JPS5928028Y2 - ガスサンプリング装置のランス軸受 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はランスの傾斜時にもランスの片当りを起こさせ
ることなくかつ炉内ダストのシール装置への持込み防止
を可能ならしめるガスサンプリング装置のランス軸受に
関する。

従来の高炉のガスサンプリング装置では、第４図に示す
ように、ランス１０１の駆動装置（図示されず）は櫓（
図示されず）に支持され、かつランス軸受１０２は炉体
１０３に支持されている。

櫓と炉体１０３との熱膨張量は日々刻々と変化し、その
ためランス駆動装置側のランス１０１の中心レベルとラ
ンス軸受１０２に支持された点でのランス１０１の中心
レベルとの間にズレが生じ、第４図に２点鎖線で示すよ
うに、ランス１０１はランス軸受１０２に対して傾斜し
、片当り１０４の状態となる。

これはランス１０１の駆動装置のレベルは調整可能では
あるが、火入後に一度調整するだけで日々刻々と変化す
る上記の両者のレベル差は調整できないからである。

ランス１０１は炉内原料の降下により大きい荷重１０５
を受けるため、ランス軸受１０２の長さｌを太きくして
ランス軸受１０２の単位長さ当りの荷重を軽減しようと
するが、実際には上述したように、片当りの状態となり
、局部的に大きな荷重を受けるため、ランス１０１およ
びランス軸受１０２の磨耗が激しくなる。

また、ランス１０１の傾斜を許容するために、ランス軸
受１０２の内径は長穴となっており、そのため上部の隙
間を通って炉内１のダストが後方のシール装置（図示さ
れず）に持ち込まれるという欠点がある。

本考案は上記の従来のランス軸受の欠点を解決し、ラン
スの傾斜時にもランスの片当りを起コさせることなく、
かつ炉内ダストのシール装置への持込み防止を可能なら
しめるガスサンプリング装置のランス軸受を提供するも
ので、その要旨とするところは、軸受を、ランスの長手
方向にかつ該ランスの相対する側面に沿って、上下に二
分割して上部軸受と下部軸受とにするとともに該上部軸
受と該下部軸受の分割面間に沿って該ランスの長手方向
に隙間を形成せしめ、該上部軸受を正常時には該ランス
表面と接触せしめるとともに該下部軸受の外周下面を水
平面に対する該ランスの傾斜に追従可能なＲ面とし、か
つ軸受台の上面を該下部軸受のＲ面と摺動可能ならしめ
たことを特徴とするガスサンプリング装置のランス軸受
、にある。

次に、本考案を図面によって説明する。

第１図は本考案の一実施例を組み込んだガスサンプリン
グ装置の全体配置図、第２図は第１図の実施例の詳細図
、第３図は第２図のＡ−Ａ断面図である。

第１図及び第２図において、ランス１は櫓１１上にジヤ
ツキ１０により調整可能に支持されたガイドフレーム９
とガイドフレーム９上に固定されたシリンダー８とガイ
ドフレーム９上を走行するランス台車７とよりなるラン
ス駆動装置により水平に前後進する仕組である。

炉体の鉄皮３には本考案のランス軸受２１を内蔵した軸
受部４が固着されている。

軸受部４のケーシング１２の炉外側には仕切弁５及び伸
縮管６が接続し、伸縮管６には炉内ガスのシール装置（
図示されず）が内蔵されている。

ガイドフレーム９に作用するシリンダー８の反力は鉄皮
３に固着されたブラケット２０を介し鉄皮３で支持され
る。

なお、ガイドフレーム９とブラケット２０は上下方向に
移動可能に滑合されている。

本考案のランス軸受２１は、ランス１の長手方向にかつ
ランス１の相対する側面に沿って、上下に二分割されて
上部軸受１７と下部軸受１８とになっており、上部軸受
１７と下部軸受１８との間にランス１の長手方向にわず
かな隙間２２を形成している。

この上部軸受１７は正常運転時にはいつも自重によりラ
ンス１の表面に接触している。

すなわち、上部軸受１７はランス１の表面に乗っている
。

一方、下部軸受１８はその外周下面を水平面に対するラ
ンス１の傾斜に追従可能なＲ面（凸面）とし、かつ軸受
台１９の上面は下部軸受１８の外周下面のＲ面（凸面）
と摺動可能、すなわち下部軸受１８のＲ面（凸面）と同
一寸法の半径を有する凹面であるという構成である。

１３は上方向のストッパー、１４，１５．１６は水平方
向のストッパーであって、それぞれ本考案のランス軸受
２１の動きを規制している。

次に、上記の構成による作用を述べる。

櫓１１と鉄皮３の熱膨張差によるランス駆動装置側のラ
ンス１の中心と本ランス軸受２１側のランス１の中心と
のレベル差により、ランス１が第２図の２点鎖線で示す
ように傾斜すると、上部軸受１７および下部軸受１８は
ランス１の傾斜に追従し、２点鎖線で示すように回転す
る。

従って、ランス１が傾斜しても、ランス１と下部軸受１
８とは片当りすることなく、下部軸受１８の全長でラン
ス１の荷重を受けるため、接触部の面圧が大幅に低下し
、ランス１及び下部軸受１８の磨耗は著しく減少し、寿
命の延長が可能となる。

また、本考案のランス軸受２１は上下に２分割されてい
て、上部軸受１７は上述したように正常運転時にはつね
に自重によりランス１と接触しているのでダストワイパ
ーの役目をするとともに、ランス１に炉内原料のランス
１上に炉内原料の溶融物が付着した場合には該溶融物の
高さに応じて、上部軸受１７は上方に押し上げられ、す
なわち上部軸受１７は上方向に逃げ、隙間２２も広くな
るのでランス１を引抜くことができる。

ランス１に付着した溶融物は上部軸受１７を通過してし
まうと、上部軸受１７は再び自重によりランス１の上に
乗った状態となり、ダストワイパーの役目をする。

すなわち、軸受２１は上、下に二分割されているので、
上部軸受１Ｔは正常時にはランス１上に自重により密着
してダストワイパーの役目をし、非常時には上方に逃げ
てランス１の引出しを可能とするものである。

近年使用され始めた高炉のシャフト下部ガスサンプリン
グ装置においては原料による荷重が非常に大きく、かつ
融着帯（炉内原料が溶融滴下する部分）での溶融物の付
着があるため、特に上記構成の本考案のランス軸受の効
果は大きい。

本考案の効果は次の通りである。

（１）本考案のランス軸受はランスに追従することがで
きるので、ランスが傾斜してもランスとの片当りが起る
ことなく、全長でランスを支持するため、ランスとの接
触部の面圧が大幅に低下し、ランスをも含めて磨耗が著
しく減少し、長寿命化を可能とする。

（２）本考案のランス軸受は上下に２分割され、上部軸
受はつねにランスと接触しているので、ダストワイパー
の役目を果して炉内ダストがシール装置に入るのを防止
するとともにランスに炉内原料の溶融物が付着した場合
でも上部軸受が上方向に逃げるため、ランスを引き抜く
ことができ、ランスの水平移動を確保できる。

本考案のランス軸受は竪型炉、特に高炉のガスサンプリ
ング装置およびＣＤＱの冷却塔のガスサンプリング装置
に適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を組み込んだガスサンプリン
グ装置の全体配置図、第２図は第１図の実施例の詳細図
、第３図は第２図のＡ −Ａ断面図、第４図は従来のガ
スサンプリング装置のランス軸受の一例の詳細図である
。 図において、１・・・・・・ランス、２・・・・・・耐
火物、３・・・・・・鉄皮、４・・・・・・軸受部、５
・・・・・・仕切弁、６・・・・・・伸縮管、７・・・
・・・ランス台車、８・・・・・・シリンダー、９・・
・・・・ガイドフレーム、１０・・・・・・ジヤツキ、
１１・・・・・・櫓、１２・・・・・・ケーシング、１
３，１４，１５゜１６・・・・・・ストッパー １７・
・・・・・上部軸受、１８・°。 ・・・下部軸受、１９・・・・・・軸受台、２０・・・
・・・ブラケット、２１・・・・・・本考案のランス軸
受、２２・・・・・・隙間、１０１・・・・・・ランス
、１０２・・・・・・ランス軸受、１１０３・・・・・
・炉体、１０４・・・・・・片当り部分、１０５・・・
・・・荷重、■・・・・・・炉内、ＩＩ・・・・・・炉
外。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 軸受を、ランスの長手方向にかつ該ランスの相対する側
   面に沿って、上下に二分割して上部軸受と下部軸受とに
   するとともに、該上部軸受と該下部軸受の分割面間に沿
   って該ランスの長手方向に隙間を形成せしめ、該上部軸
   受を正常時には該ランス表面と接触せしめるとともに該
   下部軸受の外周下面を水平面に対する該ランスの傾斜に
   追従可能なＲ面とし、かつ軸受台の上面を該下部軸受の
   Ｒ面と摺動可能ならしめたことを特徴とするガスサンプ
   リング装置のランス軸受。