JPS59213603A - Manufacture of thin film of composite material - Google Patents

Manufacture of thin film of composite material

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JPS59213603A
JPS59213603A JP8479383A JP8479383A JPS59213603A JP S59213603 A JPS59213603 A JP S59213603A JP 8479383 A JP8479383 A JP 8479383A JP 8479383 A JP8479383 A JP 8479383A JP S59213603 A JPS59213603 A JP S59213603A
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JP
Japan
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metal
gold
metallic
thin film
solution
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Application number
JP8479383A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Nanao
勉 七尾
Tamiyuki Eguchi
江口 民行
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS59213603A publication Critical patent/JPS59213603A/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216Metal oxides

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Abstract

PURPOSE:To obtain a thin film used for an electronic material with a low-temp. heat treatment by coating a composite metallic soln. of metallic akoxides and a metallic chelate on a substrate, and submitting to heat decomposition. CONSTITUTION:The >=1 kind among metallic chelates such as ketones is dissolved in >=1 kind among metallic alkoxides or its polymers. The composite metallic soln. is coated on a substrate, heated and decomposed by using a muffle furnace etc., and annealed to form a uniform transparent thin film. The thickness of the thin film to be formed is regulated in accordance with the content of metallic constituents, viscosity, and the amt. of coating etc. of the metallic soln. The thin film of the composite material obtained with this method is provided with the excellent electromagnetic, optical, and mechanical functions.

Description

【発明の詳細な説明】 共辿溶媒に溶解させたのち、これを熱分解させる複合峻
化物薄膜の製法に関づーる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to a method for producing a thin film of a composite agglomerate, which is dissolved in a co-trapping solvent and then thermally decomposed.

金属化合物薄膜、とくに2種以上の金属か酸化物や窒化
物などの形で存在する均一なIII Ij:2のft肋
は、孔磁気的、光学的、様b”:、的にすぐれた材能を
備え、とくに電子林料用途として現社盛んにこれらの弘
j膜の研究開発が進められでいる。
Metal compound thin films, especially uniform IIIIj:2 ft ribs of two or more metals present in the form of oxides, nitrides, etc., are excellent materials for pore magnetic, optical, etc. The company is actively researching and developing these membranes, especially for use as electronic forestry materials.

また、薄膜化技術は電子産業の基盤となっているKt要
な技術であり、主としてl1窒技術を用いて種々の薄膜
かつくられている。
In addition, thin film technology is a key technology that is the basis of the electronic industry, and various thin films are manufactured mainly using l1 nitride technology.

複合酸化物薄膜も光関連デバイス、記憶材料、圧電材料
、センサなとに幅広い用途が期待きれており、一部実用
化もなされている。しかじ臭突技術を用いた薄膜方法は
、設備コストがh〈なる、ユーティリティが高くなる、
大面積化が内押である、高融点の酸化物は製膜が困難で
ある、結晶性および化学岱゛論性のよい膜かえられにく
い、生産性が低いなどの短所があるため、応用分野に制
限があるのが現状である。
Composite oxide thin films are also expected to have a wide range of applications, including optical-related devices, memory materials, piezoelectric materials, and sensors, and some have even been put into practical use. The thin film method using the Shikaji Otsuchi technology has the following problems:
Application fields have disadvantages such as internal pressure is required to increase the area, it is difficult to form films with high melting point oxides, it is difficult to change films with good crystallinity and chemistries, and productivity is low. Currently, there are restrictions on.

これに対して金属アルコキシドを用いて酸化物薄jl)
17.iを形成する方法が注目されてきている。
On the other hand, using metal alkoxide, oxide thin jl)
17. The method of forming i has been attracting attention.

この方法は金属アルコキシドの加水分解性を利用するも
のであって、県仮に金属アルコキシドの溶液をゆ右後望
気中の水分で加水分m゛させたのち孤(処理することに
より、無様酸化物研膜が容易にえられる。この方法には
簡単でしかも安価な設(iN:で充分である、大面積化
が容易である、生産性かとiくコストか安い、均質で化
学rホ論性のよいR舘がえられるなどという真空技術を
用いるん脱化法にない長所があり、たとえばテトラエチ
ルシリケートおよびこれの部分加水分解物を用いる絶1
)k IIs”、アルカリ浸透防止膜、反射防止11Q
 ;テトライソプロピルチタネートおよびこの多量体を
用い熱線反射膜、光学フィルター、有機物との接着促進
用下地膜などに応用されでいる。
This method takes advantage of the hydrolyzability of metal alkoxides, and involves first hydrolyzing a solution of metal alkoxides with water in the air after washing, and then treating the metal alkoxide solution with water to form an amorphous oxide. An abrasive film can be easily obtained.This method requires simple and inexpensive equipment (iN: is sufficient, it is easy to scale up a large area, productivity is low and cost is low, and it is homogeneous and has chemical properties. It has an advantage over deoxidation methods that use vacuum technology, such as the ability to obtain a high-quality R-container.
)k IIs”, alkaline penetration prevention film, anti-reflection 11Q
Tetraisopropyl titanate and its polymers have been applied to heat ray reflective films, optical filters, base films for promoting adhesion with organic substances, etc.

しかしながら、複合金属酸化物薄膜はっぎの理由から実
用化されるに至っていない。
However, composite metal oxide thin films have not yet been put into practical use due to problems.

2種以上の金属を含む符合酸化物nJJ、 If<rを
うるため、2種以上の金属アルコキシドを解合した系を
調製するか、または複合金属アルコキシドを合成しそれ
らを分解して目的の複合酸化物熱形)を直接えようとす
る試みが進められている。
In order to obtain a complex oxide nJJ containing two or more metals, If<r, one must prepare a system in which two or more metal alkoxides are combined, or synthesize a composite metal alkoxide and decompose it to obtain the desired composite. Efforts are underway to directly obtain the oxide thermal form).

しかしながらそれらの方法ζこはっぎのような欠点があ
る。すなわち、金属アルコキシドは元素ごとおよびアル
コキシ基の8類によって加水分解性が著るしく異なって
89、したかって2利1以上の金属アルコキシドの混合
系は不安定であって、均一な組成にならないはあいがあ
る。また複合金属アルコキシドは合成峙の収量がわるく
、かつ単離が難かしく、アルカリ、ハロゲンなどの悪影
響を及ぼす不純物を多く含んでいるばあいが多い。とく
に金属がニッケル、銅、コバルト、亜鉛などの遷移金属
であるはあい、それらのづ’、: IQ、’Hアルコキ
シドは有機溶媒に不溶のものが多く、そのため共通溶媒
とした系では加水分解ができす、均一な薄膜かえられな
い。このように金属アルコキシドのろを用いる方法では
符合酸化物をつくるrrJ合ぜに[18度があり、自由
度が少ない。しかし、こうした欠点を解決して金E(ア
ルコキシドを利用した種々のネV合酸化物′7”:jj
腔の製造が可fiにになれば、複合酸化物の新しい用途
ね能か見出されることは明らかである。
However, these methods have some drawbacks. In other words, the hydrolyzability of metal alkoxides differs markedly depending on the element and type 8 of the alkoxy group89. Therefore, a mixed system of metal alkoxides with a ratio of 2 and 1 or more is unstable and does not have a uniform composition. There is love. Furthermore, composite metal alkoxides have poor yields during synthesis, are difficult to isolate, and often contain a large amount of impurities such as alkalis and halogens that have adverse effects. Especially when the metal is a transition metal such as nickel, copper, cobalt, or zinc, many of these alkoxides are insoluble in organic solvents, so hydrolysis is difficult in systems using common solvents. However, it is not possible to change the uniform thin film. In this way, in the method of using a metal alkoxide, there is a [18 degree] in the rrJ combination that creates the code oxide, and there is little freedom. However, these drawbacks can be overcome by various NeV composite oxides using gold E (alkoxide): jj
It is clear that new uses for complex oxides will be found once cavities can be fabricated.

本発明表ら(才i!、 @ p!y・化物F、I II
がの製i負方法(ごついて鋳意iす゛・肘を重ねた結果
、金1.【アルコキシドと今加・、キレ−1・化合物が
溶解してなる溶液系を用いるさきは、仇;の有様金属系
には見られないすぐれたンJjjII’;形成効果か奏
されることを見出し、木づjjj明に到バした。
This invention is presented (Sai!, @ p!y, Monster F, I II
However, as a result of repeated efforts, it was found that using a solution system in which a metal alkoxide and a chemical compound were dissolved, He discovered that it has an excellent formation effect not found in other metals, and reached the conclusion of his research.

β−ジケ1〜ンなとのカルボニル基を2個以上有するケ
トン類は殆んどの金属と安定な錯体をつくることが知ら
れており、その錯体の昇華性を利用して金属の打!製、
種々の割1奴として工業的に、分析化学lこおいての金
属の抽出分離操作に用いられている。
Ketones having two or more carbonyl groups, such as β-dikene, are known to form stable complexes with most metals. Made by
Industrially, it is used for various extraction and separation operations of metals in analytical chemistry.

本発明は、金属キレート化合物が全作アルコキシドと共
通の溶媒が多数存在することに石目してなされたもので
あって、金属アルコキシドとの複合金属溶液とするとき
は、有様雷奴に火1溶性である金属キレート化合物でも
金属アルコキシドの共存下で溶m′性がFf1段に向」
ニし、また一般(こ金属キレート化合物は昇ゲIM装置
のものが多いため焼成処理を施すと目的とする酸化物の
収fYYが低下するばあいが多いが、金属アルコキシド
の共存下では昇華性が著しく低減されてきわめて高い収
量かえられ、さらに従来よりも低温の熱処理で複合酸化
物のA?膜が容易に得られるという驚ろくべき事実に基
づいてなされたものである。
The present invention was made in recognition of the fact that there are many common solvents in metal chelate compounds and alkoxides. Even for metal chelate compounds that are soluble in Ff1, their solubility tends to be Ff1 in the coexistence of metal alkoxides.
Furthermore, in general (many of these metal chelate compounds are used in sublimation IM equipment, the yield of the target oxide often decreases when subjected to firing treatment, but in the coexistence of metal alkoxides, sublimation This is based on the surprising fact that A? film of composite oxide can be easily obtained by heat treatment at a lower temperature than before.

この現象の詳細な解明はまたなされていないが、金属ア
ルコキシドおよび金属キレート化合物はいずれも反応性
を有しており、棧々の錯化合物をつくることから、この
両者を溶妨中に共存させるとそれぞれが別々に溶TI’
(するのではなく、何らかの11位もしくは錯形成反応
が起り、当初のものとは別の化合物となり、それによっ
て金1バー1ケトン錯体の溶解性が向上し、また熱処理
時に金1.+i4キレ−1・化合物のもつ昇華性が低減
されているものと考えられる。
Although a detailed explanation of this phenomenon has not been made, metal alkoxides and metal chelate compounds both have reactivity and form complex compounds, so if they are allowed to coexist in a dissolution medium, each separately dissolved TI'
(Instead, some 11-position or complex formation reaction occurs, resulting in a different compound than the initial one, which improves the solubility of the gold 1 bar 1 ketone complex and also improves the solubility of the gold 1 bar 1 ketone complex during heat treatment.) 1. It is thought that the sublimation property of the compound is reduced.

本発明に用いられる金属アルコキシドは、全屈ケトン多
i′′体と共に溶液を形成可能なものであればとくに制
限されず、たとえば一般式%式%) 単−矛11成の金L−::アルコキシド、衿合金属アル
コキシド、部分金17+;アルコキシド、またはそれら
の金庭、アルコキシドの多−h−:体などがあげられる
The metal alkoxide used in the present invention is not particularly limited as long as it can form a solution together with the total ketone polyisomer, for example, gold L- of the general formula %): Examples include alkoxides, metal alkoxides, partial gold 17+; alkoxides, metal oxides thereof, and poly-h-: alkoxides.

なお、前記一般式(こおいて MlおよびM2は同じか
また+、i、 )l、′!r;、る金JrE原子であっ
て、たとえはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジ
ウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、チタン、シルコニr’
11b、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ニ
ッケル、コバルト、銅、亜鉛、カドミウム、水銀、硼素
、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、シ
リコン、ゲルマニウム、s、鉛、ヒ素、アンチモン、ビ
スマス、セレン、テルル、ランタノイド系の金属などが
あげられる。
In addition, in the general formula (where Ml and M2 are the same or +, i, )l,'! r; Gold JrE atoms, such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, titanium, silconium r'
11b, hafnium, vanadium, niobium, tantalum,
Chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, nickel, cobalt, copper, zinc, cadmium, mercury, boron, aluminum, gallium, indium, thallium, silicon, germanium, s, lead, arsenic, antimony, bismuth, selenium, tellurium, Examples include lanthanoid metals.

B1、R2およびRは同じかまたは異なる有機官能基で
あり、好ましくは炭諮斂1〜20個とくに好ましくは1
〜8個のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アラ
ルキル基またはそれらのヒドロキシル置換体やハロゲン
置換体である。nは金属Mの価数、mはn X mが含
まれる金kP、の価数の総和になるような正の整数、a
はnを下回わる正の整数を表わす。
B1, R2 and R are the same or different organic functional groups, preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1
~8 alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, aralkyl groups, or hydroxyl-substituted or halogen-substituted products thereof. n is the valence of metal M, m is a positive integer that is the sum of the valences of gold kP, which includes n x m, a
represents a positive integer less than n.

Xはハロゲン原子、酸素IjK子、チッ素1夏子または
炭素数1〜20個の有接カルボン「(−9、ジケトンな
どの有機官#基の残基である。
X is a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a carbon atom having 1 to 20 carbon atoms (-9, a residue of an organic functional group such as a diketone);

前記金属M1のうちアルコキシドの合成が簡jpで安定
なものとしては、たとえばアルミニウム、ガリウム、イ
ツトリウム、インジウム、シリコン、チタン、ゲルマニ
ウム、ジルコニウム、錫、バナジウム、ニオブ、アンチ
モン、タンタル、ビスマス、クロム、モリブデン、タン
グステン、マンガン、4・、1:すどかあげられ、それ
らのうちと〈(こ鉄、チタン、ジルコニウム、シリコン
、アルミニウムが有用で゛ある。
Among the metals M1, alkoxides that are easy to synthesize and are stable include, for example, aluminum, gallium, yttrium, indium, silicon, titanium, germanium, zirconium, tin, vanadium, niobium, antimony, tantalum, bismuth, chromium, and molybdenum. , tungsten, manganese, 4., 1: among them, iron, titanium, zirconium, silicon, and aluminum are useful.

金11・j、 Mとアルコキシドを形成する化合物とし
ては一犀y式HOR(Rは前記R1、R2またはRと目
じりで示されるアルコール性水酸基を有する1価または
多価アルコールであればよい。好ましいp信・例として
(:I、たきえはメチルアルコール、エチルアルコール
、n−7’ロピルアルコール、イソプロピルアルコール
、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペン
チルアルコール、ヘキシルアルコール、2−エチルヘキ
シルアルコール、オクチルアルコール、t−ブチルアル
コール、ラウリルアルコール、1.4−フタンジオール
、グリセリン、エチレングリコール、オクチルアルコー
ル、エチレングリコールのモノアルギルコニ−チル 本発明に用いられうる金属アルコキシドの具体例として
は、前記のほかディ・シー・ブラッドレイ(D. O,
 BracL]−eyノら、メタル・アルコ牛サイズ(
 Metal Alkoxides)、1978年、ア
カデミツク・プレス(Academic Presり社
に記1′9されているものも使用できる。
The compound that forms an alkoxide with gold 11. As an example (:I, Takie is methyl alcohol, ethyl alcohol, n-7' propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, pentyl alcohol, hexyl alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, octyl alcohol , t-butyl alcohol, lauryl alcohol, 1,4-phthanediol, glycerin, ethylene glycol, octyl alcohol, monoargylconyl of ethylene glycol. Specific examples of metal alkoxides that can be used in the present invention include D.C. Bradley (D.O.
BracL]-eyno et al., Metal Arco Beef Size (
Metal Alkoxides, 1978, Academic Press, Inc. 1'9 may also be used.

才だ本発明に用いる金がアルコキシド(」適度の加水分
解性と安定性を有しているものが好まI−い。萌常それ
らの性質は尺応さぜる金属およO・アルコールの沖六゛
1によって決まり、−痩パに金rr=アルコキシドは用
いるアルコールの炭゛苓数が大きくなる程、加水分角Y
速度が近く、また金属としてアルカリ金Klたはアルカ
リ土類金9iを用いるときは加水分FN 速11fか速
くする。したがって所望の加水分解速度や安定性Iこ応
じて、適宜用いる金IEやアルコールを決めることか重
要である。
It is preferable that the gold used in the present invention be an alkoxide (one with appropriate hydrolyzability and stability). It is determined by 6.
If the speeds are close, and when alkali gold Kl or alkaline earth gold 9i is used as the metal, the hydrolysis FN speed should be increased to 11f or faster. Therefore, it is important to appropriately determine the gold IE and alcohol to be used depending on the desired hydrolysis rate and stability.

本発明ζこ用いる金属キレート化合物は金1.ζごアル
コキシドと共に溶液を形成するものであれはとくに制限
されない。金fキレート化合物を形成する金属と17で
は、たとえばアルミニウム、バリウム、ベリリウム、カ
ルシウム、カドミウム、コバルト、クロム、銅、鉄、ガ
リウム、ノ1フニウム、水銀、インジウム、イリジウム
、カリウム、リチウム、マグネシウム、マンガン、モリ
ブデン、ナトリウム、ニッケル、鉛、白金、パラジウム
、ロジウム、ルテニウム、スカンジウム、シリコン、錫
、ストロンチウム、トリウム、チタン、タリウム、タン
グステン、ウラニウム、バナジウム、イツトリウム、亜
鉛、ジルコニウム、ランクメイド系などの金Flatた
はそれらの部分酸化r1′4Jrjどがあげられる。
The metal chelate compound used in the present invention is gold1. There are no particular limitations as long as it forms a solution together with the zeta alkoxide. Examples of metals forming gold chelate compounds include aluminum, barium, beryllium, calcium, cadmium, cobalt, chromium, copper, iron, gallium, mercury, indium, iridium, potassium, lithium, magnesium, and manganese. , molybdenum, sodium, nickel, lead, platinum, palladium, rhodium, ruthenium, scandium, silicon, tin, strontium, thorium, titanium, thallium, tungsten, uranium, vanadium, yttrium, zinc, zirconium, rank-made gold flat etc. or partially oxidized r1'4Jrj thereof.

金1.>1;、キレート化合物を形成する有1浪化合物
としては、キレート剤として従来知られている含酸素化
合物、含チツ素化合物、含イオウ化合物などのうち形成
される金属キレ−1・化合物か金属アルコキシドと共に
溶液を形成するものであればとくに制御41されない。
Gold 1. >1; As a compound forming a chelate compound, a metal chelate compound or a metal compound formed among oxygen-containing compounds, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, etc. that are conventionally known as chelating agents. If it forms a solution together with the alkoxide, it is not particularly controlled.

キレート剤としては、たとえばEDTA (エナ1/ン
ジアミン4酢酸) 、NTAにトリロ三%、’i:酸)
、UDA (ウラミルニ酢酸)、ジメチルグリオキシム
、ジチゾン、オキシン、ケトン、グリシン、メチルアセ
トアセテート、エチルアセトアセテ−1−gよびリルン
酸、オレイン酸、オクチル酸なとの1価カルボン酸、シ
ュウ酸、シトラコン酸、マレイン酸、フタル酸、ナフテ
ン酸などの多部1カルボン酸の1沖または2種以上があ
げられ、それらのうちケトン、メチルアセトアセテート
、エチルアセトアセテート、1価カルボン酸および多価
カルホン酸か好ましく、とくにケトンが好ましい。
As a chelating agent, for example, EDTA (ena1/diaminetetraacetic acid), NTA and trilo 3%, 'i: acid)
, UDA (uramyl diacetic acid), dimethylglyoxime, dithizone, oxine, ketone, glycine, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate-1-g and monovalent carboxylic acids such as lylunic acid, oleic acid, octylic acid, oxalic acid, One or more types of polycarboxylic acids such as citraconic acid, maleic acid, phthalic acid, naphthenic acid, etc., among which ketones, methyl acetoacetate, ethylacetoacetate, monovalent carboxylic acids and polycarboxylic acids Acids are preferred, and ketones are particularly preferred.

ケトンをキレート剤として用いるばあい、生成する金属
キレート化合物は、たとえば−n′、y式11 (A)
bf:たはM2(ノリ。(B)6て示される単−鉗成の
金属ケトン錯体や金属ケトン錯体の麹化合物である。前
記一般式、において、M はrjiJ記金Ij″!三ま
たはその部分酸化物であり、b、Cおよびdはいずれも
正の整数であって、Cとdの和およびbは金属M2のケ
トンとの結合に関与する(tll Wr<である。
When a ketone is used as a chelating agent, the metal chelate compound produced is, for example, -n', y Formula 11 (A)
bf: or M2 (Nori. (B) 6) is a monomer metal ketone complex or a koji compound of a metal ketone complex. It is a partial oxide, b, C and d are all positive integers, and the sum of C and d and b participate in the bonding of metal M2 with the ketone (tll Wr<).

Aはカルボニル基を2個以上有するケトンであり、金7
M2と錯体を形成するものであればとくに制限されず、
たとえば一般式R0OOHR500R6(R4およびR
は同じかまたは異なり、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルケニル基またはそれらのハロゲン置換体
、イオウ置換体であり、とくにそれらの炭素数が1〜2
0個のものが奸才しいりで示されるβ−ジケトン、トリ
ケトンまたはポリケトンなどがあけられる。
A is a ketone having two or more carbonyl groups, and gold 7
There is no particular restriction as long as it forms a complex with M2,
For example, the general formula R0OOHR500R6 (R4 and R
are the same or different and are an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, or a halogen-substituted product or a sulfur-substituted product thereof, especially those having 1 to 2 carbon atoms.
β-diketones, triketones, polyketones, etc., in which 0 is indicated by a clever symbol, can be used.

Bは水、ハロゲン原子、リン胞子、イオウ原子マた(オ
カルホニルlii: 、カルボキシル十ルJ夷7“Sと
をイ1するイア機宜右1モ人(である。
B is water, a halogen atom, a phosphorus spore, a sulfur atom (ocalphonyl), and a convenient person that combines carboxyl and S.

前記β−ジケトンとしては、たとえばアセチル7′セト
ン、ベンツイルアセトン、ジベンゾイルアセトン、ジピ
バロイルメタン、ジピバロイルメタン、3−メチルペン
タン−2−ジオン、2、2−ジメチルペンタン−3,5
−ジオンまたはそれらのフッ;(・ミ化物などがあけら
れ、とくにアセチルアセトンが好ましい。トリケトンと
してはだとえ(プアセトアセチルアセトンなどがあけら
れろ。
Examples of the β-diketone include acetyl 7'cetone, benzoylacetone, dibenzoylacetone, dipivaloylmethane, dipivaloylmethane, 3-methylpentane-2-dione, 2,2-dimethylpentane-3 ,5
-Diones or their fluorides; (-mides, etc.) are preferred, with acetylacetone being particularly preferred. Triketones include (po-acetoacetylacetone, etc.).

本発明に用いられる金属ケトン錯体としては、1j11
記のほかにアール・シー・メーロトラ(R. O. M
ehrotra)ら“メタルベータージケトンズアンド
 アライド デリバテイブズ(Mθtalβ−Dike
−tones and Allied Derivat
j.veF3)″、1978年、アカデミツク・プレス
社に記ルν.されている金1rKケ!・ン鉛体があげら
れる。
As the metal ketone complex used in the present invention, 1j11
In addition to this, R.O.M.
metal beta diketones and allied derivatives (Mθtalβ-Dike)
-tones and Allied Derivat
j. veF3)'', published by Academic Press in 1978.

本発明に用いる複合金匹溶欣の調製は、金1〜。The preparation of the composite gold molten resin used in the present invention includes gold 1~.

アルコキシドと金だ(Eキレート化合物とかオリ溶であ
るときはとくにγ6好を必要とじfSいか、それらが相
溶でないときは井通溶妓か必髪と7よる。
Alkoxide and gold (E-chelate compounds or other soluble compounds require γ6, especially fS, or if they are not compatible, Idori Sougei or Must Hair 7).

共用′j溶妨としては、たとえば1側芽た(12;価ア
ルコール;カルボン酸エステル:ケトン;脂肪族炭化水
草浴媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素俗姑′;ジオキサン、テトラヒドロフランなどの
エーテルおよびit −メチル−2−ピロリドン、ジメ
チルポルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジンな
とのプツ素含有有機溶媒などの1柿ソたは2tシ以上の
混合溶奴があげられる。
Commonly used dissolving agents include, for example, monovalent alcohols; carboxylic acid esters: ketones; aliphatic hydrocarbon bath media; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; dioxane, tetrahydrofuran, etc. For example, a mixed melt containing 1 or 2 tons of organic solvents such as ether, it-methyl-2-pyrrolidone, dimethylpolamide, dimethylacetamide, and pyridine may be mentioned.

それらのうち、1価または多価の低級アルコール;低級
カルボン酸エステル;ジオキサン、テトラヒドロフラン
などのエーテルおよびN−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのチッ
素含有有機溶媒は金rr!Aアルコキシドと金属ケトン
錯体との種々の糾合ぜに広く用いることができるが、具
体的な溶媒(j金属アルコキシドと金属キレート化合物
の組合せにおいて適宜選定すればよい。
Among them, monohydric or polyhydric lower alcohols; lower carboxylic acid esters; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; and nitrogen-containing organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, and dimethylacetamide. Although it can be widely used in various combinations of A alkoxide and metal ketone complex, specific solvents (J) may be selected as appropriate for the combination of metal alkoxide and metal chelate compound.

金属アルコキシドと金属キレート化合物の溶媒への溶解
順序はとくに限定されない。
The order in which the metal alkoxide and metal chelate compound are dissolved in the solvent is not particularly limited.

また金1?(?アルコキシドと金属キレート化合物の一
方また14両方が溶媒に溶解しない組合せにおいても、
アルデヒドを加え、必要に応じて加熱処理するときは、
均一な溶液とすることができる。加熱処理は]11)常
溶媒の還流温度以下で行なうのか好ましい。
Gold 1 again? (? Even in combinations where one or both of the alkoxide and the metal chelate compound are not soluble in the solvent,
When adding aldehyde and heat-treating if necessary,
A homogeneous solution can be obtained. It is preferable that the heat treatment is carried out below the reflux temperature of the ordinary solvent (11).

アルデヒドの添加は前記の可溶化作用のほかに、金肥ケ
トン鉛体の昇華性をさらに抑制する作用をも果たす。
In addition to the above-mentioned solubilizing effect, the addition of aldehyde also has the effect of further suppressing the sublimation of the kinpei ketone lead body.

アルデヒドとしては、炭素数1〜8個のアルデヒド、と
くにホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ベンズアルデヒドなどが好ましい。
Preferred aldehydes include aldehydes having 1 to 8 carbon atoms, particularly formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, and the like.

アルデヒドの添加による可溶化効果は金属キレート化合
物の金属M2が周期9第I族または第■族の金属である
ときとくにすぐれており、昇華性の抑制効果は金属キレ
ート化合物か安定なもののときとくにすぐれている。ア
ルデヒドの使用量は金属Mと金属M2の合計モル数が1
のとき、通常0.001モル以上、好ましくは0.1モ
ル以上で前記効果が奏される。
The solubilizing effect of the addition of aldehyde is particularly excellent when the metal M2 of the metal chelate compound is a metal of Group I or Group II of Period 9, and the effect of suppressing sublimation is particularly excellent when the metal M2 is a stable metal chelate compound. ing. The amount of aldehyde used is that the total number of moles of metal M and metal M2 is 1
In this case, the above-mentioned effects are usually achieved at an amount of 0.001 mol or more, preferably 0.1 mol or more.

かかるアルデヒドの添加による可溶化作用および昇華性
抑制作用についてはいまだ解明されていないが、アルデ
ヒドと金属キレート化合物と金属アルコキシドとが何ら
かの反応を起し、金属ケトン錯体および(または)金属
アルコキシドの有機溶媒に対する溶解性が向上すると共
に熱処理時の昇華性を低減すると考えられる。
Although the solubilizing effect and sublimation suppressing effect of the addition of aldehyde has not yet been elucidated, some kind of reaction occurs between the aldehyde, the metal chelate compound, and the metal alkoxide, and the organic solvent of the metal ketone complex and/or metal alkoxide It is thought that this improves the solubility in the water and reduces sublimation during heat treatment.

複合金属溶液における金属アルコキシドと金+1iiキ
レ−1・化合物との割合は相互の溶解性およO−目的と
するi′i合相料の組成に応じて任意に調整できるか、
3I’、’I當合金1・ノ<y”/金属M(モル比)が
0.0旧以」二、好ましくは金rl’;3 Mのモル敬
≦1.5×金r・すν12のモル数である溶液が使用し
やすい。
Is it possible to arbitrarily adjust the ratio of metal alkoxide and gold compound in the composite metal solution depending on their mutual solubility and the composition of the target i′i phase mixture?
3I', 'I' alloy 1.<y''/metal M (molar ratio) is 0.0 or more, preferably gold rl'; A solution with a molar number of is easy to use.

なおドーピングのために微滑成分を添加するばあいはそ
のIi(ζ分を含む金1菖アルコキシドまたは金rr1
.iキ1/−ト化合物は極微世でよい。
In addition, when adding a slight lubricant component for doping, Ii (gold 1 iris alkoxide containing ζ component or gold rr1
.. The amount of the compound to be used may be extremely small.

水弁1ケjにおいて金17Mアルコキシドおまひ全屈キ
レート化合い1はそれぞれ単一組成である必要はj、(
<、2臼以」−の金属を含むものであってもよく、また
金属アルコキシドと金7Eキレート化合物を((“l成
する金にへが同じてあってもよい。さらに2((1す5
上の金+i仔アルコキシドまたは全1畠キレート化合j
i・1を月1いて3成分以上の糸の溶液としてもよい。
In water valve 1, gold 17M alkoxide and total chelation 1 must each have a single composition.
It may also contain a metal alkoxide and a gold 7E chelate compound. 5
Above gold + alkoxide or all 1 chelate compound
i.1 may be used once a month as a solution of threads containing three or more components.

1iiJRLl共1jjf (イ・ぐか:・;のほかに
熱分;1γ;Cを促進させるためまたは、/4(l存安
定・Vl:をi?Iづ−ために、有(いf幽やIXi’
;化防止バ1jるーt::′−加してもよいし、薄IF
、1もlj造時に1i1’、:i 厚をコントロールす
るために粘度調節効果をもつセルロース系高分子、ポリ
酢rf、6ビニル、グリセリン、ポリエチレングリコー
ルなどの2占f(f調節剤を添加してもよいし、さらに
金17..<成分を補充するために金属有做耐などの(
litの有]7・′金!11化合物を添加してもよい。
1ii JRLl both 1jjf (I・guka:・; in addition to the heat; 1γ; IXi'
;You may add a thin IF.
, 1 is also used to control the thickness of 1i1', :i. You can also add gold 17.
With lit] 7・'Fri! 11 compounds may be added.

たたしこれらの添加剤は共通溶媒に溶解し、かつ熱分;
9′r財「に、轡N・、(生成に悪影響を及はさないも
のであることが打1要である。
However, these additives are dissolved in a common solvent and heat content;
9'r Goods ``N, 轡N・, (It is important that it does not have a negative effect on the production.

本発明におけるFV肋状の衿合拐ネJは、’J’:: 
1.7アルコキシド単独の浴液と同イ〕τ′に加水分ト
γi’ (/F:かありしかも保存安定性もすぐれてい
る0;jλ1吋′−ご合金1、・・’+ i’ffi+
液を基板船こ塗布後、熱分解することにより賓易に任、
伴−の金属を含む状態で6・11造されうる。
In the present invention, the FV rib-like collar joint J is 'J'::
1.7 Same as the bath solution of alkoxide alone] τ′ is hydrolyzed with γi′ (/F: 0; jλ1′−alloy 1,...'+ i' ffi+
After applying the liquid to the substrate, it is thermally decomposed and then transferred to the manufacturer.
It can be built on 6/11 with the metal included.

本発明によれば、溶I!IYfる金5t−:アルコキシ
ドおよび金層キレート化合物を梓々カニ゛定し、1ll
1合せること(こより、所望するに[1,13!2のン
:;;(iiにHかえられるが、とくに金属アルコキシ
ド単独使用ではえられない込移金属や安定性の乏しいア
ルカリ金k」、アルカリ土類金属、あるいは金属・アル
コキシドを形成しえない金属を含む複合制料を目的とす
るばあい、ざら(こ微し;゛成分を均一に混合したばあ
tI′Ilこすぐれた効果が奏される。
According to the invention, melt I! IYf gold 5t-: The alkoxide and the gold layer chelate compound were carefully determined, and 1 liter
1 (if desired, [1, 13! 2 n:;; (ii) can be replaced with H, but in particular mixed metals that cannot be obtained by using metal alkoxide alone or alkali gold with poor stability), When the purpose is to create a composite material containing alkaline earth metals or metals that cannot form metal/alkoxides, it is possible to obtain an excellent effect by uniformly mixing the components. It is played.

また加熱時の雰囲気を種々選定することにより、複合材
料の即成を変更することができる。
Furthermore, by selecting various atmospheres during heating, the instant formation of the composite material can be changed.

たとえは大気中で加熱するときは複合酸化物薄1卓かえ
られ、水素や一酸化炭素などを含む還元性雰囲気中で加
熱処理するときは合金などの複合金属i’;’、g I
!込かえられる。またNH3やN2を含むチッ素雰II
気下で加熱処理すればチツ化物を含む傳II9゛シかえ
られる。
For example, when heating in the air, a thin layer of composite oxide is used, and when heat-treated in a reducing atmosphere containing hydrogen, carbon monoxide, etc., composite metals such as alloys i';', g I
! It is packed. Nitrogen atmosphere II containing NH3 and N2
If heat-treated under atmospheric pressure, it can be converted to densities containing titanium.

本発明に8ける塗布方法や熱分解方法としては伸々の方
法か採用でき、たとえば基板上に複合金属f(r mを
スプレー、デツピング、スピンコーティングなとにより
佑布したのち加熱して熱分庁rする方法、分IJ′l′
温度に加熱された基板に溶液を噴霧して基板上で熱分解
させる方法、溶液をガス化したのち加熱して熱分解する
か、またζオプラズマもしくはレーザー光によって分解
しながら分解物を基板上に堆積させる方法、あるいは印
刷法など金属アルコキシドを単独で使用するばあいと同
様な方法が採用できる。とりわけ■有性と噴霧熱分解に
よる薄膜の製法が安価な設備で生産性が高く実用的であ
る。
As the coating method and thermal decomposition method in the present invention, any number of methods can be adopted. For example, composite metal f(rm) is deposited on a substrate by spraying, depping, spin coating, etc., and then heated to dissipate heat. How to do it, minute IJ'l'
Methods include spraying a solution onto a heated substrate and thermally decomposing it on the substrate, gasifying the solution and then heating it to thermally decompose it, or decomposing it with ζ-oplasma or laser light and decomposing the decomposed product on the substrate. When a metal alkoxide is used alone, a method similar to a deposition method or a printing method can be adopted. In particular, methods for producing thin films using organic and spray pyrolysis are highly productive and practical using inexpensive equipment.

塗布法で薄膜を製造するばあい溶必中の金属成分含有量
を0.01〜20市h1%、好ましくは0.1〜10屯
量%とし、加熱湿度を200’O以上にするとき一般に
奥行な1Frvかえられ、含有Ut’lが前記範囲より
も少ないときは基板上で塗布成分がはじけて塗布むらを
形成するばあいかあり、前記範囲よりも多いと1回の塗
布時の11qI厚か厚くなるため、熱処理時の熱的歪や
分II+iガスのためクラックが入ったり、基板に密着
せずに熱分解して粒子化して割りを生ずるばあいがある
。たたし、これらは用いる金属アルコキシドと金い7キ
レ一ト化合物の組合せや共通118奴のゼ11類、■布
手段、墜布雰囲気によって前記条件か大きく変動するこ
とがあり、各組合せに応じてP適条件を決めることが重
要である。
When producing a thin film using the coating method, the content of metal components in the melt is 0.01 to 20 h1%, preferably 0.1 to 10 tonnage%, and when the heating humidity is 200°C or higher, the depth is generally If the content Ut'l is less than the above range, the coating components may burst on the substrate and cause uneven coating. As a result, cracks may occur due to thermal strain during heat treatment and the II+i gas, or cracks may occur due to thermal decomposition and particle formation without adhesion to the substrate. However, these conditions may vary greatly depending on the combination of the metal alkoxide and gold 7 chelate compound used, the common 118 class 11, cloth means, and cloth atmosphere, and depending on each combination. It is important to determine the conditions suitable for P.

なおディッピング法によるときは引上は速度を0.5〜
100 am 7分、好ましくは2〜20 am 7分
とすると均儀性にすぐれた薄膜かえられる。
In addition, when using the dipping method, the pulling speed is 0.5~
When the time is 100 am for 7 minutes, preferably 2 to 20 am for 7 minutes, a thin film with excellent uniformity can be obtained.

噴霧熱分解法で;’、”j膜を製造するはあいは、あら
かじめ〕((板のtll、^Byを20000以上、奸
才しくは400°C以上に加熱しておき、溶液中の金属
成分含有)じ゛を0.01〜20箱母%、好ましくは0
.05〜5 fffyH%にして、空気、またはチッ素
、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス、さらにこれら
に水菜り4を含有させたガスをキャリヤーガスとして基
板に吹きつけることによってえられる安定な金属キレー
ト化合物を用いるときは、とくにキャリヤーガス中に水
蒸気を含有させることにより分解性かよくなり、膜質お
よび化学量論’+!+−,に丁ぐれたン:、j7i”i
がえられる。また膜質をよくするには、1(11μづ〜
るミストの粒子を均一で細7J)くすることが重要であ
り、好ましくは20μm以下の粒子・2吹きつけるとよ
い。このためにはノズルおよびミストが飛散する空間を
高周波もしくは超音波により振動させミストを均一に細
かくするか、さらにはノズルと基板間に電場をかけてミ
ストを速やかに基板上に被着させるのが好ましい。なお
溶液の処理昂”、キャリヤーガスの流量は装置により大
きく脇なり、遣宜調11″!する必要がある。
When producing a film using the spray pyrolysis method, the metal in the solution is Ingredients contained) 0.01 to 20 box base%, preferably 0
.. A stable metal chelate obtained by blowing air, or an inert gas such as nitrogen, argon, or helium, or a gas containing Mizunari 4 as a carrier gas onto a substrate at a concentration of 05 to 5 fffyH%. When using a compound, especially by including water vapor in the carrier gas, decomposition is improved, film quality and stoichiometry are improved! +-, nidigureta-n:, j7i”i
It can be grown. Also, in order to improve the film quality, 1 (11μ ~
It is important to make the mist particles uniform and fine, and it is preferable to spray particles of 20 μm or less. To achieve this, it is necessary to vibrate the nozzle and the space where the mist is scattered using high frequency or ultrasonic waves to make the mist uniformly fine, or to apply an electric field between the nozzle and the substrate to quickly deposit the mist on the substrate. preferable. Note that the processing speed of the solution and the flow rate of the carrier gas vary greatly depending on the equipment, and can be adjusted to suit your needs. There is a need to.

形成する薄膜の厚さは用いる金IIiス♂液の金1ル成
分含有量、粘度、塗布量などによって詰!節できるが、
ディッピング法においては連室1回の塗布で膜厚が10
0〜3000 X、好まL−<は100〜1500λに
調節するのが好ましく、噴y′;、を熱分子’J’(法
においては1回に3000X PJ、下になるようにし
、ろooo Xを超えるときは炭化物を除去するために
斤1(処理をしたのち再塗布することか好ゴしい。
The thickness of the thin film to be formed depends on the gold content, viscosity, coating amount, etc. of the gold IIi solution used! Although it can be
In the dipping method, a film thickness of 10% can be achieved with one application in consecutive chambers.
0 to 3000 X, preferably L-< is preferably adjusted to 100 to 1500 If it exceeds 100 lbs., it is recommended to reapply after treatment to remove the carbide.

また同一または異なる即成の溶畝を繰り返し密布して同
一または異なる即成の茫n・:Σのれ”: Ite体と
してもよい。
Alternatively, the same or different instant molten ridges may be repeatedly spread to form the same or different instant ridges.

基板材料としては、薄1rj’j形成時に与えられる熱
に耐えられる材料であれは使用門徒であり、たとえはガ
ラス、アルミナ、シリカなとのセラミックス製の板、ス
テンレスなどの金麿板や金属テ171、ポリイミドなど
の耐熱性ね・1脂フイルムなどがあけられ、とくに表面
の平7111性にずぐれているものが好ましい。
As the substrate material, it is recommended to use any material that can withstand the heat applied when forming a thin film, such as ceramic plates such as glass, alumina, and silica, metal plates such as stainless steel, and metal plates. 171, a heat-resistant film made of polyimide or the like, and a film with excellent surface flatness is particularly preferred.

本発明によってえられる氷!1合拐料薄膜は新しい椰能
性拐ネ〕Iとしてきわめて有望なものであり、たとえ(
、J frH’、Hjのセンザ拐料、μλ毘1模拐ネ゛
1、光関迎デバイス114;l料、磁気記録材料、圧@
累子拐判、誘宙体祠ネー1などとしてずぐれた性能を有
する。
Ice obtained by this invention! 1. Thin film of repellent is extremely promising as a new coconut retardant.
, J frH', Hj sensor ablation material, μλ bi1 ablation material 1, optical interface device 114; l material, magnetic recording material, pressure@
It has excellent performance as a child kidnapping test, a cosmic body shrine 1, etc.

つき′に木−!jF’、 ’J’、iを実施例および比
較例に基づいて説[!11するが不発り」はかかる実施
例のみに限定されるもので(」ない。
Tsuki'ni tree-! jF', 'J', and i are explained based on Examples and Comparative Examples [! 11 However, the term ``but not occurring'' is not limited to such embodiments.

実施例1〜4 鉄トリイソプロポキシド10.Dyを〕没水エチルアル
コール100y lこ7<; fn’ L−1これ(こ
スピネルフェライト糸j]成(Fe :他の金属=2:
1 )となる量(こ第1表に示す各金属のアセチルアセ
トナツトを加えたところ、いずれも速やか齋こ溶解して
2種の金11i’+ IiV分を含む均一な溶液かえら
れた。なお金麿1アセチルアセトネートのうち、ニッケ
ル、コバル1〜および亜鉛の名アセチルアセトネートは
単独ではエチルアルコールには難溶であり、加温して溶
解させた。
Examples 1-4 Iron triisopropoxide 10. Dy] submerged in ethyl alcohol 100yl 7<;fn' L-1 (this spinel ferrite thread j) (Fe: other metals = 2:
1) When acetylacetonates of each metal shown in Table 1 were added, all of them were quickly dissolved to form a homogeneous solution containing two types of gold (11i'+IiV). Among Kanemaro 1 acetylacetonates, nickel, Kobal 1- and zinc acetylacetonates were hardly soluble in ethyl alcohol when used alone, so they were dissolved by heating.

この溶液中にコーニング#7913(商品名、コーニン
グ・グラス・ワークス社製のバイコールカラス(96%
SiO2])上に10 cm 7分の引上げ速度でディ
ップコーテイング後、マツフル炉を用いて約5°C/分
の昇温速度で800°Cまで加かし、1時間保ったのち
徐冷すると、ガラス板上に均質で赤褐色の透明性のすぐ
れたIりさ約800Xの薄膜かえられた。
Corning #7913 (trade name, Vycor Glass (96%) manufactured by Corning Glass Works) was added to this solution.
After dip coating on 10 cm of SiO2]) at a pulling rate of 7 minutes, the material was heated to 800°C at a heating rate of approximately 5°C/min using a Matsufuru furnace, kept for 1 hour, and then slowly cooled. A homogeneous, reddish-brown, highly transparent thin film with a diameter of approximately 800× was deposited on a glass plate.

えられた薄膜の組成をり1:・光X線分析法により、鉄
と他の金属との元素比で求めた。その結果を第1表に示
す。
The composition of the obtained thin film was determined by the elemental ratio of iron to other metals by optical X-ray analysis. The results are shown in Table 1.

またえられた、11.、 nZは膜厚がijiいためそ
のX線回折法による回折パターンが不明瞭であったので
、前記の複合金属溶液を乾煽後、前記と同イ′)にして
熱処理して粉体を製造し、X線回折法により結晶構造を
調べた。結果を第1表に示す。
I was born again, 11. Since the diffraction pattern of nZ by X-ray diffraction was unclear due to its large film thickness, the composite metal solution was dried and then heat-treated in the same manner as above to produce a powder. , the crystal structure was investigated by X-ray diffraction method. The results are shown in Table 1.

第1表 11石% I fl中のAAはアセチルアーレトネート
ノ杏(C5H702)を示す。
AA in Table 1 11 stone% I fl indicates acetylarethonetonone (C5H702).

実施例 ルシ、トリエトキシド10gをツj(水エチルアルコレ
ール=2 : 0.5 : 0.5 になるように二゛
ンケ71/アセチルアセトネート6 ト5.46,とを添加して溶液とした。さらに)々ラホ
ルムアルデヒドを0.5g添加して30分間遠活流後エ
チルアルコール除去し、ついでテトラヒドロフラン10
0gを加え均一溶液とした。この溶液は1ケ月以上安定
であった。
Example 10 g of triethoxide was added to a solution of 10 g of triethoxide (water ethyl alcohol = 2:0.5:0.5, 71/5.46 acetylacetonate). Furthermore, 0.5 g of formaldehyde was added, ethyl alcohol was removed after centrifugal flow for 30 minutes, and then 10 g of tetrahydrofuran was added.
0g was added to make a homogeneous solution. This solution was stable for over a month.

この溶液をコーニング#7059 (商品名、コーニン
グ・グラス・ワークス社製の無アルカリガラス)上に実
施例1〜4と同様の方法でディップコーティングし、マ
ツフル炉番こて5°C/分の昇温速度にて600°Cま
で加熱し、1時間保ったのち放冷すると、黄褐色透明な
均質のHj;II4,qかえられた。この助成について
螢光X線分析法により元素分析を行なったところ、Fs
:Ni:Zn=2 : 0.4’9 : 0.47であ
り、はぼ目的とする(Nio.5’Zr,5)Fθ20
4スピネルフェライト薄111′−2かえられたことが
判明した。
This solution was dip coated onto Corning #7059 (trade name, alkali-free glass manufactured by Corning Glass Works) in the same manner as in Examples 1 to 4, and heated at 5°C/min using a Matsufuru Furnace Trowel. When the mixture was heated to 600°C at a temperature rate, kept for 1 hour, and then allowed to cool, a yellow-brown transparent homogeneous Hj;II4,q was obtained. Elemental analysis of this grant using fluorescent X-ray analysis revealed that Fs
:Ni:Zn=2: 0.4'9: 0.47, and the objective is (Nio.5'Zr, 5)Fθ20
It was found that 4 spinel ferrite thin 111'-2 was changed.

実施例6 鉄トリエトキシド15,をツ11シ水エチルアルコール
IDO,に溶かし、’F’e :Ba = 12 ’ 
1の元;ξ比になるようにバリウムアセチルアセトネー
ト2.2yを添加した。B a (AA )2は加温し
ても溶解しなかったので、さらにパラホルムアルデヒド
1yを深部し15分間逆流したところ、バリウムアセチ
ルアセトネ−1・の自沈が溶解して均一な溶液となった
。この溶液は密栓しておくこと多こより1力月以上安定
であった。
Example 6 Iron triethoxide 15 was dissolved in 11 water ethyl alcohol IDO, 'F'e: Ba = 12'
2.2y of barium acetylacetonate was added so that the ratio was 1:1. B a (AA) 2 did not dissolve even when heated, so when paraformaldehyde 1y was further added to the depth of the solution and counterflowed for 15 minutes, the swamped barium acetylacetonate 1. dissolved and became a homogeneous solution. . This solution was stable for more than 1 month when kept tightly capped.

この溶液中をバイコールガラス板に10 am /分の
引上()、電・+r Iwにてディップコーティングし
、マツフル炉中5°C/分の昇温速度で800°0にて
1時間焼成後放冷したところ、厚さ約1oooXの透明
性にずぐれたl3a0・6 F e 203の強磁性N
(、ibjかえられた。
This solution was dip-coated onto a Vycor glass plate at a pulling rate of 10 am/min and an electric current of +r Iw, and after baking at 800°0 for 1 hour at a heating rate of 5°C/min in a Matsufuru furnace. When left to cool, the ferromagnetic N of l3a0.6 Fe 203 with a thickness of about 1oooX and excellent transparency was obtained.
(, ibj was changed.

比クツ例1 ツ((そ水工チルアルコールioogに対してFa :
 N1=2:1の元素比に1よるように鉄アセチルアセ
トナート25gとニッケルアセチルアセトナート9.1
.を協力「化、加N(〜飛拌すると、2種の金j;−ベ
キレートが溶+i+マし、均一な溶dりとなった。この
溶フイYを用いて実施例1と同様な方法にてバイコール
ガラス上にディップコーティングしたところ島状のムラ
が多く発生し、コーティング状態は不均一であった。こ
のものを焼成しても均負なニッケルフェライト薄膜はえ
られなかった。
Comparison example 1 (Fa against ioog):
25 g of iron acetylacetonate and 9.1 g of nickel acetylacetonate in an elemental ratio of N1 = 2:1.
.. When the mixture was mixed, the two types of gold were dissolved and a homogeneous melt was obtained.Using this melt Y, the same method as in Example 1 When dip-coating was performed on Vycor glass, many island-like unevenness occurred and the coating state was non-uniform.Even when this material was fired, a uniform nickel ferrite thin film could not be obtained.

比軟例2 Fe:Sr= 12 : 1になるように鉄トリインプ
ロポキシド25gとバリウムジインプロポキシド2.2
9yヲm水エチルアルコール100fに溶かし実施例5
と同様な方法でバイコールガラス上(こディップコーテ
ィングしたのち焼成したところ、カラス表面に濁りをも
った不均一なに服・か形成された。走査゛重子は1微鏡
によりpj7貯・表面を観察したところ、ガラス表面に
゛密着せずに粒子化していることが判明した。
Soft ratio example 2: 25g of iron triimpropoxide and 2.2g of barium diimpropoxide so that Fe:Sr=12:1
Example 5 Dissolved in 9 ml of water and 100 ml of ethyl alcohol.
When the coating was dip-coated on Vycor glass using the same method as above and then fired, a cloudy, non-uniform coating was formed on the surface of the glass. As a result, it was found that the particles did not adhere to the glass surface and had become particles.

なおこの溶液は凹閉保存しておいても、2日放置後には
多量の沈澱物が発生しており、不安定であった。
Even if this solution was stored in a closed container, a large amount of precipitate was generated after it was left for 2 days, and it was unstable.

実施例7 バリウムアセチルアセトナート16.79pを無水エチ
ルアルコール100gに懸濁させ、バリウムと当41J
:比のチタンを含むチタンテトラインプロポキシドi4
.21yjJよひ1gのパラホルムアルデヒドを加えて
1′・j; hFj したところ、5分後に赤かつ色の
均一な浴液となった。この溶液をエチルアルコールから
同11;のテトラヒドロフランに溶媒を置換し、侠: 
r+”l保存したところ1力月以上安定であった。
Example 7 16.79p of barium acetylacetonate was suspended in 100g of absolute ethyl alcohol, and barium and 41J
:Titanium tetrane propoxide i4 containing titanium in the ratio
.. When 1 g of paraformaldehyde was added to the solution for 1'.hFj, a red and uniform bath solution was obtained after 5 minutes. The solvent of this solution was replaced from ethyl alcohol to tetrahydrofuran of 11;
When stored at r+"l, it was stable for more than 1 month.

この#)′!Iりをバイコールガラス上tC実施例1と
1質j4汗な方法でディップコーティングをしたのち8
00°C(こて、13“を成したところ、厚さ12DD
Xの黄色がかつ)こ透明なン′Xlj月φ、かえられた
this#)'! After applying dip coating on Vycor glass using a method of Example 1 and 1,
00°C (When 13" was made with a trowel, the thickness was 12DD.
The yellow color of X was changed to transparent N'Xlj month φ.

この7:’j IE:q、をESOA (1:g子分光
化学分析〕にて元素組成をん1゛1)べたところ、10
00Xの深さまでBa;Ti:O=、、1: ’l :
 3の矛丁1成となっており、B a T i O3の
;”jj II’X’:で゛あることが判明した。
When I checked the elemental composition of this 7:'j IE:q by ESOA (1:g spectrochemical analysis)1゛1), I found that 10
Ba;Ti:O=,,1:'l: to a depth of 00X
3, and it turned out to be ;"jj II'X': of B a T i O3.

比較会:j3 Ba : Tiの元素比が1゛1になるようにバリウム
ジインプロポキシド12.Elgとチタンテトライソプ
ロポキシド’14.2.を無水エチルアルコールH]O
f/にnfかし、火施例7と同aの方法でバイコールカ
ラス板−ヒにディップコーティングしたところ、著るし
く表面が白首した不均一なi+Ql;i 1p7iとな
った。
Comparison meeting: j3 Barium diimpropoxide 12. Elg and titanium tetraisopropoxide '14.2. anhydrous ethyl alcohol H]O
When dip-coating was applied to a Vycor glass board using the same method as in Example 7 (a) using f/nf, the resultant surface was uneven and extremely white.

なお、この溶液は2日後には多量のかっ色の沈澱が発生
しており、安定性に乏しいことが判明した。
Note that this solution had a large amount of brown precipitate after 2 days, and it was found that the solution was poor in stability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 金17ペアルコキシドまたはその多量体の1種また
は2揮以」二と金属キレート化合物の1種または2種以
上とが溶解している複合金属溶液を邦く板に(・;右後
、熱分解させることを特徴と1−るシ:(、膜状の揚台
材料の製法。 2 前記金蛇キレート化合物が金属ジケトン錯体である
や? ;?T it’l求の範囲第1項記載の製法。 3 前記複合金属溶液が共通溶媒の存在下に調製される
q″r許請求の範囲第1項記載の製法。 4 前記共;ij:II ff:媒か炭素数1〜20個
の1価または多価アルコール類、カルボン酸エステル類
、工−テルリパ1、ケトン類、脂肪族または芳香族炭化
水7浩11’、I2、エーテル類またはチッ素含有有枦
溶凱11の1種または2種以上である特許請求の範囲第
6項記載の製法。 5 前記複合金属溶液をアルデヒドの仔在下に調製する
特許請求の範囲第1項記1ieJの製法。
[Scope of Claims] 1. A composite metal solution in which one or more of gold-17 pair alkoxide or its polymer and one or more metal chelate compounds is dissolved in a plate (・; Characterized by thermal decomposition. 1. Method for producing a film-like platform material. 2. Is the gold snake chelate compound a metal diketone complex? ;?Tit'l desired range The manufacturing method according to claim 1. 3. The manufacturing method according to claim 1, wherein the composite metal solution is prepared in the presence of a common solvent. 4: ij: II ff: medium carbon number 1 ~20 monohydric or polyhydric alcohols, carboxylic acid esters, alcoholic acid esters, ketones, aliphatic or aromatic hydrocarbons 7 H11', I2, ethers or nitrogen-containing solubles 11 5. The method for producing 1ieJ according to claim 1, wherein the composite metal solution is prepared in the presence of an aldehyde.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63193829A (en) * 1987-02-06 1988-08-11 旭硝子株式会社 Metal-clad laminated board for printed wiring
JPH043402A (en) * 1990-04-20 1992-01-08 Teikoku Tsushin Kogyo Co Ltd Ferrite coating liquid

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JPS59195504A (en) * 1983-04-15 1984-11-06 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composite metallic solution

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