JPS5924806A - 光導波路の表面処理法 - Google Patents
光導波路の表面処理法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は光２！−波路の表面処理法に関し、導波路表
面の凹凸、キズ等によるハ（乱によって引き起こされる
損失を低減し、内Ｉ波路の光伝送特性を向」−さＵ′る
ことをＬ１的とする。
面の凹凸、キズ等によるハ（乱によって引き起こされる
損失を低減し、内Ｉ波路の光伝送特性を向」−さＵ′る
ことをＬ１的とする。
従来、光等波路の作成方法として
１ ） 基板に所望のパターンマスクをｈｉ＋ｉ Ｌ
、 、エツチングする。
、 、エツチングする。
２）液状・半Ｌｌ ｆｊ状の光硬化性樹脂をマスクを通
して露光、硬化させ非硬化部を溶出させる。
して露光、硬化させ非硬化部を溶出させる。
３）金型を用いＡＪ１成ノ３加工する。
等の方法が知られている。
しかしながら、１） 、 ２） の場合、エツチングを
行って形成した導波路端面は、平滑面が得られず数ミク
ロン程度の微細な凹凸が出来る。又、３）においても金
型表面を光の波長以下に平滑に仕上げ維持することは雌
かしく、成形加工されたｊ９９波路面には凹凸、キズが
避りられない。
行って形成した導波路端面は、平滑面が得られず数ミク
ロン程度の微細な凹凸が出来る。又、３）においても金
型表面を光の波長以下に平滑に仕上げ維持することは雌
かしく、成形加工されたｊ９９波路面には凹凸、キズが
避りられない。
該、導波１１′＋’！表面の凹凸、キズは、伝送光を散
乱さＵ゛て、損失を大きくする為、これら導波路をその
ま１のノし’ｃｌ用いることには実用上問題がある。
乱さＵ゛て、損失を大きくする為、これら導波路をその
ま１のノし’ｃｌ用いることには実用上問題がある。
この発明は以上の事実１ト鑑みてｆｊされたもので前述
の如く導波路表面の凹凸、キズに因る光の導波損失を低
Ｍした表面処理法の提供をするものである。
の如く導波路表面の凹凸、キズに因る光の導波損失を低
Ｍした表面処理法の提供をするものである。
以下、この発明を詳説する。
この発明に依って処理される導波路は特に制限なく、種
々の方法に依って得られた導波路が対象となる。そして
この導波路の表面に皮膜をル成した時点での屈折率が導
波路を構成する拐質の屈折率と同等なる樹脂を主成分と
する溶液を塗布し、ｒｔψ岐の表向張力を利用して平削
な樹脂皮１１ζ１を形成する。この平？’ｉｋ ｆ（樹
脂皮１模にＪ、って、導波路自体につい−Ｃいた凹凸や
−１−ズが１νｌわれかつ凹凸表面との界面では反射が
おこらず光の導波損失か低下する。ここで用いられる樹
脂の溶液としては皮膜形成後の透明性に優れ、導波路の
１質と密着性の高いものが用いられる。具体的にはいわ
ゆる樹脂、オリゴマ、又はモノマーと架橋剤、希釈剤６
重合開始剤１増減剤、溶剤等必要に応じてｊ３（加され
た混合物である。さらに樹脂皮膜をル成する（☆］詣。
々の方法に依って得られた導波路が対象となる。そして
この導波路の表面に皮膜をル成した時点での屈折率が導
波路を構成する拐質の屈折率と同等なる樹脂を主成分と
する溶液を塗布し、ｒｔψ岐の表向張力を利用して平削
な樹脂皮１１ζ１を形成する。この平？’ｉｋ ｆ（樹
脂皮１模にＪ、って、導波路自体につい−Ｃいた凹凸や
−１−ズが１νｌわれかつ凹凸表面との界面では反射が
おこらず光の導波損失か低下する。ここで用いられる樹
脂の溶液としては皮膜形成後の透明性に優れ、導波路の
１質と密着性の高いものが用いられる。具体的にはいわ
ゆる樹脂、オリゴマ、又はモノマーと架橋剤、希釈剤６
重合開始剤１増減剤、溶剤等必要に応じてｊ３（加され
た混合物である。さらに樹脂皮膜をル成する（☆］詣。
オリゴマ、又はモノマーを示すと不飽和ポリエステル樹
脂、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタ
ンアクリレ−］・樹１１ｉ？ 、シリコン樹脂等の熱硬
化、光硬化型、又は（メタ）アクリル酸エステル樹脂溶
７１に、ポリエステル閘脂溶ｉｔ￥ 、ポリカーボネー
ト樹脂１ｉ； ＩＩＭ等が用いられる。
脂、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタ
ンアクリレ−］・樹１１ｉ？ 、シリコン樹脂等の熱硬
化、光硬化型、又は（メタ）アクリル酸エステル樹脂溶
７１に、ポリエステル閘脂溶ｉｔ￥ 、ポリカーボネー
ト樹脂１ｉ； ＩＩＭ等が用いられる。
塗布方法、厚みについて説明すると、共に限定する主旨
で（Ｊなく、最低限、導波路表面の凹凸。
で（Ｊなく、最低限、導波路表面の凹凸。
キズがかくれる程度あれば良く通常数十ミクロン−数百
ミクロンが目安である。伶布方法としては、樹脂溶液へ
の含浸、ハゲ塗り１吹きつり等の方法か用いられる。
ミクロンが目安である。伶布方法としては、樹脂溶液へ
の含浸、ハゲ塗り１吹きつり等の方法か用いられる。
以下、この発明の実施例を示す。
実施例１
！７）１図に示す如く、胎当なウレタンアクリレート系
の１１＆光１ｄ樹脂１を表面下１１゛１な基板２上に塗
布し、マスク３を合わせて９−２外線露）’６を行い、
υ（いてアルカリｊ−ツチングすることによって第２図
に示す厚さ、 Ｉｌｌ Ｏ，８ｍｍの直Ｈ，”＋’、状
；’ｊｉ ’１）Ｉｉ路４４作ｐ、ｖ Ｌ だ。
の１１＆光１ｄ樹脂１を表面下１１゛１な基板２上に塗
布し、マスク３を合わせて９−２外線露）’６を行い、
υ（いてアルカリｊ−ツチングすることによって第２図
に示す厚さ、 Ｉｌｌ Ｏ，８ｍｍの直Ｈ，”＋’、状
；’ｊｉ ’１）Ｉｉ路４４作ｐ、ｖ Ｌ だ。
次いでｆｌ） ：１ ［ｇｌに示す如く得られた導波路
の表面線７′ｋ）ｖ〕を１ｊつだ。さらに該−！９波路
１１をシリコン樹１１旨で）ツいクラ゛ント創（ＩＩ
５としｊこ。
の表面線７′ｋ）ｖ〕を１ｊつだ。さらに該−！９波路
１１をシリコン樹１１旨で）ツいクラ゛ント創（ＩＩ
５としｊこ。
実施例２
ポリメヂルメタクリ【／−１・樹１指屈折率１．４９を
金！１′Ｊ、を用いて加熱、加圧成ルすることにより、
−［・図に示す分岐型形状の導波路を得た。該、分岐型
導波路を、水性アクリルエマルジョン溶ｌｊｋ中に浸（
Ａ’を後、垂直に保持し、６０℃１３時間乾燥を行い３
０〜７０ ｍμの皮１１／、ｉ屈折率１．４９を表面に
形成さ−Ｕ“だ。
金！１′Ｊ、を用いて加熱、加圧成ルすることにより、
−［・図に示す分岐型形状の導波路を得た。該、分岐型
導波路を、水性アクリルエマルジョン溶ｌｊｋ中に浸（
Ａ’を後、垂直に保持し、６０℃１３時間乾燥を行い３
０〜７０ ｍμの皮１１／、ｉ屈折率１．４９を表面に
形成さ−Ｕ“だ。
次いで、該分岐型導波路をシリコン樹脂中に注型［７ク
ラツド層をル［戊した。
ラツド層をル［戊した。
実施例３
実施例１のウレタンアクリレート系感光性樹脂の代わり
に、透明な不飽和ポリエステル系感光性樹脂を用い、同
様の操作を行い、厚さ１幅０．８ ｏｈｍの直線状導波
路を作成した。この導波路の屈折率は１．５４であった
。
に、透明な不飽和ポリエステル系感光性樹脂を用い、同
様の操作を行い、厚さ１幅０．８ ｏｈｍの直線状導波
路を作成した。この導波路の屈折率は１．５４であった
。
次いて得られた導波路の表面及び−’Ｊ−ｒドエツチｉ
ｌｌ≦に導波路の材Ｔ【とは）“ｒ％ ｆｌるが、硬化
後の屈ＩＩｉ率が１．５４と導波路の屈折率と同等ｆｆ
るエポ・トシ樹脂溶液（エポキシ希釈剤、ｌ・１１エチ
レン、テトラミンの混り物）を塗布し４０℃で２時間１
θ！化させ０．１〜０２ Ｉｌｋμの皮膜を形成した。
ｌｌ≦に導波路の材Ｔ【とは）“ｒ％ ｆｌるが、硬化
後の屈ＩＩｉ率が１．５４と導波路の屈折率と同等ｆｆ
るエポ・トシ樹脂溶液（エポキシ希釈剤、ｌ・１１エチ
レン、テトラミンの混り物）を塗布し４０℃で２時間１
θ！化させ０．１〜０２ Ｉｌｋμの皮膜を形成した。
この後、該導波路をシリコン樹ｆｌｉｔ （屈折率１．
４３）で覆いクラッド層をＪｌジ成した。
４３）で覆いクラッド層をＪｌジ成した。
比較例１〜３
実施例１〜３においてそれぞれ導波路ル成後、導波路表
面の処す１１を行わず、直接クラッド層を形１戊 し７
ｌこ。
面の処す１１を行わず、直接クラッド層を形１戊 し７
ｌこ。
実施例１〜：３．、ｌｔ較例１〜：うて作１戊した光？
−１：１波路の損失をカットバック方式により１ｌｌｌ
ｌ定した。この結果を下表１こ示す。
−１：１波路の損失をカットバック方式により１ｌｌｌ
ｌ定した。この結果を下表１こ示す。
（光源、スタンレーネ１の赤色１寸’、１） 、 ７
（＋ノーメータは安置電機ＯＩ’Ｍ−ＩＱ（Ｔを月］い
た）以Ｊユの結果１ζ−より、この発明に依る表面処理
法を採用すると導波損失が低減させることが明白である
。
（＋ノーメータは安置電機ＯＩ’Ｍ−ＩＱ（Ｔを月］い
た）以Ｊユの結果１ζ−より、この発明に依る表面処理
法を採用すると導波損失が低減させることが明白である
。
なお、Ｍ、ζ液損失の測定については第５図に示−４−
測定系で行った。
測定系で行った。
ここで第５図について示すとＡＩＪ光諒Ｌ Ｅ ｊ）、
Ｂはダミーファイバー、ＣＩＪ導波路、■）は受光ファ
イバー、Ｅはパワーメータ、Ｆは表示部であり、ダミー
ファ・ｒバーＩＳの光１ｉｔＰ ｏと受光ブｒイバーＵ
の光ｈ・［の比をｄλ導波路長さによって測定して行つ
ゾこ。
Ｂはダミーファイバー、ＣＩＪ導波路、■）は受光ファ
イバー、Ｅはパワーメータ、Ｆは表示部であり、ダミー
ファ・ｒバーＩＳの光１ｉｔＰ ｏと受光ブｒイバーＵ
の光ｈ・［の比をｄλ導波路長さによって測定して行つ
ゾこ。
第１図乃至第４図はこの発明の方法の実施の形態を具体
的に示す各工程におりる導波路の断面図で、ｆ８５図は
導波損失の測定系を示す略図である。 代理人弁理士 竹 元 敏 丸 （ほか２名）
的に示す各工程におりる導波路の断面図で、ｆ８５図は
導波損失の測定系を示す略図である。 代理人弁理士 竹 元 敏 丸 （ほか２名）
Claims (1)
- ｊ７７波路の表面１こ、流動性を有する樹脂を主成分と
する溶液を塗布して該ｕ１波路の屈折率と同等の屈折率
を有する平滑な樹脂皮膜を形成することを特徴ｃＩ：す
る導波路表１ｈｉの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13498082A JPS5924806A (ja) | 1982-07-31 | 1982-07-31 | 光導波路の表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13498082A JPS5924806A (ja) | 1982-07-31 | 1982-07-31 | 光導波路の表面処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5924806A true JPS5924806A (ja) | 1984-02-08 |
Family
ID=15141100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13498082A Pending JPS5924806A (ja) | 1982-07-31 | 1982-07-31 | 光導波路の表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924806A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1985000431A1 (fr) * | 1983-07-08 | 1985-01-31 | Hitachi, Ltd. | Circuit optique integre |
| JPS6289909A (ja) * | 1985-10-16 | 1987-04-24 | Yokogawa Electric Corp | 光導波路の形成方法 |
| JPS6397906A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-28 | Hitachi Ltd | 導波路型光フイルタ |
| EP0358414A3 (en) * | 1988-09-03 | 1991-03-27 | Gec-Marconi Limited | Optical waveguide |
| JPH03158802A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-08 | Hitachi Cable Ltd | 光導波路及びその製造方法 |
| EP1385027A1 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-28 | Nitto Denko Corporation | Process of producing polymer optical waveguide |
| US20120114280A1 (en) * | 2010-11-10 | 2012-05-10 | Xyratex Technology Limited | Optical printed circuit board and a method of manufacturing an optical printed circuit board |
-
1982
- 1982-07-31 JP JP13498082A patent/JPS5924806A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
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| US9247638B2 (en) * | 2010-11-10 | 2016-01-26 | Xyratex Technology Limited | Optical printed circuit board and a method of manufacturing an optical printed circuit board |
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