JPS5931396B2 - 溶存酸素除去法 - Google Patents
溶存酸素除去法Info
- Publication number
- JPS5931396B2 JPS5931396B2 JP8948781A JP8948781A JPS5931396B2 JP S5931396 B2 JPS5931396 B2 JP S5931396B2 JP 8948781 A JP8948781 A JP 8948781A JP 8948781 A JP8948781 A JP 8948781A JP S5931396 B2 JPS5931396 B2 JP S5931396B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dissolved oxygen
- naphthoquinone
- oxygen
- water
- derivatives
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水中の溶存酸素を除去する方法に関するもので
あり、更に詳しくは脱酸素剤として一般１ ＼ 式 ／Ｎ−０Ｈ（式中Ｒ□、Ｒ２は水素又は炭２ 素数３以下のアルキル基を示す。
あり、更に詳しくは脱酸素剤として一般１ ＼ 式 ／Ｎ−０Ｈ（式中Ｒ□、Ｒ２は水素又は炭２ 素数３以下のアルキル基を示す。
）で示されるヒドロキシルアミン類又はその塩類から選
ばれた一種又は二種以上を用い、活性化剤として三価フ
ェノール類及びその誘導体、ナフトキノン類及びその誘
導体又はアントラキノン類及びその誘導体から選ばれた
一種又は二種以上を用いて、水中の溶存酸素を除去する
方法に関するものである。
ばれた一種又は二種以上を用い、活性化剤として三価フ
ェノール類及びその誘導体、ナフトキノン類及びその誘
導体又はアントラキノン類及びその誘導体から選ばれた
一種又は二種以上を用いて、水中の溶存酸素を除去する
方法に関するものである。
水中の溶存酸素の除去は工業的に多くの分野で行なわれ
ており、特に水と接する鉄及び鋼の防食を目的に多数行
なわれている。
ており、特に水と接する鉄及び鋼の防食を目的に多数行
なわれている。
この他空気酸化を受は易Ｘ、旬質を含む水溶液の安定化
、化学反応系の酸化防止等の目的で行なわれている。
、化学反応系の酸化防止等の目的で行なわれている。
溶存酸素を含む水溶液は鉄及び鋼な容易に酸化し、腐食
による事故発生の原因となっている事は周知の通りであ
る。
による事故発生の原因となっている事は周知の通りであ
る。
鉄及び鋼の防食な目的とした水中の溶存酸素の除去はボ
イラ関係、例えばボイラ給水、ボイラ缶水、休止ボイラ
の満水保存、缶内のソーダ煮、アルカリ洗滌及び中和処
理等で行なわれており、この細密閉式冷却水系等でも行
なわれている。
イラ関係、例えばボイラ給水、ボイラ缶水、休止ボイラ
の満水保存、缶内のソーダ煮、アルカリ洗滌及び中和処
理等で行なわれており、この細密閉式冷却水系等でも行
なわれている。
これ等水中の溶存酸素の除去に、従来より脱酸素剤とし
てヒドラジン及び亜硫酸ソーダが主に使用されている。
てヒドラジン及び亜硫酸ソーダが主に使用されている。
又ヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等
も提案されている。
も提案されている。
ヒドラジンは３００℃以上の高温、例えば高圧ボイラ等
、では充分な脱酸素効果が得られるが、２００℃以下、
例えば中・低圧ボイラ、缶内のソーダ煮、更に常温で行
う缶内のアルカリ洗滌及び中和処理、休止ボイラの満水
保存、密閉式冷却水等では溶存酸素との反応速度が著し
く遅く充分な脱酸素効果は得られない。
、では充分な脱酸素効果が得られるが、２００℃以下、
例えば中・低圧ボイラ、缶内のソーダ煮、更に常温で行
う缶内のアルカリ洗滌及び中和処理、休止ボイラの満水
保存、密閉式冷却水等では溶存酸素との反応速度が著し
く遅く充分な脱酸素効果は得られない。
そのためにヒドラジンの活性化剤としχ多数の物質が提
案されているが、活性化作用が不充分又は活性化作用は
良好であっても二次的に鉄及び鋼の腐食の原因となる等
の欠点があり、これまで充分満足すべき活性化剤が見出
されていない。
案されているが、活性化作用が不充分又は活性化作用は
良好であっても二次的に鉄及び鋼の腐食の原因となる等
の欠点があり、これまで充分満足すべき活性化剤が見出
されていない。
亜硫酸ソーダは溶存酸素との反応速度、脱酸素効果共に
良好であるが、反応生成物が硫酸ソーダとなるために、
用水の種類によっては装置内でスケールの生成する惧れ
がある。
良好であるが、反応生成物が硫酸ソーダとなるために、
用水の種類によっては装置内でスケールの生成する惧れ
がある。
特にボイラ給水等に於てはスケール生成原因となり、又
固体残渣が生ずる等の欠点がある。
固体残渣が生ずる等の欠点がある。
又ヒドロキシルアミン又はジエチルヒドロキシルアミン
は、特に１００℃以下の低温に於ては溶存酸素との反応
速度が遅く、充分な脱酸素効果が得られない等の欠点が
ある。
は、特に１００℃以下の低温に於ては溶存酸素との反応
速度が遅く、充分な脱酸素効果が得られない等の欠点が
ある。
そのために、活性化剤として銅イオンを添加する方法が
提案されているが、添加した銅イオンが、鉄又は鋼とイ
オン置換反応をし、装置内へ付着し、二次的に装置の腐
食の原因となる等の欠点があり、実用的なものではない
。
提案されているが、添加した銅イオンが、鉄又は鋼とイ
オン置換反応をし、装置内へ付着し、二次的に装置の腐
食の原因となる等の欠点があり、実用的なものではない
。
本発明者は従来の脱酸素剤による溶存酸素除去法の持つ
欠点を解決すべく鋭意検討した結果、常温にても迅速に
しかも効率よく溶存酸素を除去する義ができ、加えて残
渣やスケールの生成もなく、二次的な腐食な引き起こす
惧れもない効果の顕著な本発明を完成するに至った。
欠点を解決すべく鋭意検討した結果、常温にても迅速に
しかも効率よく溶存酸素を除去する義ができ、加えて残
渣やスケールの生成もなく、二次的な腐食な引き起こす
惧れもない効果の顕著な本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は脱酸素剤としてヒドロキシルアミン類又
はその塩類から選ばれた一種又は二種以上を用い、活性
化剤として三価フェノール類及びその誘導体、ナフトキ
ノン類及びその誘導体並びにアントラキノン類及びその
誘導体から選ばれた一種又は二種以上を用いて、水中の
溶存酸素を除去する方法を提供するものである。
はその塩類から選ばれた一種又は二種以上を用い、活性
化剤として三価フェノール類及びその誘導体、ナフトキ
ノン類及びその誘導体並びにアントラキノン類及びその
誘導体から選ばれた一種又は二種以上を用いて、水中の
溶存酸素を除去する方法を提供するものである。
本発明で脱酸素剤として用いられる一般式゛＼、−８□
。
。
え、。０２．２゜、よ素え３□え素。Ｒ２／
３以下のアルキル基を示す）で示されるヒドロキシルア
ミン類としては、例えば、ヒドロシルアミン、Ｎ−メチ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドロキシル
アミン、Ｎ−メチル、Ｎ−エチルヒドロキシルアミン、
Ｎ−エチルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジプロピルヒドロキシルアミ
ン等がある。
ミン類としては、例えば、ヒドロシルアミン、Ｎ−メチ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドロキシル
アミン、Ｎ−メチル、Ｎ−エチルヒドロキシルアミン、
Ｎ−エチルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジプロピルヒドロキシルアミ
ン等がある。
ヒドロキシルアミン類の塩としては例えば、硫酸塩、硝
酸塩、塩酸塩、リン酸塩、スルファミノ酸塩、酢酸塩、
シュウ酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、スルホサリチ
ル酸塩、サリチル酸塩、クロル酢酸塩等がある。
酸塩、塩酸塩、リン酸塩、スルファミノ酸塩、酢酸塩、
シュウ酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、スルホサリチ
ル酸塩、サリチル酸塩、クロル酢酸塩等がある。
本発明で活性化剤として用いる三価フェノール類及びそ
の誘導体としては、例えば、ピロガロール、没食子酸、
タンニン酸、フロログルシン、フルズロガリン、ピロガ
ロール・１−メチルエーテル、ピロガロール・２−メチ
ルエーテル、クロログリシド、ジヒドロピロガロール、
炭酸ピロガロールへ４−（３，４，５−トリオキシフェ
ニル）１．２−ジオキシナフタリン、５−ニトロピロガ
ロール等がある。
の誘導体としては、例えば、ピロガロール、没食子酸、
タンニン酸、フロログルシン、フルズロガリン、ピロガ
ロール・１−メチルエーテル、ピロガロール・２−メチ
ルエーテル、クロログリシド、ジヒドロピロガロール、
炭酸ピロガロールへ４−（３，４，５−トリオキシフェ
ニル）１．２−ジオキシナフタリン、５−ニトロピロガ
ロール等がある。
ナフトキノン類及びその誘導体としては、例えば、１，
４−ナフトキノン、１，２−ナフトキノン、■、２−ナ
フトキノンー４−スルホン酸ソーダ、■、４−ナフトヒ
ドロキノン、１，２−ナフトヒドロキノン、２，６−ナ
フトキノン、３−クロル・１，２−ナフトキノン、ナフ
トプルプリン、５．８−ジヒドロ・１，４−ナフトキノ
ン、５゜６ 、７．８−テトラヒドロ、■、４−ナフト
キノン、３，４−ジヒドロキシ・１，４−ナフトキノン
、４−アミノ・１，２−ナフトキノン、２−アミノ・１
，４−ナフトキノン、４−ベンジル・１゜２−ナフトキ
ノン、２−メチル・１，４−ナフトキノン、２−メチル
・１，４−ナフトキノン・３−スルホン酸ソーダ、２，
３−ジメチル・１，４−ナフトキノン、２，７−ジメチ
ル・１，４−ナフトキノン、２−クロル・１，４−ナフ
トキノン、２．３−ジクロル・１，４−ナフトキノン、
３−メチル・１，２−ナフトキノン、４−メチル・１゜
２−ナフトキノン、５−メチル・１，２−ナフトキノン
、３，６−ジメチル・１，２−ナフトキノン、３，４．
８−トリメチル・１，２−ナフトキノン、４−クロル・
１，２−ナフトキノン、２−ヒドロキシ・１，４−ナフ
トキノン、ニゲロン、３−アミノ・２−ヒドロキシ・１
，４−ナフトキノン、２，３−ジオキシ・１，４−ナフ
トキノン、５．８−ジヒドロキシ・１，４−ナフトキノ
ン、１．４，５，８−ナフトキノン等がある。
４−ナフトキノン、１，２−ナフトキノン、■、２−ナ
フトキノンー４−スルホン酸ソーダ、■、４−ナフトヒ
ドロキノン、１，２−ナフトヒドロキノン、２，６−ナ
フトキノン、３−クロル・１，２−ナフトキノン、ナフ
トプルプリン、５．８−ジヒドロ・１，４−ナフトキノ
ン、５゜６ 、７．８−テトラヒドロ、■、４−ナフト
キノン、３，４−ジヒドロキシ・１，４−ナフトキノン
、４−アミノ・１，２−ナフトキノン、２−アミノ・１
，４−ナフトキノン、４−ベンジル・１゜２−ナフトキ
ノン、２−メチル・１，４−ナフトキノン、２−メチル
・１，４−ナフトキノン・３−スルホン酸ソーダ、２，
３−ジメチル・１，４−ナフトキノン、２，７−ジメチ
ル・１，４−ナフトキノン、２−クロル・１，４−ナフ
トキノン、２．３−ジクロル・１，４−ナフトキノン、
３−メチル・１，２−ナフトキノン、４−メチル・１゜
２−ナフトキノン、５−メチル・１，２−ナフトキノン
、３，６−ジメチル・１，２−ナフトキノン、３，４．
８−トリメチル・１，２−ナフトキノン、４−クロル・
１，２−ナフトキノン、２−ヒドロキシ・１，４−ナフ
トキノン、ニゲロン、３−アミノ・２−ヒドロキシ・１
，４−ナフトキノン、２，３−ジオキシ・１，４−ナフ
トキノン、５．８−ジヒドロキシ・１，４−ナフトキノ
ン、１．４，５，８−ナフトキノン等がある。
アントラキノン類及びその誘導体としては例えば、アン
トラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルア
ントラキノン、アントラキノフキβ−カルボン酸、アン
トラキノン・１−スルホン酸ソーダ、アントラキノン・
２−スルホン酸ソーダ、アントラキノン・１，８−ジス
ルホン酸ソーダ、アントラキノン・２，６−ジスルホン
ソーダ、１−アミノ・４−ヒドロキシアントラキノン、
１゜４−ジヒドロキシアントラキノン、１，５−ジヒド
ロキシアントラキノン、キニザリン、アントラガロール
、アントラガロール、プルプリン、２−アミノアントラ
キノン、１，２−ジアミノアントラキノン、１，４−ジ
アミノアントラキノン、１゜５−ジアミノアントラキノ
ン、２，６−ジアミノアントラキノン、ロイコキニザリ
ン、アリザリン・５−スルホン酸ソーダ、２−クロルア
ントラキノン、１，４−ジヒドロキシ・５，８−ジクロ
ルアントラキノン等がある。
トラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルア
ントラキノン、アントラキノフキβ−カルボン酸、アン
トラキノン・１−スルホン酸ソーダ、アントラキノン・
２−スルホン酸ソーダ、アントラキノン・１，８−ジス
ルホン酸ソーダ、アントラキノン・２，６−ジスルホン
ソーダ、１−アミノ・４−ヒドロキシアントラキノン、
１゜４−ジヒドロキシアントラキノン、１，５−ジヒド
ロキシアントラキノン、キニザリン、アントラガロール
、アントラガロール、プルプリン、２−アミノアントラ
キノン、１，２−ジアミノアントラキノン、１，４−ジ
アミノアントラキノン、１゜５−ジアミノアントラキノ
ン、２，６−ジアミノアントラキノン、ロイコキニザリ
ン、アリザリン・５−スルホン酸ソーダ、２−クロルア
ントラキノン、１，４−ジヒドロキシ・５，８−ジクロ
ルアントラキノン等がある。
本発明の活性化剤はいかなるｐＨに於てもその活性化作
用は認められるが、特に中性乃至アルカリ性に於てその
作用は犬である。
用は認められるが、特に中性乃至アルカリ性に於てその
作用は犬である。
本発明の活性化剤の添加量はいかなる量でもその作用は
認められるが、好ましくは被処理水に対して帆０１〜１
００ＴＩＩ！／ｌであり、通常０．１〜１０■／ｌで充
分である。
認められるが、好ましくは被処理水に対して帆０１〜１
００ＴＩＩ！／ｌであり、通常０．１〜１０■／ｌで充
分である。
又対ヒドロキシルアミン類添加量では重量比で好ましく
は０．０００１〜２０％である。
は０．０００１〜２０％である。
活性化剤の添加方法はそのまま又は溶液として添加する
事もできるが、前身って脱酸素剤と必要な割で調合して
おき、これを添加する事もできる。
事もできるが、前身って脱酸素剤と必要な割で調合して
おき、これを添加する事もできる。
脱酸素剤であるヒドロキシルアミン類又はその塩類の理
論必要量は溶存酸素量によって異なる。
論必要量は溶存酸素量によって異なる。
両者の反応比率は、例えばＮ、Ｎ−ジエチルヒドロキシ
ルアミンの常温での反応の場合は重量比で、酸素／Ｎ、
Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン中０．４であり、高温
では更に多くの酸素と反応し得る。
ルアミンの常温での反応の場合は重量比で、酸素／Ｎ、
Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン中０．４であり、高温
では更に多くの酸素と反応し得る。
一般的に言って、脱酸素剤の添加量は被処理水に対して
０．１〜１０００■／を程度である。
０．１〜１０００■／を程度である。
処理温度も特に制限されないが、通常１００℃以下の低
温、例えば通常〜７０℃程度で十分その機能を発揮する
。
温、例えば通常〜７０℃程度で十分その機能を発揮する
。
このように本発明に係る溶存酸素除去法は低温でも迅速
且つ効率よく溶存酸素を除去し得ると共に、残渣やスケ
ールの生成もなく、二次的な腐食を引き起す惧れもない
。
且つ効率よく溶存酸素を除去し得ると共に、残渣やスケ
ールの生成もなく、二次的な腐食を引き起す惧れもない
。
従って高圧ボイラ等の高温での脱酸素法としてはもとよ
り、中低圧ボイラ、缶内のソーダ煮、缶内のアルカリ洗
滌及び中和処理、休止ボイラの満水保存、密閉式冷却水
、空気酸化な受は易い水溶液の安定化、化学反応系の酸
化防止等に於ける低温での溶存酸素の除去法としても充
分有効な方法である。
り、中低圧ボイラ、缶内のソーダ煮、缶内のアルカリ洗
滌及び中和処理、休止ボイラの満水保存、密閉式冷却水
、空気酸化な受は易い水溶液の安定化、化学反応系の酸
化防止等に於ける低温での溶存酸素の除去法としても充
分有効な方法である。
本発明の詳細な説明するためヒドロキシルアミンとＮ、
Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン単独の脱酸素効果を参
照例としてかかげる。
Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン単独の脱酸素効果を参
照例としてかかげる。
次に本発明を更に具体的に説明するため実施例をかかげ
るが、これによって本発明を限定するものではない。
るが、これによって本発明を限定するものではない。
参照例
純水にｐＨ緩衝剤としてリン酸水素二ナトリウム３００
７１１９／ｌを溶解後、苛性ソーダ又はリン酸にて所定
のｐＨに調整した。
７１１９／ｌを溶解後、苛性ソーダ又はリン酸にて所定
のｐＨに調整した。
この溶液をｐＨ電極、溶存酸素電極を取付けである５
００ ｍｌ！ｉラス容器に入れ、所定温度で良く攪拌し
て空気中の酸素を溶解させて後、空気相の残らない様に
ゴム栓で密閉し、マグネテイツクスターラーで攪拌しな
から溶存酸素な測定した。
００ ｍｌ！ｉラス容器に入れ、所定温度で良く攪拌し
て空気中の酸素を溶解させて後、空気相の残らない様に
ゴム栓で密閉し、マグネテイツクスターラーで攪拌しな
から溶存酸素な測定した。
次いでゴム栓上より空気が入らない様にマイクロシリン
ジの注入針をさし込み、所定量のヒドロキシルアミン類
を注入した。
ジの注入針をさし込み、所定量のヒドロキシルアミン類
を注入した。
注入後所定時間ごとに残存酸素量を測定した。
なおＮ、Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンは工業用無水
晶をそのまま注入し、ヒドロキシルアミン塩は添加する
水溶液と同じｐＨに調整したヒドロキシルアミン１５０
１Ａの水溶液として注入した。
晶をそのまま注入し、ヒドロキシルアミン塩は添加する
水溶液と同じｐＨに調整したヒドロキシルアミン１５０
１Ａの水溶液として注入した。
溶存酸素の測定はＹｅｌｌｏｗ Ｓｐｒｉｎｇｓ Ｉｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏ 、 ＩＮＣ製溶存酸素メータ
ーモデル５４を使用した。
ｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏ 、 ＩＮＣ製溶存酸素メータ
ーモデル５４を使用した。
結果な表Ｉに示す。
実施例 １
純水にリン酸水素二ナトリウム３００１１１ｆｌ／ｌ、
所定量の活性化剤を溶解後、参照例と同様に所定ｐＨに
調整し、以下参照例と同様に溶存酸素の測定、脱酸素剤
の注入、注入後所定時間ごとの溶存酸素の測定を行った
。
所定量の活性化剤を溶解後、参照例と同様に所定ｐＨに
調整し、以下参照例と同様に溶存酸素の測定、脱酸素剤
の注入、注入後所定時間ごとの溶存酸素の測定を行った
。
なおヒドロキシルアミン類の塩を脱酸素剤として使用し
たものは添加する水溶液と同じｐＨに調整した純分１５
０ ｆ ／ｌの水溶液として注入した。
たものは添加する水溶液と同じｐＨに調整した純分１５
０ ｆ ／ｌの水溶液として注入した。
結果を表Ｈに示す。実施例 ２
純水な給水し、加熱式脱気器にて脱気し、脱気器出口の
溶存酸素濃度０．５ｐｐｍ、蒸発温度１９７’Ｃ（１５
Ｋｙ／ｃＡ ）、蒸発量１２ ｔ／ｈｒの条件で運転さ
れているボイラの脱気器出口給水ラインにジエチルヒド
ロキシルアミンと１，２−ナフトキノンを混合溶解した
水溶液な給水中の濃度がＮ、Ｎ−ジエチルヒドロキシル
アミン２．０ ｐｐｍ１１ 、２−ナフドキノン０．ｌ
ｐｐｍとなる様に連続注入し、ボイラ水のｐ Ｈ１０；
５〜１１．０に保って９０日間連続運転した。
溶存酸素濃度０．５ｐｐｍ、蒸発温度１９７’Ｃ（１５
Ｋｙ／ｃＡ ）、蒸発量１２ ｔ／ｈｒの条件で運転さ
れているボイラの脱気器出口給水ラインにジエチルヒド
ロキシルアミンと１，２−ナフトキノンを混合溶解した
水溶液な給水中の濃度がＮ、Ｎ−ジエチルヒドロキシル
アミン２．０ ｐｐｍ１１ 、２−ナフドキノン０．ｌ
ｐｐｍとなる様に連続注入し、ボイラ水のｐ Ｈ１０；
５〜１１．０に保って９０日間連続運転した。
ここで発生したスチームの一部な冷却して凝縮水と成し
、この中の溶存酸素を電極式溶存酸素計にて連続測定な
行ったが、溶存酸素は検知できなかった。
、この中の溶存酸素を電極式溶存酸素計にて連続測定な
行ったが、溶存酸素は検知できなかった。
なお本試験実施前にボイラ内な酸洗浄して、内部スケー
ルを完全に除去して使用し、９０日間連続運転な行った
後、ボイラ内部な点検したが、内部の状況は試験前と比
べ変化は認められず、腐食並びにスケールの生成は認め
られなかった。
ルを完全に除去して使用し、９０日間連続運転な行った
後、ボイラ内部な点検したが、内部の状況は試験前と比
べ変化は認められず、腐食並びにスケールの生成は認め
られなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 脱酸素剤として一般式 （式中Ｒ０及びＲ２は水素又は炭素数３以下のアルキル
基な示す。 ）で示されるヒドロキシルアミン類又はその塩類から選
ばれた一種又は二種以上な用い、且つ活性化剤として三
価フェノール類及びその誘導体、ナフトキノン類及びそ
の誘導体並びにアントラキノン類及びその誘導体から選
ばれた一種又は二種以上を用いて酸素な溶存する水な処
理することな特徴とする溶存酸素除去法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8948781A JPS5931396B2 (ja) | 1981-06-12 | 1981-06-12 | 溶存酸素除去法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8948781A JPS5931396B2 (ja) | 1981-06-12 | 1981-06-12 | 溶存酸素除去法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57204288A JPS57204288A (en) | 1982-12-14 |
| JPS5931396B2 true JPS5931396B2 (ja) | 1984-08-01 |
Family
ID=13972094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8948781A Expired JPS5931396B2 (ja) | 1981-06-12 | 1981-06-12 | 溶存酸素除去法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5931396B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
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-
1981
- 1981-06-12 JP JP8948781A patent/JPS5931396B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57204288A (en) | 1982-12-14 |
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