JPS59182800A - サンドブラスト彫刻の被彫材保護法 - Google Patents
サンドブラスト彫刻の被彫材保護法Info
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- JPS59182800A JPS59182800A JP5511983A JP5511983A JPS59182800A JP S59182800 A JPS59182800 A JP S59182800A JP 5511983 A JP5511983 A JP 5511983A JP 5511983 A JP5511983 A JP 5511983A JP S59182800 A JPS59182800 A JP S59182800A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、サンドブラスト彫刻加工の工程中において、
被彫刻製品の表面が、感光性樹脂材料によって、化学変
化又は、物理変化（侵食）箸の変質を確実に防止するこ
とのできる保護法の創作に関するものでおる。
被彫刻製品の表面が、感光性樹脂材料によって、化学変
化又は、物理変化（侵食）箸の変質を確実に防止するこ
とのできる保護法の創作に関するものでおる。
近年の目覚しい技術革新によって産業の発展は著しく、
先端技術による競合開発によって優れたｌ「製品が次々
に市場へ送り出されている。
先端技術による競合開発によって優れたｌ「製品が次々
に市場へ送り出されている。
これに伴い、生活様式の多秤多ね化が急速に進み、製品
Ｌ・ても多種多様化がみられ、量産品と１１］作品グｊ
二極化に分別されていて、大ｊ［）尿仙］眉品はそれな
りの実用面を有してはいるが、各自の個性に合わせたグ
レードの高い製ｉ′ｉ０嗜考を求める順向が金工１、γ
に強まってきている。
Ｌ・ても多種多様化がみられ、量産品と１１］作品グｊ
二極化に分別されていて、大ｊ［）尿仙］眉品はそれな
りの実用面を有してはいるが、各自の個性に合わせたグ
レードの高い製ｉ′ｉ０嗜考を求める順向が金工１、γ
に強まってきている。
本発明（ｌ（：係るこの４十の一シーンドブン２、ドア
Ｊ（’を工技法も、年々同上し、巧緻で８’１４紺な図
イ内の製品〃へ豊富に出廻っていて人気が昂まシ、この
種の製品を求める購買層も、年毎に増加がみられるりＮ
況にある。
Ｊ（’を工技法も、年々同上し、巧緻で８’１４紺な図
イ内の製品〃へ豊富に出廻っていて人気が昂まシ、この
種の製品を求める購買層も、年毎に増加がみられるりＮ
況にある。
しかし反面では、感光性樹脂溶液が、各種材質の被彫刻
製品に着接した際に起きる現象として、品質低下に繋が
りかねない次の衣に見られるような、極めて悪影燵が起
生じている。
製品に着接した際に起きる現象として、品質低下に繋が
りかねない次の衣に見られるような、極めて悪影燵が起
生じている。
被彫刻製品材料 現 象
金 属 １． 金属表面のも食又は変色→品質低下
天然石１．同上
銘 不 、、 感光乳剤（Ｉ・竪九住側脂浴液）の
吸収による膨張、収縮が 発生すると共に、乳剤塗布 面が不均一になるなどで乳 剤使用不可 特殊ガラス ０． 表面平滑さに問題と、表面の化学変
化による影響が発 生する （レンズ、ミラー、クリスタル）１． 品質低下通常
ガラス ０．ミクロ的に表面組成変化が起きる、等。
吸収による膨張、収縮が 発生すると共に、乳剤塗布 面が不均一になるなどで乳 剤使用不可 特殊ガラス ０． 表面平滑さに問題と、表面の化学変
化による影響が発 生する （レンズ、ミラー、クリスタル）１． 品質低下通常
ガラス ０．ミクロ的に表面組成変化が起きる、等。
亦、このような感光性乳剤による直接的な弊害の他、サ
ンドブラスト加工後の水洗清浄による工程によっても侵
食や微摩耗等の影響が存している。
ンドブラスト加工後の水洗清浄による工程によっても侵
食や微摩耗等の影響が存している。
この様な事由に鑑み、本発明は従来技術によって起生し
得る斯る弊害を、−挙に解決することに成功した画期的
なサンドブラスト彫刻の被彫材保獲法の提供である。
得る斯る弊害を、−挙に解決することに成功した画期的
なサンドブラスト彫刻の被彫材保獲法の提供である。
以下一実施例を図面に基いて説明する。
第１図は本発明の形成層を、部分断面によって表した図
。第２図、第３図はミラーの良形シを例として表したも
のであるが、第２図は従来技法を表していて通常はガラ
ス１の片面へ、反射膜（鏡となる部分で、水銀、金属粉
、粘度、糊料、顔料等を塗布した膜）４へ、直接感光性
樹脂溶液２を塗ＳＬでいたため、どうしても凹凸；１・
ｉ４．ｊ４の多い反射膜晶面で（ｆよ、必然的に塗膜の
朽殆・性か弱ぼる結果となシ、従い湿気に対し変化し易
い入点が埃存していた。
。第２図、第３図はミラーの良形シを例として表したも
のであるが、第２図は従来技法を表していて通常はガラ
ス１の片面へ、反射膜（鏡となる部分で、水銀、金属粉
、粘度、糊料、顔料等を塗布した膜）４へ、直接感光性
樹脂溶液２を塗ＳＬでいたため、どうしても凹凸；１・
ｉ４．ｊ４の多い反射膜晶面で（ｆよ、必然的に塗膜の
朽殆・性か弱ぼる結果となシ、従い湿気に対し変化し易
い入点が埃存していた。
第３図に示す本発明−１、被形Ａｌ＋杓カラン（１の片
面へ反射膜４を塗布した後、非水浴性樹脂薄膜２を形成
せしめて、この膜面上に感光性樹脂溶液３を彼膜し柘成
したものであるため、装造後においても保護でさる利点
を有している。
面へ反射膜４を塗布した後、非水浴性樹脂薄膜２を形成
せしめて、この膜面上に感光性樹脂溶液３を彼膜し柘成
したものであるため、装造後においても保護でさる利点
を有している。
非水溶性樹脂薄膜２（は、塩化ビニール樹脂、ポリエチ
レン樹脂、スナレン樹脂毎−の組成物を用いて形成する
。
レン樹脂、スナレン樹脂毎−の組成物を用いて形成する
。
即ち、非水溶性樹脂薄膜２を被膜形波することによって
、塗膜面の密着性ｒ高めると共に、防水効果と平滑さを
生じせしめて作業性を向上させ、前記茨に記述した如き
各彫刻材の弊害を、確実に除去できるものである。又鞘
ポＪ ｊｉ ｍ＋ｉ描にあす１も被形材面を保護して、
感光溶解した後処理、並びにサンドブラスト加工後の水
性による侵食や、製品の変色などの品質低下をも防止す
る効果を有するものである。
、塗膜面の密着性ｒ高めると共に、防水効果と平滑さを
生じせしめて作業性を向上させ、前記茨に記述した如き
各彫刻材の弊害を、確実に除去できるものである。又鞘
ポＪ ｊｉ ｍ＋ｉ描にあす１も被形材面を保護して、
感光溶解した後処理、並びにサンドブラスト加工後の水
性による侵食や、製品の変色などの品質低下をも防止す
る効果を有するものである。
本発明はつ壕シ、被彫刻材の品質確保が得られる。
銘木の場合でも乳剤が均一となシ、レズスト膜の作用と
して働く。又感光乳剤と樹脂薄膜との密着性が高まり彫
刻精度が向上する。彫刻可能材料の種類が拡大する。乳
剤が直接被彫刻面５に着接しない為、化学的、物理的変
化などの影響を受けない。大がかりな設備を全く必要と
しない等、本発明は極めて貢献度の高い有意義な効果を
萎するものである。
して働く。又感光乳剤と樹脂薄膜との密着性が高まり彫
刻精度が向上する。彫刻可能材料の種類が拡大する。乳
剤が直接被彫刻面５に着接しない為、化学的、物理的変
化などの影響を受けない。大がかりな設備を全く必要と
しない等、本発明は極めて貢献度の高い有意義な効果を
萎するものである。
図面はいずれも部分断面を示し、第１図は本発明の形成
層を表す。第２図、第３図は一実施例としてミラーの裏
彫シの場合を表し、第２図は従来の被膜形成層。第３図
は本発明の被膜形成層を表す。 ｌ−被彫刻材、２−非水溶性樹脂膜、３−感光性樹脂膜
、４−反射膜、５−エツチング面。 特許出願人 藤工業株式会社 代表取締役 加藤升三部
層を表す。第２図、第３図は一実施例としてミラーの裏
彫シの場合を表し、第２図は従来の被膜形成層。第３図
は本発明の被膜形成層を表す。 ｌ−被彫刻材、２−非水溶性樹脂膜、３−感光性樹脂膜
、４−反射膜、５−エツチング面。 特許出願人 藤工業株式会社 代表取締役 加藤升三部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 感光性樹脂材料を被膜したサンドブラスト彫刻加工にお
いて、 予め被彫刻材の表面にサンドブラスト彫刻に対し抵抗膜
とならない適宜な厚みの非水性樹脂の薄膜を被膜せしめ
て成し、該非水性樹脂膜上に感光性樹脂層を塗布構成し
て、加工彫製することを特徴とするサンドブラスト彫刻
の被彫材保護法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5511983A JPS59182800A (ja) | 1983-04-01 | 1983-04-01 | サンドブラスト彫刻の被彫材保護法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5511983A JPS59182800A (ja) | 1983-04-01 | 1983-04-01 | サンドブラスト彫刻の被彫材保護法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59182800A true JPS59182800A (ja) | 1984-10-17 |
Family
ID=12989861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5511983A Pending JPS59182800A (ja) | 1983-04-01 | 1983-04-01 | サンドブラスト彫刻の被彫材保護法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59182800A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5652282A (en) * | 1995-09-29 | 1997-07-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid inks using a gel organosol |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5595589A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-19 | Sangou Toki Kk | Transfer-copying paper of simultaneously copying sand-blast protection film and pattern |
| JPS55104000A (en) * | 1979-02-01 | 1980-08-08 | Sumitomo Chemical Co | Method of forming pattern by etching |
-
1983
- 1983-04-01 JP JP5511983A patent/JPS59182800A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5595589A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-19 | Sangou Toki Kk | Transfer-copying paper of simultaneously copying sand-blast protection film and pattern |
| JPS55104000A (en) * | 1979-02-01 | 1980-08-08 | Sumitomo Chemical Co | Method of forming pattern by etching |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5652282A (en) * | 1995-09-29 | 1997-07-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid inks using a gel organosol |
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