JPS5922003A - 高反射鏡の製造方法 - Google Patents
高反射鏡の製造方法Info
- Publication number
- JPS5922003A JPS5922003A JP13160982A JP13160982A JPS5922003A JP S5922003 A JPS5922003 A JP S5922003A JP 13160982 A JP13160982 A JP 13160982A JP 13160982 A JP13160982 A JP 13160982A JP S5922003 A JPS5922003 A JP S5922003A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- film
- reflecting mirror
- manufacture
- reflectance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、高反射鏡、特にレーザプリンタ等の光偏向
器として用いられるガルバノミラ−または回転多面鏡の
ような反射鏡の製造方法に関する。
器として用いられるガルバノミラ−または回転多面鏡の
ような反射鏡の製造方法に関する。
このような反射鏡は、例えばＮｆ（Ｋ技研月報、昭和５
０年１２月発行、に掲載された「多数小平面多角形高速
度走査およびその製造方法」の記事に示されているよう
に、従来は金属面を研摩して作られていたが、望ましい
鏡面を得るためには、〃）なりのコスト高になっていた
。このだめ、アルミ合金を切削してまず反射面となる平
滑面を作り、次いでこの平滑面に無電解Ｎｉメッキ層を
形成し、これを研摩により所望の鏡面状態に仕上げて反
射鏡を作ることが行なわれている。しかしながら、無電
解メンキによって形成されたＮｉ合金被膜は、結晶分子
が比較的規則正しく配列しており、微視的にみると硬い
部分と軟らかい部分とが混在している。このため、この
Ｎｉ合金被膜を研摩すると、硬い部分と軟らかい部分と
で研摩のされ万が異なり、研摩むらが生じて面精度を向
上させる土での限界の一つになっていた。そこで、最近
では、シャープ枝軸、昭和５６年９月第２１号に掲載さ
れているように、アルミ合金を超精密切削加工のみで鏡
面に仕上げる技術が検討されている。しかしながら、こ
の方法で仕上げられた反射面は酸化されやすく、また酸
化被膜の厚さも温度や湿度によってばらつきが大きい。
０年１２月発行、に掲載された「多数小平面多角形高速
度走査およびその製造方法」の記事に示されているよう
に、従来は金属面を研摩して作られていたが、望ましい
鏡面を得るためには、〃）なりのコスト高になっていた
。このだめ、アルミ合金を切削してまず反射面となる平
滑面を作り、次いでこの平滑面に無電解Ｎｉメッキ層を
形成し、これを研摩により所望の鏡面状態に仕上げて反
射鏡を作ることが行なわれている。しかしながら、無電
解メンキによって形成されたＮｉ合金被膜は、結晶分子
が比較的規則正しく配列しており、微視的にみると硬い
部分と軟らかい部分とが混在している。このため、この
Ｎｉ合金被膜を研摩すると、硬い部分と軟らかい部分と
で研摩のされ万が異なり、研摩むらが生じて面精度を向
上させる土での限界の一つになっていた。そこで、最近
では、シャープ枝軸、昭和５６年９月第２１号に掲載さ
れているように、アルミ合金を超精密切削加工のみで鏡
面に仕上げる技術が検討されている。しかしながら、こ
の方法で仕上げられた反射面は酸化されやすく、また酸
化被膜の厚さも温度や湿度によってばらつきが大きい。
しかもこの酸化被膜は、絶対値が小さく、自然放置して
もせいぜい１０Ａ０程度で、保護膜としての役目を十分
に果しているとは云えない。
もせいぜい１０Ａ０程度で、保護膜としての役目を十分
に果しているとは云えない。
そこで、通常は、その反射面に、真空蒸着等の方法によ
りＳｉＯまたは５ｉ０２の保護膜を形成して使用してい
るが、このような保護膜では反射率の低下防止またはそ
の向上が計ｔない欠点がある。
りＳｉＯまたは５ｉ０２の保護膜を形成して使用してい
るが、このような保護膜では反射率の低下防止またはそ
の向上が計ｔない欠点がある。
こ０発”７４０目的１竹、いわゆるエン／ニアリングプ
ラスチ、りや金属の超精密切削加工：τよる反射層を確
実（τ恢護するととも１こ、その反射面Ｏ反射率をさら
：口高めることのできる保護、漠を憶えた回転多面鋼Ｏ
ような、高反阜：鏡Ｏ製造方法を提供することにある。
ラスチ、りや金属の超精密切削加工：τよる反射層を確
実（τ恢護するととも１こ、その反射面Ｏ反射率をさら
：口高めることのできる保護、漠を憶えた回転多面鋼Ｏ
ような、高反阜：鏡Ｏ製造方法を提供することにある。
この発明（二よる反射鋼の製造方法は、色えげアルミ合
金を超精密切削加工して反射■１を形成した後、そ○反
射（Ｗ＋τ、まずアルミニラミ被膜、続いユヲ下、こ○
介護１４つ一実ち領を添付ズコを参ａ・・シて許零する
。蟇１−゛バｊＳ、こＯ発明ｊてよる一：転多面曾ｖ−
’、＝−と示す平Σズ、第２．ズ；は、そつ拡太部分断
コ］て、；−ｒ ３ （’ 、二、そＣ装造工程つ概略
を示す図である。まず、ＪＩＳ Ａ２５１またにアメリ
カＡｌｌ’ ｉ＝会ｊＥｊ ４７つＡ５（１５２つよう
な可食アルミニウム合金を素材として、第］ンｈ二示す
ような周囲に連続する多角小平面］ａを有する回転多面
鏡Ｏブラ／り１を、旋Ｒ１お：、ぴフライス加工等によ
り形成する。θこ１ζ、各平面コａをダイヤモンドバイ
ト等を使用する超精密切削加工により、平面度λ１５
Ｊブ、下、面粗度０．０２ＩＩ ｍ Ｒｌｎ ａχ秤度
の鏡面１て仕上げる。 次１ここのような各平面１ａ
Ｉで、真空蒸着法（てより、Ａ７′被騰２を厚さ］００
０’Ａ程度、５１０２被膜３およびＴｉＯ２破１１４４
をそれぞれ光学的厚膜ｎｄでλｏ／４（ｎ：屈折率、ｄ
：幾（ＤＪ学的厚さ、へ二使用波長）程度Ｃ・二頭（で
形成して、製品を完成する。
金を超精密切削加工して反射■１を形成した後、そ○反
射（Ｗ＋τ、まずアルミニラミ被膜、続いユヲ下、こ○
介護１４つ一実ち領を添付ズコを参ａ・・シて許零する
。蟇１−゛バｊＳ、こＯ発明ｊてよる一：転多面曾ｖ−
’、＝−と示す平Σズ、第２．ズ；は、そつ拡太部分断
コ］て、；−ｒ ３ （’ 、二、そＣ装造工程つ概略
を示す図である。まず、ＪＩＳ Ａ２５１またにアメリ
カＡｌｌ’ ｉ＝会ｊＥｊ ４７つＡ５（１５２つよう
な可食アルミニウム合金を素材として、第］ンｈ二示す
ような周囲に連続する多角小平面］ａを有する回転多面
鏡Ｏブラ／り１を、旋Ｒ１お：、ぴフライス加工等によ
り形成する。θこ１ζ、各平面コａをダイヤモンドバイ
ト等を使用する超精密切削加工により、平面度λ１５
Ｊブ、下、面粗度０．０２ＩＩ ｍ Ｒｌｎ ａχ秤度
の鏡面１て仕上げる。 次１ここのような各平面１ａ
Ｉで、真空蒸着法（てより、Ａ７′被騰２を厚さ］００
０’Ａ程度、５１０２被膜３およびＴｉＯ２破１１４４
をそれぞれ光学的厚膜ｎｄでλｏ／４（ｎ：屈折率、ｄ
：幾（ＤＪ学的厚さ、へ二使用波長）程度Ｃ・二頭（で
形成して、製品を完成する。
各版膜を形成するための真空蒸着装置は、光学的膜厚ｎ
ｄを制御でさるものが好ましく、をずその真空槽を約５
〉、コ０−３Ｐａ （Ｉ Ｔｏｒｒ−］３３Ｐａ ）の
直空度まで排気した後、酸素を約３〉、１０’Ｐａ″ｉ
で供給しながら５分間のイオンボンバードを行なう。そ
Ｑ後すぐ（て酸素の供給を止めて再び５〉、］０−３Ｐ
ａとした後、Ａｌ被膜の蒸着を行なう。このときのＡｔ
蒸着時間は、２分以下が望せしい。ヤ茅いて５ｉ０２お
よびＴｉＯ２被嘆の蒸着を行なうが、Ａｊ蒸発源の蒸発
は電気ｊＪＤ熱万式で行ない、後の蒸発源の蒸発は電子
ビーム加熱方式で行なう。続いて直ち（て真空槽を大気
圧（て戻し、製品をＪｎ熱・いて杓３０升間、４００″
Ｃで加熱し、その後１０分間冷却してＭＷ丁程を完了す
る。
ｄを制御でさるものが好ましく、をずその真空槽を約５
〉、コ０−３Ｐａ （Ｉ Ｔｏｒｒ−］３３Ｐａ ）の
直空度まで排気した後、酸素を約３〉、１０’Ｐａ″ｉ
で供給しながら５分間のイオンボンバードを行なう。そ
Ｑ後すぐ（て酸素の供給を止めて再び５〉、］０−３Ｐ
ａとした後、Ａｌ被膜の蒸着を行なう。このときのＡｔ
蒸着時間は、２分以下が望せしい。ヤ茅いて５ｉ０２お
よびＴｉＯ２被嘆の蒸着を行なうが、Ａｊ蒸発源の蒸発
は電気ｊＪＤ熱万式で行ない、後の蒸発源の蒸発は電子
ビーム加熱方式で行なう。続いて直ち（て真空槽を大気
圧（て戻し、製品をＪｎ熱・いて杓３０升間、４００″
Ｃで加熱し、その後１０分間冷却してＭＷ丁程を完了す
る。
第４図には、このような蒸着を行なうだめの真空蒸着装
置の一例が示されている。この装置］、ＯＫは光電式膜
厚モニターが備えられている。真空槽１１内には、下部
に電子ビーム加熱装置１２および抵抗加熱装置１３が配
設され、上部にモニターガラス１４を保持するドーム１
５およびシーズヒーター１６が配設されている。また、
矢印Ｊ７方向には図示されない拡散ポンプが接続されて
いる。光電式膜厚モニターは、モニターガラス】４に光
を照射するだめのランプ１８、レンズ１９、セクター２
０、ピンホール２】、レンズ２２、反射鏡２３とからな
る発光部と、モニターガラス１４力・らの反射光を受け
るための反射鏡２４、開口２５、レンズ２６、千ｉ９フ
ィルター２７、拡散フィルター２８ 、光’Ｋ 管２９
、選択増ＴＩ＠器３０．差動増幅器３１、メーター３２
とからなる受光部と、モニターガラス１４からの透過光
を受けるためのこの受光部と同様な構成のモニタ一部（
同様な部桐に１台１じ符硅にダッ／−をイ」シて表示し
である。）とからなる。受光部のメーター３２とモニタ
一部のメーター３２′との♂１；みを比較することによ
り、モニターガラス１４上の蒸着薄膜の厚さを１ｎ１１
定することができる。
置の一例が示されている。この装置］、ＯＫは光電式膜
厚モニターが備えられている。真空槽１１内には、下部
に電子ビーム加熱装置１２および抵抗加熱装置１３が配
設され、上部にモニターガラス１４を保持するドーム１
５およびシーズヒーター１６が配設されている。また、
矢印Ｊ７方向には図示されない拡散ポンプが接続されて
いる。光電式膜厚モニターは、モニターガラス】４に光
を照射するだめのランプ１８、レンズ１９、セクター２
０、ピンホール２】、レンズ２２、反射鏡２３とからな
る発光部と、モニターガラス１４力・らの反射光を受け
るための反射鏡２４、開口２５、レンズ２６、千ｉ９フ
ィルター２７、拡散フィルター２８ 、光’Ｋ 管２９
、選択増ＴＩ＠器３０．差動増幅器３１、メーター３２
とからなる受光部と、モニターガラス１４からの透過光
を受けるためのこの受光部と同様な構成のモニタ一部（
同様な部桐に１台１じ符硅にダッ／−をイ」シて表示し
である。）とからなる。受光部のメーター３２とモニタ
一部のメーター３２′との♂１；みを比較することによ
り、モニターガラス１４上の蒸着薄膜の厚さを１ｎ１１
定することができる。
Ｃのようにして形成された被膜全体の反射率Ｒは、次の
式から求めることができる。
式から求めることができる。
ここで、
であり、
＋１：Ａｌ被膜の屈折率（ｎ ＝ｎ −ｉｋ ）ｎＬ：
５ｉ０２被膜の屈折率 ｒ１＋Ｂ ＴｉＯ２＋Ｍ膜の屈折率 ｌ（：定数 Ｘ：被膜の組数 である。これらの式に実際の数値を代入すると次のよう
になる。
５ｉ０２被膜の屈折率 ｒ１＋Ｂ ＴｉＯ２＋Ｍ膜の屈折率 ｌ（：定数 Ｘ：被膜の組数 である。これらの式に実際の数値を代入すると次のよう
になる。
一方、アルミ合金のブランク平面を鏡面加工したときの
反射率Ｒ６は次の式から求１められる。
反射率Ｒ６は次の式から求１められる。
このように、超錆活切削加工したアルミブランクの鏡面
の反射率が約９０．７％［対し、その表面上に設けらえ
した蒸着被膜の反射率は約９７３す６にも高丑り、切削
鏡面の保護と反射率の向」二というこの発明の目的が、
ともに達成されること７５（理解される。
の反射率が約９０．７％［対し、その表面上に設けらえ
した蒸着被膜の反射率は約９７３す６にも高丑り、切削
鏡面の保護と反射率の向」二というこの発明の目的が、
ともに達成されること７５（理解される。
実際の試作品にお−では、切削鏡面の反射率は８９％で
あり、蒸着被膜の反射率は９５％で、ともに削算値より
も低いが、これによりこの発明の効果が減じられること
はいささかもない。
あり、蒸着被膜の反射率は９５％で、ともに削算値より
も低いが、これによりこの発明の効果が減じられること
はいささかもない。
上記実施例においては、暴利にアルミニウムを蒸着する
工程を含んでいるが、使用する暴利の状態や種類によっ
ては、この工程を省略することかでさる。また、酸化硅
素等の被膜形成方法としては、真空蒸着法に限られず、
（ヒ学的蒸着法（ＣＶＤ）、スパッタリング法、イオン
ブレーティング法等を使用することができる。さらに、
使用する基材は、アルミニウムやアルミニウム合金に限
定されることなく、ステンレスやニッケル合金等の金属
、さらにはプラスチックをも使用することができる。
工程を含んでいるが、使用する暴利の状態や種類によっ
ては、この工程を省略することかでさる。また、酸化硅
素等の被膜形成方法としては、真空蒸着法に限られず、
（ヒ学的蒸着法（ＣＶＤ）、スパッタリング法、イオン
ブレーティング法等を使用することができる。さらに、
使用する基材は、アルミニウムやアルミニウム合金に限
定されることなく、ステンレスやニッケル合金等の金属
、さらにはプラスチックをも使用することができる。
第１図は、この発明の方法により製造された回転多面鏡
の一例を示す平面図、第２図は、第１図の回転多面鏡の
部分拡大断面図、第３図は、この発明の方法の工程を概
略的に示す図、第４図は、Ｃの発明の方法を実施するだ
めの真空蒸着装置の一例を示す概略構成図である。 １・・・回転多面鏡、１ａ・・・反射面、２・Ａ６被膜
、３・・・５ｉ０２被膜、４・・・ＴｉＯ２被膜、１ｏ
・・真空蒸着装置、１２・・・電子ビーム加熱装置、１
３・・・抵抗加熱装置、１４・・・モニターガラス、１
５・・・ドーム。 価つ図
の一例を示す平面図、第２図は、第１図の回転多面鏡の
部分拡大断面図、第３図は、この発明の方法の工程を概
略的に示す図、第４図は、Ｃの発明の方法を実施するだ
めの真空蒸着装置の一例を示す概略構成図である。 １・・・回転多面鏡、１ａ・・・反射面、２・Ａ６被膜
、３・・・５ｉ０２被膜、４・・・ＴｉＯ２被膜、１ｏ
・・真空蒸着装置、１２・・・電子ビーム加熱装置、１
３・・・抵抗加熱装置、１４・・・モニターガラス、１
５・・・ドーム。 価つ図
Claims (1)
- 基材表面に酸化硅素被膜を形成することと、前記酸化硅
素被膜上に酸化チタン被膜を形成することとを含む高反
射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13160982A JPS5922003A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 高反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13160982A JPS5922003A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 高反射鏡の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5922003A true JPS5922003A (ja) | 1984-02-04 |
Family
ID=15062060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13160982A Pending JPS5922003A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 高反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5922003A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01104760A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-21 | Canon Inc | 基板処理によるレーザー用高耐力膜の製造方法 |
| US5907766A (en) * | 1996-10-21 | 1999-05-25 | Electric Power Research Institute, Inc. | Method of making a solar cell having improved anti-reflection passivation layer |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5424046A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-23 | Canon Inc | Reflecting mirror |
-
1982
- 1982-07-28 JP JP13160982A patent/JPS5922003A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5424046A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-23 | Canon Inc | Reflecting mirror |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01104760A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-21 | Canon Inc | 基板処理によるレーザー用高耐力膜の製造方法 |
| US5907766A (en) * | 1996-10-21 | 1999-05-25 | Electric Power Research Institute, Inc. | Method of making a solar cell having improved anti-reflection passivation layer |
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