JPS5932975A - 表面硬化処理方法 - Google Patents
表面硬化処理方法Info
- Publication number
- JPS5932975A JPS5932975A JP14213282A JP14213282A JPS5932975A JP S5932975 A JPS5932975 A JP S5932975A JP 14213282 A JP14213282 A JP 14213282A JP 14213282 A JP14213282 A JP 14213282A JP S5932975 A JPS5932975 A JP S5932975A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- baking
- coating film
- present
- vacuum
- surface hardening
- Prior art date
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- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
伺により硬化させる表面硬化処理方法に関する。
縮重合系表面硬化剤は，塗装におけるトップコートとし
て塗膜に酎摩耗性を付与するために広く−熊に用いられ
ている。この塗膜の硬化に寄ｒする縮重合は高分イ合成
反応の一つで、縮重合のくりかえしによる玉合体（縮合
重合体ともいう。）を生成する反応である。その硬化速
度は反応の重合度に依存し、縮合反応のくりかえしによ
る低分子化合物たとえば水等を反絶、系外に取り去るこ
とが必要である。そのため従来法においては、その表面
硬化処理として、大気中で焼付けする方法が ０一般に
良く知られている。
て塗膜に酎摩耗性を付与するために広く−熊に用いられ
ている。この塗膜の硬化に寄ｒする縮重合は高分イ合成
反応の一つで、縮重合のくりかえしによる玉合体（縮合
重合体ともいう。）を生成する反応である。その硬化速
度は反応の重合度に依存し、縮合反応のくりかえしによ
る低分子化合物たとえば水等を反絶、系外に取り去るこ
とが必要である。そのため従来法においては、その表面
硬化処理として、大気中で焼付けする方法が ０一般に
良く知られている。
しかしながら従来法では、第１表に示すように，所要の
硬化膜を得るには焼付処理の温度が９０℃〜１２０℃の
範囲で、焼伺時間が４５分ないし１６時間も必要である
ため、その処理工程の下数がかかりすぎるという問題点
があった。
硬化膜を得るには焼付処理の温度が９０℃〜１２０℃の
範囲で、焼伺時間が４５分ないし１６時間も必要である
ため、その処理工程の下数がかかりすぎるという問題点
があった。
／
／
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第１表
したがって、従来法においては、製造のラインに組み込
まれる焼付工程は工数が多くなるため、それが障害とな
り、ラインを乱す一方、生産性が悪く、かつコスト高と
なる問題点があった。
まれる焼付工程は工数が多くなるため、それが障害とな
り、ラインを乱す一方、生産性が悪く、かつコスト高と
なる問題点があった。
しかるに、従来法に代る焼付時間を短縮することができ
る新しい焼付技術が要請されているが、いまだ未解決で
あるのが現状である。
る新しい焼付技術が要請されているが、いまだ未解決で
あるのが現状である。
本発明は従来のこれらの問題点を解消するためになされ
たもので、縮重合により硬化するのに要する焼付時間を
短縮することができる新しい表面硬化処理方法を提供す
ることを目的とする。
たもので、縮重合により硬化するのに要する焼付時間を
短縮することができる新しい表面硬化処理方法を提供す
ることを目的とする。
本発明者らは種々の研究を重ねた結果、塗膜を焼付によ
り硬化する際に、塗膜の表面を減圧すれば塗膜の硬化速
度が上昇するという新しい事実を見出した。
り硬化する際に、塗膜の表面を減圧すれば塗膜の硬化速
度が上昇するという新しい事実を見出した。
本発明は上記の知見に基づくもので、縮重合により硬化
する表面硬化剤の焼付工程において塗膜の表面を減圧し
て焼付を行うことがら成っている。
する表面硬化剤の焼付工程において塗膜の表面を減圧し
て焼付を行うことがら成っている。
セ
以下ボッリカーボネート基板にブライマー塗布し、更に
その上にトップコーｉ・とじて縮重合系硬化剤を塗布し
たものを使用して、減圧のドで焼付した場合を例にとっ
て、第１図を参照しながら本発明の実施例を具体的に説
明する。
その上にトップコーｉ・とじて縮重合系硬化剤を塗布し
たものを使用して、減圧のドで焼付した場合を例にとっ
て、第１図を参照しながら本発明の実施例を具体的に説
明する。
第１図は本発明を実施する工程の概要を例／７くする工
程図である。また第２図は、焼イ・１処理に供する被焼
伺板１の断面を示す図である。図において、２はポリカ
ーボネート基板、３はポリカーボネート用ブライマー（
例えば、東芝シリコーン社製のＰＨ９３）、４は縮重合
により硬化する表面硬化剤（例えば、東芝シリコーン社
製のトスガード５１０）である。
程図である。また第２図は、焼イ・１処理に供する被焼
伺板１の断面を示す図である。図において、２はポリカ
ーボネート基板、３はポリカーボネート用ブライマー（
例えば、東芝シリコーン社製のＰＨ９３）、４は縮重合
により硬化する表面硬化剤（例えば、東芝シリコーン社
製のトスガード５１０）である。
焼付に供する被焼付板１は、まずポリカーボネート基板
２を静電除去、超音波洗浄機を使用した溶剤洗浄のよる
前処理を１５分程度行い、該前処理したポリカーボネー
ト基板２上に、浸漬法によりトスガードブライマー３を
塗布し、粘性がほぼなくなるまで常温で約３０分間風乾
し、更に縮重合系硬化剤４としてトスガード５１０（東
芝シリコーン社製）を浸漬法により塗布した後、２０分
程度風乾して製作され、その後本発明による焼付処理に
供する。
２を静電除去、超音波洗浄機を使用した溶剤洗浄のよる
前処理を１５分程度行い、該前処理したポリカーボネー
ト基板２上に、浸漬法によりトスガードブライマー３を
塗布し、粘性がほぼなくなるまで常温で約３０分間風乾
し、更に縮重合系硬化剤４としてトスガード５１０（東
芝シリコーン社製）を浸漬法により塗布した後、２０分
程度風乾して製作され、その後本発明による焼付処理に
供する。
第３図は、本発明の実施に用いた真空乾燥機を示した正
面図である。この真空乾燥機５は一般に広く用いられる
既存のものである。
面図である。この真空乾燥機５は一般に広く用いられる
既存のものである。
焼付硬化処理は、まず、被焼付板１を真空乾燥機５の中
に置き、蝶番６により開閉可能であるドア７をロックし
て密閉した。次に真空排気系のロータリーポンプ８を作
動し、該真空乾燥機・５内を真空に引き、その後所定の
真空度で焼付処理を施行した。
に置き、蝶番６により開閉可能であるドア７をロックし
て密閉した。次に真空排気系のロータリーポンプ８を作
動し、該真空乾燥機・５内を真空に引き、その後所定の
真空度で焼付処理を施行した。
第４図は従来法の常圧下（大気）と本発明法の減圧下（
Ｉ Ｘ ｌ ０−４Ｔｏｒｒ）でそれぞれ焼付処理した
結果を比較したグラフである。横軸には所定の焼付温度
（１２０°Ｃ）での焼付時間を、縦軸には塗膜の硬度を
指標するヘイズ値を示す。−［−記ヘイズ値は塗膜の耐
摩耗試験を行って、その前後の同一測定部位をディジタ
ルヘイズメーター（村上色彩技術研究新製）で測定し、
その差をもって表わした値である。また塗膜の耐摩耗試
験はロータリーアブレッサー（東洋精機製）を使用し、
この摩耗輪Ｃ３−１０に５００ｇの荷重を加え、５００
サイクル摩耗して行った。−］二二側測定部は試料の将
来摩損を起す軌跡の周囲４ケ所とし、斤耗後にはインプ
ロパツールで洗浄した後間一部位で測定を行った。
Ｉ Ｘ ｌ ０−４Ｔｏｒｒ）でそれぞれ焼付処理した
結果を比較したグラフである。横軸には所定の焼付温度
（１２０°Ｃ）での焼付時間を、縦軸には塗膜の硬度を
指標するヘイズ値を示す。−［−記ヘイズ値は塗膜の耐
摩耗試験を行って、その前後の同一測定部位をディジタ
ルヘイズメーター（村上色彩技術研究新製）で測定し、
その差をもって表わした値である。また塗膜の耐摩耗試
験はロータリーアブレッサー（東洋精機製）を使用し、
この摩耗輪Ｃ３−１０に５００ｇの荷重を加え、５００
サイクル摩耗して行った。−］二二側測定部は試料の将
来摩損を起す軌跡の周囲４ケ所とし、斤耗後にはインプ
ロパツールで洗浄した後間一部位で測定を行った。
第４図から明らかなように本発明法によれば、従来法に
おいて所要のヘイズ値を得るためには焼付に６０分を要
すところ、約半分の３０分で所要のヘイズ値３が得られ
た。したがって塗膜を減圧の下で焼付すれば、焼付工程
の工数をかなり短縮できることが判明した。
おいて所要のヘイズ値を得るためには焼付に６０分を要
すところ、約半分の３０分で所要のヘイズ値３が得られ
た。したがって塗膜を減圧の下で焼付すれば、焼付工程
の工数をかなり短縮できることが判明した。
次に、本発明の他の実施例について説明する。
第５図は本発明の他の実施例に用いた真空乾燥機である
。この真空乾燥機１０は真空系にデフユージョンボンブ
１１を用いると共に、ロータリーポンプ１２を用い、こ
のロータリーポンプ１２の排気路に脱水管１３を取すイ
・１けてなるもので、焼付処理を高真空脱気条件の下で
行うことができる。第６図は焼付温度を１２０℃、焼付
時間を３０分と一定にし、真空度を種々変えて焼付処理
した場合の塗膜のヘイズ値の変化を示したグラフである
。このグラフから明らかなように、焼付した塗膜が所要
のヘイズ値３を得るには、真空度を５００ Ｔｏｒｒ以
下にする必要があることが判明した。
。この真空乾燥機１０は真空系にデフユージョンボンブ
１１を用いると共に、ロータリーポンプ１２を用い、こ
のロータリーポンプ１２の排気路に脱水管１３を取すイ
・１けてなるもので、焼付処理を高真空脱気条件の下で
行うことができる。第６図は焼付温度を１２０℃、焼付
時間を３０分と一定にし、真空度を種々変えて焼付処理
した場合の塗膜のヘイズ値の変化を示したグラフである
。このグラフから明らかなように、焼付した塗膜が所要
のヘイズ値３を得るには、真空度を５００ Ｔｏｒｒ以
下にする必要があることが判明した。
以上の効果は他に三菱瓦斯化学製ＭＲ−１，ＭＲ−３，
信越シリコーン製Ｘ−１２−９２１゜ＫＰ−８０，音大
製Ｓ−１１４．ＧＥ製５ＨＣ−１０００、ダウコーニン
グ製ＡＲＣ６３１３等の縮重合系硬化剤においても認め
られた。なお本発明の方法の対象とする硬化剤は上記の
硬化剤にのみ限定されるものでなく、すべての縮重合系
硬化剤に適用されるのは言うまでもない。
信越シリコーン製Ｘ−１２−９２１゜ＫＰ−８０，音大
製Ｓ−１１４．ＧＥ製５ＨＣ−１０００、ダウコーニン
グ製ＡＲＣ６３１３等の縮重合系硬化剤においても認め
られた。なお本発明の方法の対象とする硬化剤は上記の
硬化剤にのみ限定されるものでなく、すべての縮重合系
硬化剤に適用されるのは言うまでもない。
さらに表面硬化剤にはＧＥ社製５ＨＣ−１０００（Ｐｒ
ｉ＋ｎｅｒｌ ００）のようなブライマーにおいても焼
付が必要なものもあるが、この場合にも本発明方法は適
用され、そのブライマーの焼付時間を短縮することがで
きる。
ｉ＋ｎｅｒｌ ００）のようなブライマーにおいても焼
付が必要なものもあるが、この場合にも本発明方法は適
用され、そのブライマーの焼付時間を短縮することがで
きる。
これまでの説明から明らかなように、本発明によれば、
所要の塗膜物性を得るに当り、焼付工程の工数が大ｌ」
に短縮され、その生産性が−にかり、かつコストが安価
となると共に、他工程との均衡が容易となり量産化体制
の確立が容易となるという効果が得られる。
所要の塗膜物性を得るに当り、焼付工程の工数が大ｌ」
に短縮され、その生産性が−にかり、かつコストが安価
となると共に、他工程との均衡が容易となり量産化体制
の確立が容易となるという効果が得られる。
第１図は本発明を実施する工程を例示する工程図、第２
図は被焼付板の断面図、第３図及び第５図は焼付に使用
した真空乾燥機の正面図、第４図及び第６図は本発明を
実施した場合の効果を示すグラフである。 １・・・被焼付板、２・・・基板、３・・・ブライマー
、４・・・縮重合系硬化剤、５．１０・・・真空乾燥機
、８゜１２・・・ロータリーポンプ。 特許出願人 日産自動車株式会社 代理人弁理士 小 川 局 第４図 ゐ連部、間 （ω 豆すＲ，（７δｒｒ） 手続補正１！１（自発） ｎ（＋ ４ｔ１５７ ’ｌ、９１１１４日肪゛Ｊ′１庁
長官 若杉オ［Ｊ夫殿
図は被焼付板の断面図、第３図及び第５図は焼付に使用
した真空乾燥機の正面図、第４図及び第６図は本発明を
実施した場合の効果を示すグラフである。 １・・・被焼付板、２・・・基板、３・・・ブライマー
、４・・・縮重合系硬化剤、５．１０・・・真空乾燥機
、８゜１２・・・ロータリーポンプ。 特許出願人 日産自動車株式会社 代理人弁理士 小 川 局 第４図 ゐ連部、間 （ω 豆すＲ，（７δｒｒ） 手続補正１！１（自発） ｎ（＋ ４ｔ１５７ ’ｌ、９１１１４日肪゛Ｊ′１庁
長官 若杉オ［Ｊ夫殿
Claims (1)
- （１）縮歌合により硬化する表面硬化剤の焼付工程にお
いて、前記焼Ｉ１４を減圧下で行うことを特徴とする表
面硬化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14213282A JPS5932975A (ja) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | 表面硬化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14213282A JPS5932975A (ja) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | 表面硬化処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5932975A true JPS5932975A (ja) | 1984-02-22 |
Family
ID=15308108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14213282A Pending JPS5932975A (ja) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | 表面硬化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932975A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002071802A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-12 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 速度測定装置、速さ測定装置及びその方法、移動方向測定装置及びその方法 |
-
1982
- 1982-08-18 JP JP14213282A patent/JPS5932975A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002071802A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-12 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 速度測定装置、速さ測定装置及びその方法、移動方向測定装置及びその方法 |
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