JPS59169934A - 亜砒酸の製造法 - Google Patents
亜砒酸の製造法Info
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- JPS59169934A JPS59169934A JP4499983A JP4499983A JPS59169934A JP S59169934 A JPS59169934 A JP S59169934A JP 4499983 A JP4499983 A JP 4499983A JP 4499983 A JP4499983 A JP 4499983A JP S59169934 A JPS59169934 A JP S59169934A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅の製錬、特に金離素銅精鉱を製錬して電嶽
銅を製造する過程で、粗銅の電解精製に際して生成する
電解液（銅遊解液）を利用して柚々の銅源から亜砒酸を
製造する方法に関する。
銅を製造する過程で、粗銅の電解精製に際して生成する
電解液（銅遊解液）を利用して柚々の銅源から亜砒酸を
製造する方法に関する。
近年１種々の半導体素子材料として注目されているガリ
ウム砒素やアルミニウム砒素を製造するだめの金属砒素
の製造原料として純度の高い高品位の亜砒酸（ＡＳ２０
５ ）に対する需要が高まってきている。
ウム砒素やアルミニウム砒素を製造するだめの金属砒素
の製造原料として純度の高い高品位の亜砒酸（ＡＳ２０
５ ）に対する需要が高まってきている。
従来、砒素酸化物の湿式精製法として砒素の硫化物（Ａ
ｓ２Ｓ３＊ Ａｓ２５ｓ ）のスラリーに硫酸銅を添加
して置換反応による脱銅を行ない、得られる液に溶存す
る砒素の酸素酸イオンをｓｏ２で還元した後亜砒酸（Ａ
ｓ２Ｏ５）として晶出させる方法（特開昭５２−５４６
９９号）が提案されている。
ｓ２Ｓ３＊ Ａｓ２５ｓ ）のスラリーに硫酸銅を添加
して置換反応による脱銅を行ない、得られる液に溶存す
る砒素の酸素酸イオンをｓｏ２で還元した後亜砒酸（Ａ
ｓ２Ｏ５）として晶出させる方法（特開昭５２−５４６
９９号）が提案されている。
しかし、上記方法では砒素硫化物としてＡ３２Ｓ５をも
用いるので高純度のＡｓ２ ｏ３を得ることは困難であ
り、加うるに脱銅反応の過程でＡＳ２０．の早期晶出に
よる損失が起るためＡ３２０３を高収率で得ることも不
可能である等の欠点がある。
用いるので高純度のＡｓ２ ｏ３を得ることは困難であ
り、加うるに脱銅反応の過程でＡＳ２０．の早期晶出に
よる損失が起るためＡ３２０３を高収率で得ることも不
可能である等の欠点がある。
本発明者は、このような亜砒酸の製漬上の現状に鑑み、
さきに、金離累銅精鉱の製錬過程における電解精製工程
より得られる電解沈殿鋼を出発原料として用いて亜砒酸
を製造する方法を開発した（特願昭５７−１９４０８０
号）。この方法は、電解沈殿鋼を低濃度の硫酸溶液で浸
出処理して得られる浸出液に、過酸化水素水溶液および
硫化砒素を添加、混合し、生成する硫化銅を分離、除去
し、得られる液に亜硫酸ガスを導入して該液中の砒素を
亜砒酸として晶出させることから成り、この方法による
と、上記硫化砒素の添加による浸出液の脱銅反応を過酸
化水素の水溶液の存在下に行なうだめ該脱銅反応に際し
て過剰のＡｓ２Ｏ５が早期析出するのを最小限に抑制で
きるので、砒素の実収率を高めて高品位の亜砒酸を収得
し得るようになる。
さきに、金離累銅精鉱の製錬過程における電解精製工程
より得られる電解沈殿鋼を出発原料として用いて亜砒酸
を製造する方法を開発した（特願昭５７−１９４０８０
号）。この方法は、電解沈殿鋼を低濃度の硫酸溶液で浸
出処理して得られる浸出液に、過酸化水素水溶液および
硫化砒素を添加、混合し、生成する硫化銅を分離、除去
し、得られる液に亜硫酸ガスを導入して該液中の砒素を
亜砒酸として晶出させることから成り、この方法による
と、上記硫化砒素の添加による浸出液の脱銅反応を過酸
化水素の水溶液の存在下に行なうだめ該脱銅反応に際し
て過剰のＡｓ２Ｏ５が早期析出するのを最小限に抑制で
きるので、砒素の実収率を高めて高品位の亜砒酸を収得
し得るようになる。
而して、上記方法で用いる電解沈殿鋼は、金離素銅精鉱
の製錬過程における電解精製で生成する電解液から丹ば
ん（Ｃｕ５Ｏａ・５Ｈ２０）を晶析した後液を脱銅およ
び脱砒電解処理することによシ得られるものであるから
、上記（ｉ ５４″ｌ液の浄液に該沈殿鋼を電解析出さ
せるだめの処ＩＮ！を施すことが不可欠となる。しかし
ながら、上記沈殿鋼を生成するだめの上記電解液の脱銅
および脱砒電解処理は、その作業の煩雑さ、作業環境の
汚染およびそれに伴なう健康管理の観点から好ましくな
く、これに代わる電解液の浄液電理技術力峨で望されて
いた。
の製錬過程における電解精製で生成する電解液から丹ば
ん（Ｃｕ５Ｏａ・５Ｈ２０）を晶析した後液を脱銅およ
び脱砒電解処理することによシ得られるものであるから
、上記（ｉ ５４″ｌ液の浄液に該沈殿鋼を電解析出さ
せるだめの処ＩＮ！を施すことが不可欠となる。しかし
ながら、上記沈殿鋼を生成するだめの上記電解液の脱銅
および脱砒電解処理は、その作業の煩雑さ、作業環境の
汚染およびそれに伴なう健康管理の観点から好ましくな
く、これに代わる電解液の浄液電理技術力峨で望されて
いた。
本発明者は、このような事情から上記７ｄ解液の新たな
処理技術について検討した結果、該電解液から丹ばんを
晶析した後液を拡散透析に付することにより、上記脱銅
および脱砒電解処理を行なうことなく、電解液を浄液処
理し得ることの知見を得、更に該処理により得られる透
析漬液を用いて種々の銅源を浸出処理した後液が、上記
電解沈殿鋼の硫酸溶液による浸出液におけると同様な手
順で高品位の亜砒酸を製造するのに適用できることの知
見を得て本発明をなすに至った。
処理技術について検討した結果、該電解液から丹ばんを
晶析した後液を拡散透析に付することにより、上記脱銅
および脱砒電解処理を行なうことなく、電解液を浄液処
理し得ることの知見を得、更に該処理により得られる透
析漬液を用いて種々の銅源を浸出処理した後液が、上記
電解沈殿鋼の硫酸溶液による浸出液におけると同様な手
順で高品位の亜砒酸を製造するのに適用できることの知
見を得て本発明をなすに至った。
したがって、本発明は、銅製勉の過程で粗銅の電解精製
に際して生成する電解液の拡散透析復液を利用して種々
の銅源から高品位の亜砒酸を製造し得る方法を提供する
ことを目的とする。
に際して生成する電解液の拡散透析復液を利用して種々
の銅源から高品位の亜砒酸を製造し得る方法を提供する
ことを目的とする。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明の構成上の特徴は、粗銅の電解精製に際して生成
する電解液から丹ばんを晶析した後液を拡散透析に付し
て透析漬液を樽、該透析漬液を用いて銅源を浸出処理し
、得られる浸出後渡に過酸化水素水溶液および硫化砒素
を添加、混合し、生成する硫化銅を分離、除去し／こ後
、Ｌ” ２出後液に亜硫酸ガスを導入して該液中の砒素
を亜砒酸として晶出させることにある。
する電解液から丹ばんを晶析した後液を拡散透析に付し
て透析漬液を樽、該透析漬液を用いて銅源を浸出処理し
、得られる浸出後渡に過酸化水素水溶液および硫化砒素
を添加、混合し、生成する硫化銅を分離、除去し／こ後
、Ｌ” ２出後液に亜硫酸ガスを導入して該液中の砒素
を亜砒酸として晶出させることにある。
本発明で用いる電解液は、通常、金離紫鋼精鉱を製錬し
て電気桐を製造する過程で、いわゆる粗銅の電解精製に
際して生成するものであって、一般に下記組成を有する
。
て電気桐を製造する過程で、いわゆる粗銅の電解精製に
際して生成するものであって、一般に下記組成を有する
。
（Ｊ／〕）
Ｃｕ ４（１−５Ｏ
Ｎ１ １０〜２０
Ａｓ ２〜 Ｇ
Ｈ２ＳＯ４１８０〜２００
本発明ではまず上記銅′市解液から真空蒸発缶を用いて
丹ばん（ＣｕＳＯ４・５Ｈ２０）を晶析させ、炉別する
。得られる戸別後渡（結晶缶後腹と称ｔられる）は一般
に下記組成を有する。
丹ばん（ＣｕＳＯ４・５Ｈ２０）を晶析させ、炉別する
。得られる戸別後渡（結晶缶後腹と称ｔられる）は一般
に下記組成を有する。
（、ｉ／Ａ ）
Ｃｕ２０−３Ｏ
Ｎ１ １５〜３０
Ａｓ ８〜１５Ｈ２ＳＯ４
２５０〜３００ 次に、不発明では上記結晶缶抜液を拡散透析に付する。
２５０〜３００ 次に、不発明では上記結晶缶抜液を拡散透析に付する。
この拡散透析は、多数の陰イオン交換膜−を配設した拡
散透析備内に上記結晶缶抜液を、水を用い水／原液の比
を０．９〜１．１に、および液流速を０．５〜１．０ノ
／Ｈｒ−７１ｊに調整しながら行なうとよく、この透析
により７０〜８０％の硫酸が回収される。このようにし
で得られる透析復液ならびに回収（Ｖ８変の組成は下記
のとおりである。
散透析備内に上記結晶缶抜液を、水を用い水／原液の比
を０．９〜１．１に、および液流速を０．５〜１．０ノ
／Ｈｒ−７１ｊに調整しながら行なうとよく、この透析
により７０〜８０％の硫酸が回収される。このようにし
で得られる透析復液ならびに回収（Ｖ８変の組成は下記
のとおりである。
透析復液の組成：
（ｋり）
Ｃｕ ２０〜２５
Ｎ１ １６ 足 ２０
Ａｓ ４．Ｑ〜 ８０Ｈ２ＳＯ４’
５０ 〜１００ 回収硫酸の組成： （シリ） ＣｕＯ，２〜１．５ Ｎｉ Ｏ，１〜 １．０Ａｓ
２． Ｏ〜６．０Ｈ２Ｓ○４
２００〜２８０上述のようにして得られる回収硫酸は
若干のＣｕ 、 ＮｉおよびＡｓを含んでいるので硫化
水素等を用いて硫化処理して除去した後、電気銅を製造
するだめのアノードの電解精製工程゛へ循環させて使用
し得る。
５０ 〜１００ 回収硫酸の組成： （シリ） ＣｕＯ，２〜１．５ Ｎｉ Ｏ，１〜 １．０Ａｓ
２． Ｏ〜６．０Ｈ２Ｓ○４
２００〜２８０上述のようにして得られる回収硫酸は
若干のＣｕ 、 ＮｉおよびＡｓを含んでいるので硫化
水素等を用いて硫化処理して除去した後、電気銅を製造
するだめのアノードの電解精製工程゛へ循環させて使用
し得る。
一方、上述のようにして得られる透析復液は各鍾銅源の
浸出処理に利用する。銅源としては、例えば銅粉、銅屑
、その他の銅スクラツプ等を用いることができ、そのほ
かに銅製錬の過程で生成する電解沈殿銅、その他銅化合
物も用い得る。なお。
浸出処理に利用する。銅源としては、例えば銅粉、銅屑
、その他の銅スクラツプ等を用いることができ、そのほ
かに銅製錬の過程で生成する電解沈殿銅、その他銅化合
物も用い得る。なお。
銅源として電解沈殿銅を用いるときはその浸出に用いる
上記透析後液中の硫酸π）度を低減させることが好せし
い。この浸出処理は、被処理物のスラリー濃度１００〜
２５０ ｇ／Ｉにおいて１〜５Ａ／分／！の割合の空伝
を吹き込みながら、１０００〜２００ Ｏｒｐｍの攪拌
下でｎ温乃至９０℃の温度で行なうとよく、通常６〜８
時間で浸出を完了する。浸出終了時のＰＨは約１．５に
なる。なお、このようにして浸出処理した後の残渣は繰
返して浸出を行なってもよい。
上記透析後液中の硫酸π）度を低減させることが好せし
い。この浸出処理は、被処理物のスラリー濃度１００〜
２５０ ｇ／Ｉにおいて１〜５Ａ／分／！の割合の空伝
を吹き込みながら、１０００〜２００ Ｏｒｐｍの攪拌
下でｎ温乃至９０℃の温度で行なうとよく、通常６〜８
時間で浸出を完了する。浸出終了時のＰＨは約１．５に
なる。なお、このようにして浸出処理した後の残渣は繰
返して浸出を行なってもよい。
上記浸出処理により銅源中のＣｕが有効に溶出されるの
で、得られる浸出抜液に過酸化水素水溶液と硫化砒素（
Ａｓ２５３）を添加して該浸出後液中のＣｕＳＯ４との
間に脱銅反応（３Ｃ１１ＳＯ４＋Ａｓ２５５＋４Ｈ２０
→３ＣｕＳ＋２ＨＡｓ０２＋３ＩＴ２ＳＯ４）を行わせ
る。
で、得られる浸出抜液に過酸化水素水溶液と硫化砒素（
Ａｓ２５３）を添加して該浸出後液中のＣｕＳＯ４との
間に脱銅反応（３Ｃ１１ＳＯ４＋Ａｓ２５５＋４Ｈ２０
→３ＣｕＳ＋２ＨＡｓ０２＋３ＩＴ２ＳＯ４）を行わせ
る。
本発明ではこの脱銅反応に際して過ｆ１１のＡｓ２ｏ３
が早；υ」析出するのを最小限に抑制するだめに過１２
化水素の水溶液を上記浸出抜液に予め添加するものであ
って、これにより砒素の実収率を高めることができる。
が早；υ」析出するのを最小限に抑制するだめに過１２
化水素の水溶液を上記浸出抜液に予め添加するものであ
って、これにより砒素の実収率を高めることができる。
又、上記浸出後中にＡＳと共に溶出するアンチモンの可
成りの量（６５〜８０条）が砒素の一部がＡｓ２Ｏ５と
して早期析出する際に同時に析出し、上記脱銅反応によ
り生成する硫化鋼と随伴して系外へ分離、除去され得る
ので、反応液中のＡｓ／Ｂｂの比率が顕著に高まり、そ
の結果、目的物としてのＡＳ２０５の結晶のアンチモン
に、しる汚染を０．６ ％ ＋ｖ、下に［７てその純度
を高めることが可能となる。又、上記１ｐ（４〜反応に
際してのアンチモンの脱除を効率的に行なうに１−１、
」二へ己受出復液に添加する（流化（ｉｌを素はＡｓ７
Ｓ５であることが好ｊしく、若し、Ａｓ２Ｓ３を使用す
るときはアンチモンの脱除が効果的に行われなくなり、
目的とする高純度の亜砒ｊ：夕がｆ（ｉられないので留
、へすべきである。
成りの量（６５〜８０条）が砒素の一部がＡｓ２Ｏ５と
して早期析出する際に同時に析出し、上記脱銅反応によ
り生成する硫化鋼と随伴して系外へ分離、除去され得る
ので、反応液中のＡｓ／Ｂｂの比率が顕著に高まり、そ
の結果、目的物としてのＡＳ２０５の結晶のアンチモン
に、しる汚染を０．６ ％ ＋ｖ、下に［７てその純度
を高めることが可能となる。又、上記１ｐ（４〜反応に
際してのアンチモンの脱除を効率的に行なうに１−１、
」二へ己受出復液に添加する（流化（ｉｌを素はＡｓ７
Ｓ５であることが好ｊしく、若し、Ａｓ２Ｓ３を使用す
るときはアンチモンの脱除が効果的に行われなくなり、
目的とする高純度の亜砒ｊ：夕がｆ（ｉられないので留
、へすべきである。
又、本発明では上記硫化砒２ｚ、 （Ａｓ２Ｓ３ ）と
して、銅精鉱の製錬において溶錬工程（例えば自ｆＬ１
７炉工程）で発生子る排ガス中の砒批を硫化物として固
定したもの、すなわち該団ガスを水で洗浄して砒素を水
中に溶出させて得られる水溶液を硫化水素ガス、水硫化
ソーダなどの硫化剤で硫化処理することによシ得られる
硫化砒素（ケーキ状を呈する）をスラリー形態にしだも
のを用い得る。
して、銅精鉱の製錬において溶錬工程（例えば自ｆＬ１
７炉工程）で発生子る排ガス中の砒批を硫化物として固
定したもの、すなわち該団ガスを水で洗浄して砒素を水
中に溶出させて得られる水溶液を硫化水素ガス、水硫化
ソーダなどの硫化剤で硫化処理することによシ得られる
硫化砒素（ケーキ状を呈する）をスラリー形態にしだも
のを用い得る。
上記浸出抜液に過酸化水素水溶液および儲化砒素のスラ
リーを添加して上記脱銅反応を行なうには、該浸出後液
中に生成するＡ８３＋ＶＣ対してＨ２Ｏ２として０．５
〜３．０当忙添加し、次いで液中のｃＪ＋に対して約当
介の、Ａｓ２８３を添加して６０〜９０℃の温度で債拌
下に０．５〜１時間程度反応させるとよい。ここで過酸
化水素の添加歇が過剰になると脱銅反応により生成した
硫化銅（ＣｕＳ ）残渣の一部が再溶解するので留意す
る必要がある。才だｔＡ６２ｓ３のスラリーは一度に全
部添加せずに分割して添加することがＡｓのロスを少く
するうえで有利である。
リーを添加して上記脱銅反応を行なうには、該浸出後液
中に生成するＡ８３＋ＶＣ対してＨ２Ｏ２として０．５
〜３．０当忙添加し、次いで液中のｃＪ＋に対して約当
介の、Ａｓ２８３を添加して６０〜９０℃の温度で債拌
下に０．５〜１時間程度反応させるとよい。ここで過酸
化水素の添加歇が過剰になると脱銅反応により生成した
硫化銅（ＣｕＳ ）残渣の一部が再溶解するので留意す
る必要がある。才だｔＡ６２ｓ３のスラリーは一度に全
部添加せずに分割して添加することがＡｓのロスを少く
するうえで有利である。
このようにＡｓ２Ｓ３のスラリーを添加して脱銅反応を
行なうと該脱銅反応が実質上１００係の効率で進行し、
ＡＳ の一部がはるかに溶解度の高いＡｓ５＋に４− 酸化される。
行なうと該脱銅反応が実質上１００係の効率で進行し、
ＡＳ の一部がはるかに溶解度の高いＡｓ５＋に４− 酸化される。
上述のようにして銅源の浸出後筬に脱銅反応を行わせて
得られる反応液を戸別後亜硫酸ガス（ＳＯ２）を吹き込
みなどにより導入すると液中の砒素イオン（八と、Ａｓ
５＋）がＡ３２０３として晶出する。この亜硫酸ガスの
上記反応液への導入は０．５ノ／分／ｌ程度の量で常温
乃至８０℃の温度で１〜３時間行なうとよく、この尋人
により反応液中の砒素の８０弼以上をＡｓ２０３として
晶出し得る。
得られる反応液を戸別後亜硫酸ガス（ＳＯ２）を吹き込
みなどにより導入すると液中の砒素イオン（八と、Ａｓ
５＋）がＡ３２０３として晶出する。この亜硫酸ガスの
上記反応液への導入は０．５ノ／分／ｌ程度の量で常温
乃至８０℃の温度で１〜３時間行なうとよく、この尋人
により反応液中の砒素の８０弼以上をＡｓ２０３として
晶出し得る。
このようにして晶出して得られるＡｓ２０．は９９．４
％以上の高い純度をＭし、且つアンチモン含有率が極め
て低い高品位のものであるので、金属砒素の製造原料と
して好適である。
％以上の高い純度をＭし、且つアンチモン含有率が極め
て低い高品位のものであるので、金属砒素の製造原料と
して好適である。
叙とのように、ｌド光明によると、言（此素銅精鉱の製
線過稈に駁ける’ｉｉ再ロノロ１ｊ製工桿成する′［６
解液を有利に浄液し１＋ｊると共に、この浄液した電力
」了液を用いて爪軸１２ＦＩなｉ！！ ＊Ｉの銅源を浸
出処理した浸出抜液ン・Ｉ゛ｌｊ、用して高純瓜の亜砒
１イタを１時６銭し得るので、本発明ン・現在実施され
−Ｃいる代表的々ぐ伺製線法である１耐ｘ＋ｐ ｅ以法
と組合わぜで１」なうと、含−ｔｉｌｔ：累のバもい銅
Ｖ、石の製錬も容易となり、加うるに脱砒処理のだめの
設備も低減し一部る利点がある。
線過稈に駁ける’ｉｉ再ロノロ１ｊ製工桿成する′［６
解液を有利に浄液し１＋ｊると共に、この浄液した電力
」了液を用いて爪軸１２ＦＩなｉ！！ ＊Ｉの銅源を浸
出処理した浸出抜液ン・Ｉ゛ｌｊ、用して高純瓜の亜砒
１イタを１時６銭し得るので、本発明ン・現在実施され
−Ｃいる代表的々ぐ伺製線法である１耐ｘ＋ｐ ｅ以法
と組合わぜで１」なうと、含−ｔｉｌｔ：累のバもい銅
Ｖ、石の製錬も容易となり、加うるに脱砒処理のだめの
設備も低減し一部る利点がある。
以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説明する。
実施例
下記組成の銅電解液を真空結晶蒸発缶を用いて濃縮した
後、急速冷却して丹ばん（ｃｕｓＯ４・５Ｈ２０）を析
出させ、Ｐ別しだ。
後、急速冷却して丹ばん（ｃｕｓＯ４・５Ｈ２０）を析
出させ、Ｐ別しだ。
銅電解液０組成： （鐙）
Ｃｕ ４５．Ｏ
８５５
Ｈ２ＳＯ４１９１
上述のようにして傅られた結晶缶後呑にの組成は下記の
と〉りであった、 （み４） ｃｕ ２５．Ｏ Ａｓ １１．０ Ｈ２ＳＯ４２８２，６ 」二記結晶缶復液の１ノを陰イオン交換膜（２ｄｍ’）
の２０枚を配設した拡散透析槽へ水１ノを用いて０、６
Ａ ／ Ｈｒ ／ ｙｉ’の流速で通液して下記組成
の７２弼の硫酸０．９！を回収すると共に下記組成の透
析抜液１．１！を得た。
と〉りであった、 （み４） ｃｕ ２５．Ｏ Ａｓ １１．０ Ｈ２ＳＯ４２８２，６ 」二記結晶缶復液の１ノを陰イオン交換膜（２ｄｍ’）
の２０枚を配設した拡散透析槽へ水１ノを用いて０、６
Ａ ／ Ｈｒ ／ ｙｉ’の流速で通液して下記組成
の７２弼の硫酸０．９！を回収すると共に下記組成の透
析抜液１．１！を得た。
回収硫酸の組成：
（ＶＪ ）
Ｃｕ Ｏ，０３
Ａｓ ５．８７
ｕ７ｓｏ４ ２３２．６７
なお、この回収硫酸は硫化水素を用いてＣｕおよびＡｓ
を硫化処理して除去した後電解、ｌｆｉ製工程へ戻した
。
を硫化処理して除去した後電解、ｌｆｉ製工程へ戻した
。
透析抜液の組成：
（ｇ／１３ ）
Ｃｕ ２２．７
Ａ８ ５．２
Ｈ２ＳＯ＋ ６６．０
上記透析後液を用い、銅屑６５ｇを３Ａ／分／ｐの空気
を吹き込みながら常温で８時間浸出を行なって、下記組
成の浸出抜液１０３ノを得だ。
を吹き込みながら常温で８時間浸出を行なって、下記組
成の浸出抜液１０３ノを得だ。
（ＥＶり
Ｈ２ＳＯ４９，６
なお、浸出終了時のＰＨは１．５であり、浸出率は７６
．６係であった。
．６係であった。
次に、上述のようにして得られた浸出復液に１６９．８
．９と３５％過水酸水素水溶液９２ｍ１を加え、８５℃
で攪拌しながら（５００〜１０００ ｒｐｍ ）１．５
時間脱銅反応を行なった。反応波液を濾過して硫化銅を
除去して下記組成の脱銅復液０．９７２ノを得た。
．９と３５％過水酸水素水溶液９２ｍ１を加え、８５℃
で攪拌しながら（５００〜１０００ ｒｐｍ ）１．５
時間脱銅反応を行なった。反応波液を濾過して硫化銅を
除去して下記組成の脱銅復液０．９７２ノを得た。
（鐙）
Ｃｕ ０
八Ｓ” １４．３
Ａｓ５＋５２．４
なお、このとき得られた脱銅残渣（ＣｕＳ ） １４２
．３ｇは銅製錬工程へ戻した。
．３ｇは銅製錬工程へ戻した。
上記脱銅復液にはＳ０２ガスを５００ ｍｅ１分／！の
割合で吹き込んで還元反応を行わせて亜砒酸の結晶７５
．２．９をｆ斗だ。得られた亜砒酸の純度は９９．７係
であった。
割合で吹き込んで還元反応を行わせて亜砒酸の結晶７５
．２．９をｆ斗だ。得られた亜砒酸の純度は９９．７係
であった。
１８７
Claims (4)
- （１）粗銅の電解精製に際して生成する電解液から丹ば
んを晶析した復液を拡散透析に付して透析後液を得、該
透析後液を用いて銅源を汐出処理し、得られる浸出漬液
に過酸化水素水溶液および硫化砒素を添加、混合し、生
成する硫化銅を分離、除去した後、該浸出漬液に亜硫酸
ガスを導入して膣液中の砒素を匝砒竣として晶出させる
ことを特徴とする亜砒酸の製造法。 - （２）拡散透析は陰イオン交換膜を用いて行なうもので
ある特許請求の範囲第（１）項記載の製造法。 - （３）浸出漬液のＰＨは１．０〜１．５である特許請求
の範囲第（１）項又は第（２）項記載の製造法。 - （４）硫化砒素は金離素鋼精鉱の製錬に際して生−形態
になしたＡＳ２ Ｓ、である特許請求の範囲第（１）項
、第（２）項又は第（３）項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4499983A JPS59169934A (ja) | 1983-03-17 | 1983-03-17 | 亜砒酸の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4499983A JPS59169934A (ja) | 1983-03-17 | 1983-03-17 | 亜砒酸の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59169934A true JPS59169934A (ja) | 1984-09-26 |
| JPS6247815B2 JPS6247815B2 (ja) | 1987-10-09 |
Family
ID=12707116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4499983A Granted JPS59169934A (ja) | 1983-03-17 | 1983-03-17 | 亜砒酸の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59169934A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449503A (en) * | 1993-04-08 | 1995-09-12 | Alliedsignal Inc. | Process for separating arsenic acid from an aqueous mixture comprising sulfuric and arsenic acids |
-
1983
- 1983-03-17 JP JP4499983A patent/JPS59169934A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449503A (en) * | 1993-04-08 | 1995-09-12 | Alliedsignal Inc. | Process for separating arsenic acid from an aqueous mixture comprising sulfuric and arsenic acids |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6247815B2 (ja) | 1987-10-09 |
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