JPS5932178B2 - 多孔管内包式スクリ−ン筒 - Google Patents
多孔管内包式スクリ−ン筒Info
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- JPS5932178B2 JPS5932178B2 JP56177901A JP17790181A JPS5932178B2 JP S5932178 B2 JPS5932178 B2 JP S5932178B2 JP 56177901 A JP56177901 A JP 56177901A JP 17790181 A JP17790181 A JP 17790181A JP S5932178 B2 JPS5932178 B2 JP S5932178B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0278—Feeding reactive fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
- B01J8/0492—Feeding reactive fluids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は充填塔式の触媒反応装置、脱臭装置などにお
いて充填塔内に設置されるディストリビュータ（液分配
器）あるいはコレクター（果液器）として用いることが
できるスクリーン筒に関する。
いて充填塔内に設置されるディストリビュータ（液分配
器）あるいはコレクター（果液器）として用いることが
できるスクリーン筒に関する。
充填塔式の触媒反応装置は例えば第１図に示すように、
塔１内に設置されたスクリーン状の触媒受２上に触媒３
を充填し、その上方に液体、ガス等所定の流体（ここで
は便宜上液体を例にとって説明する）を供給するディス
トリビュ−タ４を設置して構成されるもので、ディスト
リビュータ４に形成した多数の小孔４ａから液体を分散
滴下させ、触媒３を適して反応させ、反応液を触媒受２
を介して出口１ａから取出すようにしている。
塔１内に設置されたスクリーン状の触媒受２上に触媒３
を充填し、その上方に液体、ガス等所定の流体（ここで
は便宜上液体を例にとって説明する）を供給するディス
トリビュ−タ４を設置して構成されるもので、ディスト
リビュータ４に形成した多数の小孔４ａから液体を分散
滴下させ、触媒３を適して反応させ、反応液を触媒受２
を介して出口１ａから取出すようにしている。
このように従来の触媒反応装置はディストリビュータと
触媒受が別々に設置される構造となっているが、このよ
うな構造は充填塔が大規模となり、充填する触媒層が多
層になると触媒受も多数必要となり、構造が複雑でコス
ト高となる上に、触媒が多層に分断されると触媒が充填
されていない空間も多（なり充填塔内の空間の利用効率
も良（ない。
触媒受が別々に設置される構造となっているが、このよ
うな構造は充填塔が大規模となり、充填する触媒層が多
層になると触媒受も多数必要となり、構造が複雑でコス
ト高となる上に、触媒が多層に分断されると触媒が充填
されていない空間も多（なり充填塔内の空間の利用効率
も良（ない。
またディストリビュータは液が均等に流出することを必
要とするためその取付工事は極めて面倒でありディスト
リビュータを多数取付けるための工事に要する労力は極
めて大きい。
要とするためその取付工事は極めて面倒でありディスト
リビュータを多数取付けるための工事に要する労力は極
めて大きい。
この発明は多層触媒充填塔型触媒反応装置の上記難点を
解決することを目的としてなされたものであって、流体
の分配、集合機能と触媒保持機能とを兼ね備えた新規な
構成のスクリーン筒を触媒中に埋設することにより、従
来必須とされていた触媒受けを必要とせず、またディス
トリビュータの取付工事に多大の労力を必要とせず、し
かも触媒を一層化することにより充填塔内の空間利用率
を大幅に改善しようとするものである。
解決することを目的としてなされたものであって、流体
の分配、集合機能と触媒保持機能とを兼ね備えた新規な
構成のスクリーン筒を触媒中に埋設することにより、従
来必須とされていた触媒受けを必要とせず、またディス
トリビュータの取付工事に多大の労力を必要とせず、し
かも触媒を一層化することにより充填塔内の空間利用率
を大幅に改善しようとするものである。
ディストリビュータを触媒中に埋設する場合問題となる
のは、ディストリビュータから放散される流体が乱流を
生じると触媒中に均一に分布されないこと、および特に
触媒を常時移動させる方式の反応装置においては触媒の
移動が円滑に行われずまた目Δ吉りを起すおそれがある
ことである。
のは、ディストリビュータから放散される流体が乱流を
生じると触媒中に均一に分布されないこと、および特に
触媒を常時移動させる方式の反応装置においては触媒の
移動が円滑に行われずまた目Δ吉りを起すおそれがある
ことである。
本発明においては、多孔パイプを所定の間隔をおいて包
囲するスクリーン筒を適宜のピッチで巻かれたワイヤと
これを支持するサポート部材で形成することにより乱流
と目詰りを完全に防止することができる。
囲するスクリーン筒を適宜のピッチで巻かれたワイヤと
これを支持するサポート部材で形成することにより乱流
と目詰りを完全に防止することができる。
以下、この発明の実施例を添付図面を参照して詳しく説
明する。
明する。
第２図はこの発明の基本的な実施例を示すものｆ−丸Ａ
−笛９［ヅのスフ１ｊ−ン僧Ｉｎπ松（５、て サポー
トロッド１１はワイヤ１２を支持するためのもので、複
数本が適宜の間隔で円筒状に配置されている。
−笛９［ヅのスフ１ｊ−ン僧Ｉｎπ松（５、て サポー
トロッド１１はワイヤ１２を支持するためのもので、複
数本が適宜の間隔で円筒状に配置されている。
ワイヤには断面が（さび形のものでロッド１１上に適宜
のピッチ（触媒等が入り込まない間隔）でらせん状に巻
付けており、各ワイヤ内にはスリット１２ａが形成され
ている。
のピッチ（触媒等が入り込まない間隔）でらせん状に巻
付けており、各ワイヤ内にはスリット１２ａが形成され
ている。
ロッド１１とワイヤ１２とにより構成される円筒（両端
は閉じられている）内にはその軸上にパイプ１３が配置
されている。
は閉じられている）内にはその軸上にパイプ１３が配置
されている。
このパイプ１３には内周から外周に通じる貫通孔１３ａ
が全面にわたって多数開設されている。
が全面にわたって多数開設されている。
パイプ１３の末端は閉じられている。パイプ１３には枝
管１４が取付けられ、配管１５から結合フランジ１６、
枝管１４を介してパイプ１３につながる連通路が形成さ
れている。
管１４が取付けられ、配管１５から結合フランジ１６、
枝管１４を介してパイプ１３につながる連通路が形成さ
れている。
パイプ１３にはサポートディスク１７が適宜の間隔をお
いて固定されている。
いて固定されている。
このサポートディスク１７はサポートロッド１１を内側
から支持するとともに、パイプ１３を円筒の軸上に保持
する働きをするものである。
から支持するとともに、パイプ１３を円筒の軸上に保持
する働きをするものである。
サポートディスク１７にはそれによって隔絶された円筒
内の空間を連通させるだめの流通孔１７ａが開設されて
いる。
内の空間を連通させるだめの流通孔１７ａが開設されて
いる。
第２図のスクリーン筒１２を製造する場合は、まずパイ
プ１３にサポートディスク１７を適宜の間隔で差込み、
次いでサポートディスク１７のまわりにサポートロッド
１１を適宜の間隔でスポット溶接などにより固定し、更
にそのまわりにワイヤ２を適宜のピッチで巻付けてスポ
ット溶接などにより固定すればよい。
プ１３にサポートディスク１７を適宜の間隔で差込み、
次いでサポートディスク１７のまわりにサポートロッド
１１を適宜の間隔でスポット溶接などにより固定し、更
にそのまわりにワイヤ２を適宜のピッチで巻付けてスポ
ット溶接などにより固定すればよい。
またワイヤ１２をサポートロッド１１のまわりに巻回し
てワイヤ１２０弾性により固定するようにすれば溶接を
省くことも可能である。
てワイヤ１２０弾性により固定するようにすれば溶接を
省くことも可能である。
第２図のスクリーン筒１０を充填塔式の触媒反応装置の
ディストリビュータ（分配管）として使用する場合の一
例を第３図に示す（ａは正面図、ｂはａのＡ−Ａ断面図
、ＣはａのＢ−Ｂ断面図である）。
ディストリビュータ（分配管）として使用する場合の一
例を第３図に示す（ａは正面図、ｂはａのＡ−Ａ断面図
、ＣはａのＢ−Ｂ断面図である）。
この実施例においては、テイス） ＩＪピユータ２１を
上下２段に配列している。
上下２段に配列している。
ディストリビュータ２１は第３図すに示すように配管１
５からフランジ１６および枝管１４を介して、複数のス
クリーン筒１０を枝状に配している。
５からフランジ１６および枝管１４を介して、複数のス
クリーン筒１０を枝状に配している。
各スクリーン筒１０は両端がそれぞれ蓋２３により閉じ
られ、充填塔２０の内面に形成された７ランジ２０ａ上
に固定されている。
られ、充填塔２０の内面に形成された７ランジ２０ａ上
に固定されている。
ディストリビュータ２１を以上のように設置ししたら、
充填塔２０の頂部に開設された開口部２０ｃから触媒２
５をディストリビュータ２１が完全に埋もれる高さまで
注入する。
充填塔２０の頂部に開設された開口部２０ｃから触媒２
５をディストリビュータ２１が完全に埋もれる高さまで
注入する。
これにより、充填塔２０内の準備はすべて完了し、ディ
ストリビュータ２１の配管１５に所定の液体を注入すれ
ば、各スクリーン筒１０内においてパイプ１３の孔１３
ａからこの液体が四方に放散される。
ストリビュータ２１の配管１５に所定の液体を注入すれ
ば、各スクリーン筒１０内においてパイプ１３の孔１３
ａからこの液体が四方に放散される。
この状態を第４図に示す。この図に示すようにパイプ１
３からワイヤ１２までは距離があるので、単にパイプ１
３をそのまま埋め込んで放散する場合に比べて、広い範
囲に均一に放散することができる。
３からワイヤ１２までは距離があるので、単にパイプ１
３をそのまま埋め込んで放散する場合に比べて、広い範
囲に均一に放散することができる。
また液体は上下のスリット１２ａから上下各方向に放散
されるので上下方向に著るしい整流効果を有する。
されるので上下方向に著るしい整流効果を有する。
ディストリビュータ２１により放散された液体は触媒２
５内を所定の反応を行いながら下降する。
５内を所定の反応を行いながら下降する。
反応を完了した液は充填塔２０の下部に配置された触媒
受げ２２の開口２２ａを通って充填塔出口２０ｄから取
り出される。
受げ２２の開口２２ａを通って充填塔出口２０ｄから取
り出される。
この実施例においては、触媒２５は一層となり、途中に
空間を設ける必要がなく、充填塔内の触媒の占める容積
が増大する上に触媒受け２２は一段だけ設ければすむの
で従来の装置に比べ触媒受けの設置数を減少することが
できる。
空間を設ける必要がなく、充填塔内の触媒の占める容積
が増大する上に触媒受け２２は一段だけ設ければすむの
で従来の装置に比べ触媒受けの設置数を減少することが
できる。
上記実施例はディストリビュータ２１を上下２列にした
ものであるが、ディストリビュータの列数を増加するほ
ど上記のメリットは増大することは明らかであろう。
ものであるが、ディストリビュータの列数を増加するほ
ど上記のメリットは増大することは明らかであろう。
本発明にかかる多孔管内包スクリーン筒はディストリビ
ュータとしてのみでなくコレクター（集液管）としても
用いることができる。
ュータとしてのみでなくコレクター（集液管）としても
用いることができる。
この場合はたとえば第３図において下段のディストリビ
ュータ２１をコレクターとして用い触媒層の下部に下降
した反応ずみの液をスクリーン筒を通してパイプ１３内
に吸入し外部に取出すようにすればよい。
ュータ２１をコレクターとして用い触媒層の下部に下降
した反応ずみの液をスクリーン筒を通してパイプ１３内
に吸入し外部に取出すようにすればよい。
なおこの場合第３図に示すような開口２２ａを有する触
媒受け２２は使用せず充填塔の下部出口２０ｄは閉じて
置（ようにする。
媒受け２２は使用せず充填塔の下部出口２０ｄは閉じて
置（ようにする。
またこのような装置において、上下各段の多孔管内包ス
クリーン筒を一定時間ディストリピユータとして使用し
、触媒層に液を供給して所定の反応を終了した後今度は
同じ多孔管内包スクリーン筒をコレクターとして使用し
、反応ずみの液を回収するようにして、この操作を反復
するように利用することもできる。
クリーン筒を一定時間ディストリピユータとして使用し
、触媒層に液を供給して所定の反応を終了した後今度は
同じ多孔管内包スクリーン筒をコレクターとして使用し
、反応ずみの液を回収するようにして、この操作を反復
するように利用することもできる。
なお、スクリーン筒１０の配列は第３図のような横置き
にかぎらず、第５図ａのようにスクリーンに第１図のス
クリーン２を用い、その上にディストリビュータ１０を
縦置きにしたり、第５図すのように千鳥格子状に置くこ
ともできる。
にかぎらず、第５図ａのようにスクリーンに第１図のス
クリーン２を用い、その上にディストリビュータ１０を
縦置きにしたり、第５図すのように千鳥格子状に置くこ
ともできる。
あるいは同じ横置きでも第５図Ｃのようにジグザグにす
ることもできる。
ることもできる。
第６図の実施例はサポートディスク１７の相互間にサポ
ートビーム３０を渡して更に強度を高めるようにしたも
のである。
ートビーム３０を渡して更に強度を高めるようにしたも
のである。
第７図の実施例はサポートビームとして幅の広いもの３
１Ａ、３１Ｂを用い、半円状に分断したワイヤ２を一方
のサポートビーム３１Ａから他方のサポートビーム３１
Ｂにかけてそれぞれ固着するようにしたものである。
１Ａ、３１Ｂを用い、半円状に分断したワイヤ２を一方
のサポートビーム３１Ａから他方のサポートビーム３１
Ｂにかけてそれぞれ固着するようにしたものである。
第８図の実施例はサポートビーム３２により円筒内の空
間を２つに分割し、それぞれにパイプ１３−１，１１２
を配置するようにしたものである。
間を２つに分割し、それぞれにパイプ１３−１，１１２
を配置するようにしたものである。
なお、上記実施例のスクリーン筒は断面を円筒状とした
がこれに限らず、だ円あるいはその８角筒、６角筒等他
の筒形とすることもできる。
がこれに限らず、だ円あるいはその８角筒、６角筒等他
の筒形とすることもできる。
またワイヤ１２の断面形状は（さび形のものが好適であ
るがこれに限らず、方形、円形等適宜の形状のものを用
いることができる。
るがこれに限らず、方形、円形等適宜の形状のものを用
いることができる。
また、上記実施例では触媒反応装置に適用した場合につ
いて示したが、その他の化学プロセス例えば脱臭装置、
沢過装置等広い範囲の用途に用いることができる。
いて示したが、その他の化学プロセス例えば脱臭装置、
沢過装置等広い範囲の用途に用いることができる。
第９図はｐ過装置に適用する場合の一例で、沈でん層４
１の底部４２にスクリーン筒１０を縦に置き、この底部
４２をつきぬけてパイプ１３を引出し、ワイヤ１０で沢
過した液をこのパイプ１３を経て取出すようにしたもの
である。
１の底部４２にスクリーン筒１０を縦に置き、この底部
４２をつきぬけてパイプ１３を引出し、ワイヤ１０で沢
過した液をこのパイプ１３を経て取出すようにしたもの
である。
第１０図は攪拌しながら流体を分配および集合させるよ
うにしたものである。
うにしたものである。
ここでは配管５１を塔５２の中心に置き、その下端にス
クリーン筒１０を放射状に取付けて、配管５１を回転し
て攪拌しながら分配および集合を行なうようにしている
。
クリーン筒１０を放射状に取付けて、配管５１を回転し
て攪拌しながら分配および集合を行なうようにしている
。
第１１図はワイヤ１２−１ 、１２−２ 。１２−３を
多層に巻き、それぞれの間に異なる触媒を注入し、パイ
プ２から放出された液体が外方向に広がるにしたがって
各層で順次反応が行なわれるようにしたものである。
多層に巻き、それぞれの間に異なる触媒を注入し、パイ
プ２から放出された液体が外方向に広がるにしたがって
各層で順次反応が行なわれるようにしたものである。
以上説明したようにこの発明のスクリーン筒はディスト
リビュータとしても、あるいはコレクターとしても用い
ることができ広範囲の目的に使用することができる。
リビュータとしても、あるいはコレクターとしても用い
ることができ広範囲の目的に使用することができる。
特にディストリビュータとして利用した場合触媒層が分
断されず充填塔内の空間の利用率を高めることができる
上に多数の触媒受けを節約することができる。
断されず充填塔内の空間の利用率を高めることができる
上に多数の触媒受けを節約することができる。
また多孔パイプを所定の間隔を置いて包囲するスクリー
ン筒を適宜のピッチで巻かれたワイヤとこれを支持する
サポート部材で形成したので、流体の分配および集合が
非常に効率良（行うことができ、乱流の発生を完全に防
止することができる。
ン筒を適宜のピッチで巻かれたワイヤとこれを支持する
サポート部材で形成したので、流体の分配および集合が
非常に効率良（行うことができ、乱流の発生を完全に防
止することができる。
さらに触媒移動方式の装置に用いても触媒の移動が円滑
に行われ目詰りを生じない等の優れた効果を有するもの
である。
に行われ目詰りを生じない等の優れた効果を有するもの
である。
第１図は従来における充填塔式触媒反応装置を示す縦断
面図、第２図はこの発明の一実施例を示す一部切欠き斜
視図、第３図は第３図のスクリーン筒を充填塔式触媒反
応装置に適用した一例を示す図でａは正面図、ｂは平面
図、ＣはａのＡ−Ａ断面図、第４図は第３図のディスト
リビュータ２１から流体が放散される状態を示す図、第
５図は充填塔内におけるスクリーン筒の配列し方の別の
例を示す図、第６図、第７図、第８図はこの発明の他の
実施例を示す一部切欠き斜視図、第９図、第１０図、第
１１図はこの発明の他の応用例を示す縦断面図である。 １０・・・・・・スクリーン筒、１１・・・・・・サポ
ートロッド、１２・・・・・・ワイヤ、１３・・−・・
・パイプ、１４・−・・−枝管、１５・−・・・配管、
１７・・・・・・サポートディスク。
面図、第２図はこの発明の一実施例を示す一部切欠き斜
視図、第３図は第３図のスクリーン筒を充填塔式触媒反
応装置に適用した一例を示す図でａは正面図、ｂは平面
図、ＣはａのＡ−Ａ断面図、第４図は第３図のディスト
リビュータ２１から流体が放散される状態を示す図、第
５図は充填塔内におけるスクリーン筒の配列し方の別の
例を示す図、第６図、第７図、第８図はこの発明の他の
実施例を示す一部切欠き斜視図、第９図、第１０図、第
１１図はこの発明の他の応用例を示す縦断面図である。 １０・・・・・・スクリーン筒、１１・・・・・・サポ
ートロッド、１２・・・・・・ワイヤ、１３・・−・・
・パイプ、１４・−・・−枝管、１５・−・・・配管、
１７・・・・・・サポートディスク。
Claims (1)
- １ 筒状に配置された複数本のロッドと、前記ロッドの
まわりに適宜のピッチで巻かれたワイヤと、内周から外
周にわたって複数の貫通孔が開設され、前記ロッドとワ
イヤとにより形成される筒内の空間にどいて核部の内面
と適宜の間隔をおいた位置に核部に沿って配置されたパ
イプと、前記筒内において核部に沿って適宜の間隔で配
置され、核部の内面を支持するとともに、前記パイプを
前記空間内の位置に保持するサポート部材とを具えた多
孔管内包式スクリーン筒。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177901A JPS5932178B2 (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 多孔管内包式スクリ−ン筒 |
| AU90062/82A AU537473B2 (en) | 1981-11-06 | 1982-11-01 | Distributor/collector assembly for catalyst reactor |
| GB08231214A GB2110106B (en) | 1981-11-06 | 1982-11-01 | Distributor/collector assembly |
| KR8204942A KR880001995B1 (ko) | 1981-11-06 | 1982-11-02 | 디스트리뷰터 또는 콜렉터 결합체 |
| BR8206427A BR8206427A (pt) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Conjunto distribuidor/coletor |
| CA000415019A CA1201876A (en) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Distributor/collector assembly |
| AR291213A AR228692A1 (es) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Conjunto de distribuidor/colector apropiado para usarlo en un tipo de columna de reactor de catalizador,aparato de desodorizacion o dispositivo similar |
| IT24109/82A IT1218329B (it) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Complesso distributore collettore per l'impiego in un reattore a colonna per processi catalitici o in dispositivi similari |
| FR8218569A FR2515982B1 (fr) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Dispositif distributeur ou collecteur, notamment pour reacteur catalytique du type en forme de colonne ou dispositif analogue |
| BE2/59900A BE894919A (fr) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Ensemble distributeur-collecteur |
| DE3240987A DE3240987C2 (de) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Verteil- und Sammelvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177901A JPS5932178B2 (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 多孔管内包式スクリ−ン筒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879537A JPS5879537A (ja) | 1983-05-13 |
| JPS5932178B2 true JPS5932178B2 (ja) | 1984-08-07 |
Family
ID=16039037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56177901A Expired JPS5932178B2 (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 多孔管内包式スクリ−ン筒 |
Country Status (11)
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