かある。
、イオン化を励起する高周波イオンブレーティング方式
等かある。
上記に列挙した幾つかの方式は、（・ずれの方式におい
−Ｃも、基板を陰極に取付ける際に、大気中に浮遊して
いる微細な塵埃や種々の微粉末、さらに手作業にて前記
基板を取付ける場合、綿手袋の糸ごみ等が、真空槽内の
基板や陰極等に付着してしＩｔ・、そのためにイオンブ
レーティングが行なわれろ時に不必要なカスの発生や伺
着物の炭化等が起ってしまい、イオンブレーティングに
よる好ましく・表面処理層が得られないという欠点を有
していた。
−Ｃも、基板を陰極に取付ける際に、大気中に浮遊して
いる微細な塵埃や種々の微粉末、さらに手作業にて前記
基板を取付ける場合、綿手袋の糸ごみ等が、真空槽内の
基板や陰極等に付着してしＩｔ・、そのためにイオンブ
レーティングが行なわれろ時に不必要なカスの発生や伺
着物の炭化等が起ってしまい、イオンブレーティングに
よる好ましく・表面処理層が得られないという欠点を有
していた。
本発明は上記欠点を解決すべく、真空室内の基板および
諸付属機器に付着した微細な塵埃や種々の微粉末等をイ
オンブレーティングする前に除去する１１を目的として
おり、その要旨は真空槽内に、蒸発係と基板支持電極と
イオン化電極とイオン化用ガス力入口を備えたイオンブ
レーティング装置にお（・て、前記基板支持電極に向け
てガスシャワーノズルを設けたことにある。
諸付属機器に付着した微細な塵埃や種々の微粉末等をイ
オンブレーティングする前に除去する１１を目的として
おり、その要旨は真空槽内に、蒸発係と基板支持電極と
イオン化電極とイオン化用ガス力入口を備えたイオンブ
レーティング装置にお（・て、前記基板支持電極に向け
てガスシャワーノズルを設けたことにある。
以下本発明の実施例を図にもとすき説明する。
第１図は本発明による多陰極式イオンブレーティング装
部の概略断面図である。
部の概略断面図である。
１は真空槽、２は被覆される基板、６は基板を保持する
陰極、４はイオン化電極である陰極、５は陽極、６は陽
極用電源、７はイオン化用ガス導入口、８は排気口、９
はイオン化電源、１ｏけ蒸発源である。
陰極、４はイオン化電極である陰極、５は陽極、６は陽
極用電源、７はイオン化用ガス導入口、８は排気口、９
はイオン化電源、１ｏけ蒸発源である。
さらに、１１は真空計、１２は変換部でホ）す、１６は
制御部、１４は真空計が検出する真空度を前記変換部１
６と前記制御部１４とを介して開閉されるバルブである
。
制御部、１４は真空計が検出する真空度を前記変換部１
６と前記制御部１４とを介して開閉されるバルブである
。
１５はガスシャワーノズル、１６は該ガスシャワーノズ
ルと連動して駆動する可動カバー、１７は前記ガスシャ
ワーノズルを上下駆動させる可動体でホ）る。１８は該
可動体１７を駆動するための駆動ネジであり、１９は該
駆動ネジ１７の駆動源であるノズル駆動用モーターであ
る。
ルと連動して駆動する可動カバー、１７は前記ガスシャ
ワーノズルを上下駆動させる可動体でホ）る。１８は該
可動体１７を駆動するための駆動ネジであり、１９は該
駆動ネジ１７の駆動源であるノズル駆動用モーターであ
る。
２０は前記ガスシャワーノズル１５の上下駆動を位置検
出するリミットスイッチである。
出するリミットスイッチである。
２１は前記可動カバー１６を駆動させる駆動部であり、
２２は前記ガスシャワーノズルを首振り運動させるため
のノズル首振用モーターであり、２６はノズル首振用レ
バーである。２４は前記ガスシャワーノズル、１５およ
び前記可動カバー１６を連動して駆動制御させるシーケ
ンス制御部である。
２２は前記ガスシャワーノズルを首振り運動させるため
のノズル首振用モーターであり、２６はノズル首振用レ
バーである。２４は前記ガスシャワーノズル、１５およ
び前記可動カバー１６を連動して駆動制御させるシーケ
ンス制御部である。
さらに、本発明は構成と動作を詳述すると、基板２を陰
極乙に取付ける際は、ガスシャワーノズル１５け降下し
た位置（第１図の２点鎖線の缶＃）にあり、基板２には
ステンレス製の時計ケースを適用し蒸発源１０にはチタ
ンを設け、真空槽１内を排気口８から真空荒引きする際
、真空荒引き開始と同時に、可動カバー駆動部２１が働
き、可動カバー１６が第１図で実線で示す位置に起き上
る。
極乙に取付ける際は、ガスシャワーノズル１５け降下し
た位置（第１図の２点鎖線の缶＃）にあり、基板２には
ステンレス製の時計ケースを適用し蒸発源１０にはチタ
ンを設け、真空槽１内を排気口８から真空荒引きする際
、真空荒引き開始と同時に、可動カバー駆動部２１が働
き、可動カバー１６が第１図で実線で示す位置に起き上
る。
続いて、ノズル駆動用モーターが始動しノズルが」二昇
して、第１図の実線で示す位置迄上る。この時、ガスシ
ャワーノズル１５はノズル駆動用モータ１９を駆動源と
して、プーリー及びベルトを伝達機構とし、２本の駆動
ネジ１８を回転させる。
して、第１図の実線で示す位置迄上る。この時、ガスシ
ャワーノズル１５はノズル駆動用モータ１９を駆動源と
して、プーリー及びベルトを伝達機構とし、２本の駆動
ネジ１８を回転させる。
なお該駆ψ１１ネジ１８は、一方は右イジで他方は左ネ
ジに加工されており、両側のガスシャワーノズル１５は
同時に」二下運動を行なう機構となっている。
ジに加工されており、両側のガスシャワーノズル１５は
同時に」二下運動を行なう機構となっている。
さらに、真空計１１で検出・する真空度は、変換部１２
、および制御部１６を介して真空バｔ″をバルブ１４の
開閉信号に変換し、バルブ１４を開いて窒素ガスを吹出
す。同時に左右のノズル首振り用モーター２２が回転を
始め、ノズル首振り゛用レバー２６を介して、ガスシャ
ワーノズル１５は一定サイクルで首振り運動を行なう。
、および制御部１６を介して真空バｔ″をバルブ１４の
開閉信号に変換し、バルブ１４を開いて窒素ガスを吹出
す。同時に左右のノズル首振り用モーター２２が回転を
始め、ノズル首振り゛用レバー２６を介して、ガスシャ
ワーノズル１５は一定サイクルで首振り運動を行なう。
次に真空槽１が１〜５ Ｔ ＯＩｔ Ｒになると、バル
ブ１４は、閉じて窒素ガスの吹伺けは停止する。
ブ１４は、閉じて窒素ガスの吹伺けは停止する。
該ガスの吹付けと排気口からの真空荒引きにより、基板
である時計ケースに付着していた微細な塵埃や極微な種
々の粉末等は除去される。
である時計ケースに付着していた微細な塵埃や極微な種
々の粉末等は除去される。
さらにノズル首振用モーター２２は止まり、ガスシャワ
ーノズル１５の首振運動は停止する。
ーノズル１５の首振運動は停止する。
続いてノズル駆動用モーター１９始動し、前記ガスシャ
ワーノズル１５は降下し、第１図の２点鎖線の位置迄降
りて停止する。この停止位置は下方に設けたりミツトス
イッチで検出される。
ワーノズル１５は降下し、第１図の２点鎖線の位置迄降
りて停止する。この停止位置は下方に設けたりミツトス
イッチで検出される。
さらに可動カバー駆動部２１が駆動し、可動力バー１６
が第１図の２点鎖線の位置迄回転して、降下しているガ
スシャワーノズル１５をカバーし、保護する。
が第１図の２点鎖線の位置迄回転して、降下しているガ
スシャワーノズル１５をカバーし、保護する。
次に真空槽１内は３ Ｘ １０−２’ｌ’ＯＲＲに維持
されイオン化電源９には、１５００Ｖの直流電圧印加１
．、その他適正な諸条件のもとでイオンブレーティング
が施される。
されイオン化電源９には、１５００Ｖの直流電圧印加１
．、その他適正な諸条件のもとでイオンブレーティング
が施される。
上記動作は１チヤージ毎に繰返される。
この結果、基板１である時計ケースへのイオンブレーテ
ィングは、部分的な変色や微少部分の色むら等の不具合
を生ずることなく、求める色調が得られ、この効果は時
計ケースのみならず、ネクタイピン等の装飾用品へも適
用し得、さらに本発明による装置の構造は、Ｍ Ａ Ｔ
１’ ＯＸ方式や高周波イオンブレーティング方式の
装置にも適用出来、その効果は顕著である。
ィングは、部分的な変色や微少部分の色むら等の不具合
を生ずることなく、求める色調が得られ、この効果は時
計ケースのみならず、ネクタイピン等の装飾用品へも適
用し得、さらに本発明による装置の構造は、Ｍ Ａ Ｔ
１’ ＯＸ方式や高周波イオンブレーティング方式の
装置にも適用出来、その効果は顕著である。
第１図は本発明の一実施例を示すイオンブレーティング
装置の断面図である。 ２・・・・・・被膜される基板、 ４・・・・・・熱陰極、 １１・・・・・・真空計、 １５・・・・・・ガスシャワーノズル、１６・・・・・
・可動カバー。
装置の断面図である。 ２・・・・・・被膜される基板、 ４・・・・・・熱陰極、 １１・・・・・・真空計、 １５・・・・・・ガスシャワーノズル、１６・・・・・
・可動カバー。
Claims (1)
- 真空室内に、蒸発源と基板支持電極とイオン化電極とイ
オン化用ガス導入口を備えたイオンブレーティング装置
において、前記基板支持電極に向けて開口するガスシャ
ワーノズルを設けたことを特徴とするイオンブレーティ
ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11083382A JPS591677A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11083382A JPS591677A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS591677A true JPS591677A (ja) | 1984-01-07 |
Family
ID=14545816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11083382A Pending JPS591677A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS591677A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6067664A (ja) * | 1983-09-24 | 1985-04-18 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
-
1982
- 1982-06-29 JP JP11083382A patent/JPS591677A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6067664A (ja) * | 1983-09-24 | 1985-04-18 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
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