JPS59194199A - 温水槽式気化装置 - Google Patents
温水槽式気化装置Info
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- JPS59194199A JPS59194199A JP58065671A JP6567183A JPS59194199A JP S59194199 A JPS59194199 A JP S59194199A JP 58065671 A JP58065671 A JP 58065671A JP 6567183 A JP6567183 A JP 6567183A JP S59194199 A JPS59194199 A JP S59194199A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
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- F17C7/02—Discharging liquefied gases
- F17C7/04—Discharging liquefied gases with change of state, e.g. vaporisation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
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- F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
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- F17C2205/0323—Valves
-
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-
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、温水槽内の加熱管に液化アンモニア等を通し
てこれを蒸発過熱する温水槽式気化装置に関する。
てこれを蒸発過熱する温水槽式気化装置に関する。
一般に、温水槽式気化装置は、温水槽内に螺旋状に加熱
管を配置し、この加熱管内に液化アンモニア等の液体を
通すことにより当該液体を間接的に加熱し、これを蒸発
せしめるようになっている。
管を配置し、この加熱管内に液化アンモニア等の液体を
通すことにより当該液体を間接的に加熱し、これを蒸発
せしめるようになっている。
このような温水槽式気化装置を図に基づいて説明する。
第１図は従来の温水槽式気化装置の概略構成図である。
図で、１は温水槽、２は液化アンモニアを供給する供給
管、３は温水槽１内に螺旋状になって配置された加熱管
、３ａは加熱管３のうちの下部加熱管、３ｂは上部加熱
管、４は加熱管３内のアンモニア蒸気を補集するヘッダ
、５は温水槽１内の温水である。加熱管３とヘッダ４は
温水５により加熱されてその内部を通る液化アンモニア
全気化する。図示されていないが、加熱管３の中途の任
意部分とヘッダ４とを接続管で接続し、中途から気化し
たアンモニア蒸気の一部をとり出すようにすることもで
きる。６は温水を加熱する蒸気供給管、７は蒸気供給管
へ蒸気を供給する蒸気配管、８は蒸気配管７の中途に設
けられてｆ気供給（ｙ ６への蒸気の導通、遮断全制御
するＢｉ制御弁である。
管、３は温水槽１内に螺旋状になって配置された加熱管
、３ａは加熱管３のうちの下部加熱管、３ｂは上部加熱
管、４は加熱管３内のアンモニア蒸気を補集するヘッダ
、５は温水槽１内の温水である。加熱管３とヘッダ４は
温水５により加熱されてその内部を通る液化アンモニア
全気化する。図示されていないが、加熱管３の中途の任
意部分とヘッダ４とを接続管で接続し、中途から気化し
たアンモニア蒸気の一部をとり出すようにすることもで
きる。６は温水を加熱する蒸気供給管、７は蒸気供給管
へ蒸気を供給する蒸気配管、８は蒸気配管７の中途に設
けられてｆ気供給（ｙ ６への蒸気の導通、遮断全制御
するＢｉ制御弁である。
９は湿水槽１内に設置されて温水５の温度τ測定する温
度計、１０は測定された温度とある値に設定された設定
温度とｔ比較し、４１１１定された温度が設定温度を超
えると制御弁８を閉じ、設定温度以下になると制御弁８
ヶ開く温度コントローラである。
度計、１０は測定された温度とある値に設定された設定
温度とｔ比較し、４１１１定された温度が設定温度を超
えると制御弁８を閉じ、設定温度以下になると制御弁８
ヶ開く温度コントローラである。
なお、１１は温水５が温水槽１から溢れ出ないようにす
る溢流官、１２はヘッダ４に接続されたアンモニアガス
出口配管である。
る溢流官、１２はヘッダ４に接続されたアンモニアガス
出口配管である。
液化アンモニアは供給管２から加熱管３の下部に供給さ
れ、次いで螺旋状の加熱管３を下部加熱管３ａから上部
加熱管３ｂへと上昇してゆく。この上昇してゆく過程に
おいて、液化アンモニアは温水５により間接的に加熱さ
れて気化し、アンモニアガスとなってヘッダ４全紅て出
口配管１２から取出される。取出されたアンモニアガス
は例えば脱硝装置等に使用される。一方、温水５の温度
は常時温度計９により測定され、温度コントローラによ
り制御弁８の開閉が制御され、温水５は所定の温度を維
持することになる。
れ、次いで螺旋状の加熱管３を下部加熱管３ａから上部
加熱管３ｂへと上昇してゆく。この上昇してゆく過程に
おいて、液化アンモニアは温水５により間接的に加熱さ
れて気化し、アンモニアガスとなってヘッダ４全紅て出
口配管１２から取出される。取出されたアンモニアガス
は例えば脱硝装置等に使用される。一方、温水５の温度
は常時温度計９により測定され、温度コントローラによ
り制御弁８の開閉が制御され、温水５は所定の温度を維
持することになる。
ところで、このような従来の温水槽式気化装置にあって
は、温度計９を温水槽１の中央部に設置しているため、
次のような現象が発生していた。
は、温度計９を温水槽１の中央部に設置しているため、
次のような現象が発生していた。
即ち、液化アンモニアが供給管２から加熱管３に供給さ
れると、液化アンモニアは温水５から熱を吸収するので
下部加熱管３ａの近傍の温水５の温度が低下する。しか
しながら、温度計９の近傍の温水５の温度は低下しない
ので、温度コントローラ１０は作動せず、制御弁８は閉
じた状態に維持されている。温水５の冷却ゾーンが徐々
に上昇してゆき、温度計９に達したとき、温度コントロ
ーラ１０が作動して制御弁８會開（。このため、蒸気配
管７からの蒸気は蒸気供給管６に供給されてここから図
の矢印に示すように温水槽１内に噴出せしめられる。蒸
気の噴出により、温水５が攪拌されて温水＠１の下部の
冷水と温水槽１の上部の温水とが混合し、温水槽１内の
温水５の平均温度は低下し、制御弁８は開の状態に維持
されたままである。蒸気供給管６からの蒸気の流入が続
くと温水５の温度は上昇し、設定温度以下えると温度コ
ントローラ１０が作動して制御弁８を閉じる。この状態
で供給管２から液化アンモニアが供給され続けると再び
下部加熱管３ａの近傍から冷却がはじまる。このような
動作の繰返しにより、制御弁８にはハンチングが発生す
る。
れると、液化アンモニアは温水５から熱を吸収するので
下部加熱管３ａの近傍の温水５の温度が低下する。しか
しながら、温度計９の近傍の温水５の温度は低下しない
ので、温度コントローラ１０は作動せず、制御弁８は閉
じた状態に維持されている。温水５の冷却ゾーンが徐々
に上昇してゆき、温度計９に達したとき、温度コントロ
ーラ１０が作動して制御弁８會開（。このため、蒸気配
管７からの蒸気は蒸気供給管６に供給されてここから図
の矢印に示すように温水槽１内に噴出せしめられる。蒸
気の噴出により、温水５が攪拌されて温水＠１の下部の
冷水と温水槽１の上部の温水とが混合し、温水槽１内の
温水５の平均温度は低下し、制御弁８は開の状態に維持
されたままである。蒸気供給管６からの蒸気の流入が続
くと温水５の温度は上昇し、設定温度以下えると温度コ
ントローラ１０が作動して制御弁８を閉じる。この状態
で供給管２から液化アンモニアが供給され続けると再び
下部加熱管３ａの近傍から冷却がはじまる。このような
動作の繰返しにより、制御弁８にはハンチングが発生す
る。
上記の動作から明らかなように、温水５の温度は一定せ
ず、絶えず変動しているため、出口配管１２からのアン
モニアガスの出口温度にはバラツキを生じる。したがっ
て、このアンモニアガスｌｉｌいる装置においては、適
正な制御ケ行なうことが困難になる。又、上記動作にお
いては、温水５の温度の幅が大きく、余分な加熱が行な
われているので、これに応じて蒸気供給管６から噴出さ
れる蒸気を余分に消費する。さらに、制御弁８は、冷却
ゾーンが温度計９の設ｉｆｔ、 ｎｉｌ所に到達してか
ら蒸気の攪拌による温水５の平均温度が設定温度を超え
る筺での間開いているが、この時間が可成り長くなるの
で、蒸気配管７の供給圧力が低下し、この蒸気配管７に
接続されている他系統の制御が極めて困難になる。
ず、絶えず変動しているため、出口配管１２からのアン
モニアガスの出口温度にはバラツキを生じる。したがっ
て、このアンモニアガスｌｉｌいる装置においては、適
正な制御ケ行なうことが困難になる。又、上記動作にお
いては、温水５の温度の幅が大きく、余分な加熱が行な
われているので、これに応じて蒸気供給管６から噴出さ
れる蒸気を余分に消費する。さらに、制御弁８は、冷却
ゾーンが温度計９の設ｉｆｔ、 ｎｉｌ所に到達してか
ら蒸気の攪拌による温水５の平均温度が設定温度を超え
る筺での間開いているが、この時間が可成り長くなるの
で、蒸気配管７の供給圧力が低下し、この蒸気配管７に
接続されている他系統の制御が極めて困難になる。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり
、その目的は、前記ハンチング現象を防止し、被加熱流
体のガスの出口温度をほぼ一定にすることができ、又、
温水を加熱する加熱媒体を供給する管に接続された他系
統への悪影響全防止することができ、さらに加熱媒体の
消費量を減少することができる温水槽式気化装置を提供
するにある。
、その目的は、前記ハンチング現象を防止し、被加熱流
体のガスの出口温度をほぼ一定にすることができ、又、
温水を加熱する加熱媒体を供給する管に接続された他系
統への悪影響全防止することができ、さらに加熱媒体の
消費量を減少することができる温水槽式気化装置を提供
するにある。
この目的全達成するため、本発明は、温水槽内の温水の
温度を検出して加熱媒体の導通、遮断全行なう制御弁を
制御する温度検出装置を温水槽の下部に設置したことを
特徴とする。
温度を検出して加熱媒体の導通、遮断全行なう制御弁を
制御する温度検出装置を温水槽の下部に設置したことを
特徴とする。
以下、本発明を図示の各実施例について説明する。
第２図は本発明の第１の実施例に係る温水槽式気化装置
の下部の概略構成図である。図で、第１図に示す部材と
同一部材には同一符号が付してある。従来の気化装置で
は、第１図に示すように、温度計９は温水槽１の中央部
に設置されていた。
の下部の概略構成図である。図で、第１図に示す部材と
同一部材には同一符号が付してある。従来の気化装置で
は、第１図に示すように、温度計９は温水槽１の中央部
に設置されていた。
これに対して、本実施例においては、温度計９は下部加
熱管３ａの下部で、かつ、この下部加熱管３ａに接近し
た位置に設置されている。
熱管３ａの下部で、かつ、この下部加熱管３ａに接近し
た位置に設置されている。
液化アンモニアが供給管２から加熱管３の下部に供給さ
れろと、液化アンモニアは下部加熱管３ａ近傍の温水５
から熱を吸収する。このため、その部分の温水５の温度
は降下する。本実施例では、温度ｉ′ｔ９が下部加熱管
３ａの下側に接近して設置されているので、温水５の上
記温度降下は温度計９により直ちに検出され、温度コン
トローラ１０を経て制御弁８を開き蒸気供給管６から蒸
気τ噴出させ温水５の温度を上昇させる。下部の温水５
の温度が設定値を超えると制御弁８は閉じる。
れろと、液化アンモニアは下部加熱管３ａ近傍の温水５
から熱を吸収する。このため、その部分の温水５の温度
は降下する。本実施例では、温度ｉ′ｔ９が下部加熱管
３ａの下側に接近して設置されているので、温水５の上
記温度降下は温度計９により直ちに検出され、温度コン
トローラ１０を経て制御弁８を開き蒸気供給管６から蒸
気τ噴出させ温水５の温度を上昇させる。下部の温水５
の温度が設定値を超えると制御弁８は閉じる。
このように、本実施例では、温度針を下部加熱管の下側
に、これに接近させて設置して、その部分の温水の温度
を速かに検出し、これに応じて制御弁を開閉するように
したので、制御弁の前記ハンチング現象が発生すること
はなく、アンモニアガスの出口温度をほぼ一定にするこ
とができ、又、制御弁の開放時間が短くなり蒸気配管に
接続された他系統への悪影響は防止され、さらに、余分
な加熱が行なわれないので、蒸気の消費流量を減少する
ことができる。
に、これに接近させて設置して、その部分の温水の温度
を速かに検出し、これに応じて制御弁を開閉するように
したので、制御弁の前記ハンチング現象が発生すること
はなく、アンモニアガスの出口温度をほぼ一定にするこ
とができ、又、制御弁の開放時間が短くなり蒸気配管に
接続された他系統への悪影響は防止され、さらに、余分
な加熱が行なわれないので、蒸気の消費流量を減少する
ことができる。
第３図および第４図はそれぞれ本発明の第２および第３
の実施例に係る温水槽式気化装置の下部の概略構成図で
ある。各図で、第１図および第２図に示す部材と同一部
材には同一符号が付しである。第３図に示す実施例にお
いては、温度計９は最下段の下部加熱管３ａとその上段
に配置されている下部加熱管３ａとの間に挿入されると
ともに、温度計９の先端が内側の下部加熱管３ａと外側
の下部加熱管３ａとの間にあるように設置されている。
の実施例に係る温水槽式気化装置の下部の概略構成図で
ある。各図で、第１図および第２図に示す部材と同一部
材には同一符号が付しである。第３図に示す実施例にお
いては、温度計９は最下段の下部加熱管３ａとその上段
に配置されている下部加熱管３ａとの間に挿入されると
ともに、温度計９の先端が内側の下部加熱管３ａと外側
の下部加熱管３ａとの間にあるように設置されている。
一方、第４図に示す実施例においては、温度計９は最下
段の下部加熱管３ａとその上段に配置されている下部加
熱管３ａとの間に挿入されるとともに、温度計９の先端
が内側の下部加熱管３ａよりもさらに内側に入るように
設置されている。
段の下部加熱管３ａとその上段に配置されている下部加
熱管３ａとの間に挿入されるとともに、温度計９の先端
が内側の下部加熱管３ａよりもさらに内側に入るように
設置されている。
いずれの実施例においても、温度計が下部加熱管に接近
して配置されているので、第２図に示す実施例と同じ効
果を奏するものである。
して配置されているので、第２図に示す実施例と同じ効
果を奏するものである。
なお、上記各実施例においては、液化アンモニアを例示
して説明したが、液化アンモニアに限らず、他の流体に
対しても適用可能である。
して説明したが、液化アンモニアに限らず、他の流体に
対しても適用可能である。
以上述べたように、本発明では、温水槽内の温水の温度
を検出して加熱媒体の導通、遮断を行なう制御弁を制御
する温度検出装置紫温水惜の下部に設置したので、制御
弁のハンチング現象が発生することはなく、被加熱流体
の蒸気の出口温度合はぼ一定にすることができ、又、温
水會加熱する加熱媒体を供給する管に接続された他系統
への悪影響を防止することができ、さらに、前記加熱媒
体の消費量ケ減少することもできる。
を検出して加熱媒体の導通、遮断を行なう制御弁を制御
する温度検出装置紫温水惜の下部に設置したので、制御
弁のハンチング現象が発生することはなく、被加熱流体
の蒸気の出口温度合はぼ一定にすることができ、又、温
水會加熱する加熱媒体を供給する管に接続された他系統
への悪影響を防止することができ、さらに、前記加熱媒
体の消費量ケ減少することもできる。
第１図は従来の温水槽式気化装置の概略構成図、第２図
、第３図および第４図はそれぞれ本発明の第１．第２お
よび第３の実施例に係る温水槽式気化装置の下部の概略
構成図である。 １・・・・・・温水槽、２・・・・・・供給管、３・・
・・・・加熱管、３ａ・・・・・・下部加熱管、４・・
曲ヘッダ、５・・・・・・温水、６・・・・・・蒸気供
給管、７・・・・・・蒸気配管、８・・開制御弁、９・
・・・・・温度計、１０・・・・・・温度コントローラ
、１２・・・・・・出口配管。
、第３図および第４図はそれぞれ本発明の第１．第２お
よび第３の実施例に係る温水槽式気化装置の下部の概略
構成図である。 １・・・・・・温水槽、２・・・・・・供給管、３・・
・・・・加熱管、３ａ・・・・・・下部加熱管、４・・
曲ヘッダ、５・・・・・・温水、６・・・・・・蒸気供
給管、７・・・・・・蒸気配管、８・・開制御弁、９・
・・・・・温度計、１０・・・・・・温度コントローラ
、１２・・・・・・出口配管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、温水槽と、この温水槽内に配置されて被加熱流体を
気化する加熱管と、前記１品水槽内の温水を加熱する加
熱部と、この加熱部への加熱媒体の流入音制御する制御
弁とを備えた温水槽式気化装置において、前記温水槽の
下部に温水の温度を検出して前記制御弁を副側ｊする温
度検出表置を設置誰したことｔ％徴とする温水槽式気化
装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記温度検出装置
の設置個所は、前記加熱部の最下端の下側でこの最下端
に近接した個所であることケ特徴とする温水槽式気化装
置。 ３、％許珀求の範囲第１項において、前記温度検…ｉｔ
の設置ｋ１ｉ、Ｗ所は、前記加熱管のうちの下部の加熱
管の隣接する管体間であること’に％徴とする温水槽式
気化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58065671A JPS59194199A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 温水槽式気化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58065671A JPS59194199A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 温水槽式気化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59194199A true JPS59194199A (ja) | 1984-11-02 |
Family
ID=13293689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58065671A Pending JPS59194199A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 温水槽式気化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59194199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2026014515A1 (ja) * | 2024-07-12 | 2026-01-15 | 株式会社Ihi | 気体アンモニア製造システム及び気体アンモニア製造方法 |
-
1983
- 1983-04-15 JP JP58065671A patent/JPS59194199A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2026014515A1 (ja) * | 2024-07-12 | 2026-01-15 | 株式会社Ihi | 気体アンモニア製造システム及び気体アンモニア製造方法 |
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