JPS5916969A - 窒化硼素被覆部品 - Google Patents
窒化硼素被覆部品Info
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- JPS5916969A JPS5916969A JP12654782A JP12654782A JPS5916969A JP S5916969 A JPS5916969 A JP S5916969A JP 12654782 A JP12654782 A JP 12654782A JP 12654782 A JP12654782 A JP 12654782A JP S5916969 A JPS5916969 A JP S5916969A
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- boron nitride
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- chemical vapor
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- Pending
Links
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- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 11
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
- C23C16/342—Boron nitride
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は軸受材料、高周波絶縁体材料、抵抗体材料、る
つぼ材料、鋳造ダイス材料、ロケットノズル材料、原子
炉用しやへい用構造材料等に用いられる窒化硼素（以下
ＢＮと略記）の特性を助長することを目的とするもので
ある。
つぼ材料、鋳造ダイス材料、ロケットノズル材料、原子
炉用しやへい用構造材料等に用いられる窒化硼素（以下
ＢＮと略記）の特性を助長することを目的とするもので
ある。
従来ＢＮは潤滑性、絶縁性、耐薬品性、耐熱衝撃性など
工業材料として有利な特性を持ち軸受材料、絶縁体材料
などの用途に用いられている。
工業材料として有利な特性を持ち軸受材料、絶縁体材料
などの用途に用いられている。
しかしＢＮはその製造法が種々考案されているが、高゛
純度の製品をつくるのはかなり難しく、価格、量産性の
面で問題点が多い。ＢＮの焼結体は自己焼結性がないた
め、結合剤を添加して熱間法等によって焼結され、不純
物混入も多く、ＢＮの特性が充分いかされているとは言
えない。
純度の製品をつくるのはかなり難しく、価格、量産性の
面で問題点が多い。ＢＮの焼結体は自己焼結性がないた
め、結合剤を添加して熱間法等によって焼結され、不純
物混入も多く、ＢＮの特性が充分いかされているとは言
えない。
本発明はこれらの欠点について種々検討してきた結果、
化学蒸着法により高純度で緻密なりＮ膜を金属あるいは
プラスチックあるいはセラミックスなどの表面に被覆す
ることによって解決される。
化学蒸着法により高純度で緻密なりＮ膜を金属あるいは
プラスチックあるいはセラミックスなどの表面に被覆す
ることによって解決される。
ＢＮ被膜は１μｍ以上あれば効果があり５０μｍである
と膜が剥離し易くなシ、好ましくは１０−３０μｍであ
る。ＢＮは化学蒸着法だけてなく、イオンプレーティグ
等の物理的蒸着法でも生成出来るが、量産性の点で化学
蒸着法が最も好ましい。
と膜が剥離し易くなシ、好ましくは１０−３０μｍであ
る。ＢＮは化学蒸着法だけてなく、イオンプレーティグ
等の物理的蒸着法でも生成出来るが、量産性の点で化学
蒸着法が最も好ましい。
又従来ＢＮはＢＣＬｓ、 ＮＨ３、Ｈ２混合ガス中で１
２００〜１５００℃で生成していたが１２００℃〜１５
００℃の高温に対する材料は多くなく基体材料が限定さ
れるため用途が少い。一般の工業用材料を基体として用
いるには、１０００℃以下の低温で被覆する必要がある
。
２００〜１５００℃で生成していたが１２００℃〜１５
００℃の高温に対する材料は多くなく基体材料が限定さ
れるため用途が少い。一般の工業用材料を基体として用
いるには、１０００℃以下の低温で被覆する必要がある
。
これらの材料にはプラズマ化学蒸着法が好ましい。この
方法によればＢＣｌＭと取扱い容易なＮ２ とＨ２の混
合ガス中で２００〜８００℃にて被覆することが出来、
この場合ＢＮ粒度を０．１〜５μｍと微粒にすることに
よって密着性のよい被覆が出来る。
方法によればＢＣｌＭと取扱い容易なＮ２ とＨ２の混
合ガス中で２００〜８００℃にて被覆することが出来、
この場合ＢＮ粒度を０．１〜５μｍと微粒にすることに
よって密着性のよい被覆が出来る。
ＢＮは六方晶の納品構造をもつもののほか、非晶質もし
くは結晶質、非晶質の混合された膜であっても本発明の
効果は認められる。
くは結晶質、非晶質の混合された膜であっても本発明の
効果は認められる。
以下に本発明の理解を助けるため実施例を述べる。
実施例１
６ｘ１ｘＯ，４の形状の９７％ＢＮ、 ２．４チＢ２Ｏ
３、残量がＳｉ、Ａｔからなる焼結体ＢＮ（Ａ）と ５
ＵＳ３０４を基体としてプラズマ化学蒸着法で ２チＢ
Ｃ１Ａ 、 ７０％Ｈ２，２８％Ｎ２中で８００℃で、
ヘキサゴナルタイプのＢＮを、０．５μｍ粒度で０．５
１１ ｍ （Ｂ） ＋１０μｍ（Ｃ）、５０μｍ（Ｄ）
の厚さに被覆した。これらを濃ＨＦ溶液に室温で７日間
浸漬テストを行った。テスト結果を第１表に示す。
３、残量がＳｉ、Ａｔからなる焼結体ＢＮ（Ａ）と ５
ＵＳ３０４を基体としてプラズマ化学蒸着法で ２チＢ
Ｃ１Ａ 、 ７０％Ｈ２，２８％Ｎ２中で８００℃で、
ヘキサゴナルタイプのＢＮを、０．５μｍ粒度で０．５
１１ ｍ （Ｂ） ＋１０μｍ（Ｃ）、５０μｍ（Ｄ）
の厚さに被覆した。これらを濃ＨＦ溶液に室温で７日間
浸漬テストを行った。テスト結果を第１表に示す。
第１表
実施例２
９８％ＢＮ 、２％Ｂ２Ｏ３からなるＢＮ焼結体（Ａ）
、Ｆｅ系焼結体表面にプラズマ化学蒸着法で粒度が０．
１μｍ、厚さが２１１ｍのＢＮ（ヘキサゴナル）（Ｂ）
粒度が３μｍ、厚さが３１１ｍのＢＮ（非晶質）（Ｃ）
、粒度が６μｍ１厚さが１０μｍのＢＮ（ヘキサゴナル
）（Ｄ）、粒度が１μｍ粒度、厚さが１１０ｌ１ノＢＮ
（ヘキサゴナル）（Ｅ）を被覆して１００〜６ｏｏ℃で
摩擦テストを行った。テスト結果を第２表に示す。
、Ｆｅ系焼結体表面にプラズマ化学蒸着法で粒度が０．
１μｍ、厚さが２１１ｍのＢＮ（ヘキサゴナル）（Ｂ）
粒度が３μｍ、厚さが３１１ｍのＢＮ（非晶質）（Ｃ）
、粒度が６μｍ１厚さが１０μｍのＢＮ（ヘキサゴナル
）（Ｄ）、粒度が１μｍ粒度、厚さが１１０ｌ１ノＢＮ
（ヘキサゴナル）（Ｅ）を被覆して１００〜６ｏｏ℃で
摩擦テストを行った。テスト結果を第２表に示す。
第２表
（注）μ：摩擦係数
りは４００℃にて表面のＢＮ膜が剥離していた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （月 軸受材料、高周波絶縁体材料、抵抗体材料、るつ
ぼ材料、鋳造ダイス材料、ロケットノズル材料、原子炉
じゃへい用構造材料などの材料表面に窒化硼素被覆を化
学蒸着法により１〜５０μｍの厚さに被覆したことを特
徴とする窒化硼素被覆部品。 （２、特許請求の範囲第（１）項に於いて、ＢＣＬｓ
、 Ｎ２ 。 Ｈ２の混合ガス雰囲気中でプラズマ化学蒸着法にて０．
１〜５μｍの粒度をもつ六方晶もしくは非晶質の窒化硼
素を被覆した窒化硼素被覆部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12654782A JPS5916969A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 窒化硼素被覆部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12654782A JPS5916969A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 窒化硼素被覆部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5916969A true JPS5916969A (ja) | 1984-01-28 |
Family
ID=14937874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12654782A Pending JPS5916969A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 窒化硼素被覆部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916969A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61236655A (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-21 | 電気化学工業株式会社 | 熱分解窒化ホウ素物品およびその製法 |
| DE19602766A1 (de) * | 1995-01-27 | 1996-08-08 | Fuji Heavy Ind Ltd | Warnsystem für ein Fahrzeug |
| CN102312185A (zh) * | 2011-07-04 | 2012-01-11 | 常州天合光能有限公司 | 非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5282699A (en) * | 1975-12-29 | 1977-07-11 | Youichi Murayama | Hard boronnitride c0ating |
| JPS56158866A (en) * | 1980-05-09 | 1981-12-07 | Toshiba Corp | Structural material for use at high temperature |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP12654782A patent/JPS5916969A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5282699A (en) * | 1975-12-29 | 1977-07-11 | Youichi Murayama | Hard boronnitride c0ating |
| JPS56158866A (en) * | 1980-05-09 | 1981-12-07 | Toshiba Corp | Structural material for use at high temperature |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61236655A (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-21 | 電気化学工業株式会社 | 熱分解窒化ホウ素物品およびその製法 |
| DE19602766A1 (de) * | 1995-01-27 | 1996-08-08 | Fuji Heavy Ind Ltd | Warnsystem für ein Fahrzeug |
| DE19602766C2 (de) * | 1995-01-27 | 1998-07-23 | Fuji Heavy Ind Ltd | Warnsystem für ein Fahrzeug |
| CN102312185A (zh) * | 2011-07-04 | 2012-01-11 | 常州天合光能有限公司 | 非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法 |
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