JPS5933460Y2 - 酸希釈装置 - Google Patents

酸希釈装置

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JPS5933460Y2
JPS5933460Y2 JP2587182U JP2587182U JPS5933460Y2 JP S5933460 Y2 JPS5933460 Y2 JP S5933460Y2 JP 2587182 U JP2587182 U JP 2587182U JP 2587182 U JP2587182 U JP 2587182U JP S5933460 Y2 JPS5933460 Y2 JP S5933460Y2
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JP
Japan
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acid
dilution
tube
chamber
sulfuric acid
Prior art date
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Expired
Application number
JP2587182U
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English (en)
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JPS58128620U (ja
Inventor
省二 小林
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は希釈にあたって多量の発熱を伴う濃酸を連続的
に希釈する酸希釈装置の改良に関するものである。
従来上方から下方に向かい吸収室、希釈室、冷却部を直
結してなる濃酸の連続的な希釈装置は知られている。
該装置においては吸収室よりシャワー状に供給された希
釈版がオーバーフロー形の出口管により希釈室内に所定
の液面高さに保持され上記液面上に濃酸が流下して混合
発熱した希酸が例えば不浸透黒鉛製の冷却部内を自然流
下するようになっており、冷却部内での希酸の流動はレ
イノルズ数が2100以下の層流域で使用されていた。
このため希酸側の境膜伝熱係数が200〜400 Km
/mH℃と小さなために冷却部の伝熱面積を大きくしな
くてはならない欠点があった。
また希酸の流量変化によって圧力損失が異なるため希釈
室内における液面の変動が40〜50間とかなり大きく
、一方濃酸注入管の先端と上記液面間の距離は液面が上
昇した場合を考慮して設定されているため液面が下降し
た場合には濃酸が飛散し水分と反応して局部発熱を生ず
るので濃酸の飛散防止対策を必要とし厄介であった・ 本考案の目的は上記欠点のない酸希釈装置を提供するこ
とにある。
本考案は希釈液面上に濃酸が流下する希釈室の上部に該
希釈室に希釈液をシャワー状に供給する吸収室と上記希
釈室の下部に冷却部を直結した酸希釈装置において、上
記冷却部に套管式熱交換器を用い、上記希釈室の底部と
なる上記套管式熱交換器の管板に下方の伝熱管に連通ず
る短管を突設してなる酸希釈装置に関する。
以下本考案の一実施例になる濃硫酸希釈装置について第
1図にしたがって説明する。
吸収室カバー1には希釈水導入ノズル2、濃硫酸注入管
取付ノズル3および希釈水分布器4,4・・・が設けら
れており希釈水導入ノズル2より希釈水5が吸収室カバ
ー1内に供給され希釈水分布器4.4・・・によりオー
バーフローし吸収室6の中に分散落下する。
7はラシヒリングにより構成され目皿8の上に支えられ
ている吸収室6内の充てん層である。
9は吸収室6内部に挿入される濃硫酸注入管である。
これら吸収室カバー1、希釈水導入ノズル2、濃硫酸注
入管取付ノズル3、希釈水分布器4、吸収室6、充てん
層7、目皿8、濃硫酸注入管9の構成材料は硫酸に侵食
されないものであれば良く制限しないが、不浸透黒鉛、
硬質塩化ビニル等が好ましい。
吸収室6の下部には低炭素鋼にテフロンなどの樹脂ライ
ニングを行なった希釈室10が直結しており、希釈水5
は充てん層7を通過し酸ミスト11を吸収した後、目皿
8により均一なシャワー状態で希釈室10内の空間に落
下する。
一方濃硫酸注入管9の先端9aから濃硫酸12が供給さ
れ希釈室10の中で上記希釈水5に混合されて希硫酸1
3となって一時プールされる。
濃硫酸注入管9の先端9aは希硫酸13の液面中央部上
方に位置し、濃硫酸12が希硫酸13の液面中央部に落
下しここでぶつとう現象を起こすことにより希釈室10
内において希硫酸がかくはんされる。
ふっとうにより発生する酸ミスト11は充てん層7内部
で上方から流下する希釈水5と向流接触して吸収される
。
希釈室10の下部には不浸透黒鉛製の伝熱管17,17
・・・の上下両端に不浸透黒鉛製の管板15,15・・
・を取付けて外側をジャケット20でおおってなる套管
式熱交換器である冷却部が直結される。
上方の管板15は希釈室10の底部を形成し、該管板1
5には伝熱管1717・・・に連通する不浸透黒鉛製の
短管16,16・・・が突設される。
なお上記短管16,16・・・は管板15にネジ止めに
より固定され、上端には切欠部16aが形成することが
好ましい。
18は下方の管板15の下側に取付けられ希硫酸13の
出口14を有する不浸透黒鉛製の液室である。
希釈室10内に一時プールされた希硫酸13は短f16
、16・・・から流入し、伝熱管17.17・・・内
面を膜状に流下し冷却され液室18に到り出口14より
取出される。
邪魔板19とジャケット20は低炭素鋼製であり、入口
ノズル20aから供給される冷却水21は希硫酸13の
熱を吸収し出口ノズル20bから排出される。
上記構成により発熱した希酸は短管の切欠部から入り伝
熱管内壁面を液膜を形成しながら流下するが、この場合
の希酸側の境膜伝熱係数は300〜600Km/mH’
cとなり従来よりも増加する。
また切欠部の深さが10〜15關の場合には液面の変動
を20mm以下とすることができ、液面が下降した場合
にも濃酸の飛散防止対策は不要となる。
このように本考案によると冷却部に套管式熱交換器を用
い、該熱交換器の希釈室の底部となる管板に短管を突設
し、この高さに希釈室内の希酸の液面を形成し短管の上
端から希酸を伝熱管内壁面に液膜を形成しながら流下冷
却させるようにしたので、希酸の境膜伝熱係数が増加し
冷却部の伝熱面積を減少せしめ、冷却部の小形化を図る
ことができるとともに希釈室内における液面の変動を小
さくすることができ5液面が下降した場合においても濃
酸の飛散防止対策が不要となる効果がある。
さらに短管の上端に切欠部などを形成した場合には希酸
の短管への流入が容易となり、上記の効果はさらに向上
する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例になる濃硫酸希釈装置の縦断
面図である。 符号の説明、1・・・・・・吸収室カバー、2・・・・
・・希釈水導入ノズル、3・・・・・・硫酸注入管取付
ノズル、4・・・・・・希釈水分布器、5・・・・・・
希釈水、6・・・・・・吸収室、7・・・・・・充てん
層、8・・・・・・目皿、9・・・・・・濃硫酸注入管
、9a・・・・・・先端、10・・・・・・希釈室、1
1・・・・・・酸ミスト、12・・・・・・濃硫酸、1
3・・・・・・希硫酸、14・・・・・・出口、15・
・・・・・管板、16・・・・・・短管、16a・・・
・・・切欠部、17・・・・・・伝熱管、18・・・・
・・液室、19・・・・・・邪魔板、20・・・・・・
ジャケット、20a・・・・・・入口ノズル、20b・
・・・・・出口ノズル、21・・・・・・冷却水。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 希釈液面上に濃酸が流下する希釈室の上部に該希釈
    室に希釈液をシャワー状に供給する吸収室と、上記希釈
    室の下部に冷却部を直結した酸希釈装置において、上記
    冷却部に套管式熱交換器を用い、上記希釈室の底部とな
    る上記套管式熱交換器の管板に下方の伝熱管に連通ずる
    短管を突設してなる酸希釈装置。 2 伝熱管に連通ずる短管が上端に切欠部を設けた短管
    である実用新案登録請求の範囲第1項記載の酸希釈装置
    。
JP2587182U 1982-02-24 1982-02-24 酸希釈装置 Expired JPS5933460Y2 (ja)

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JP2587182U JPS5933460Y2 (ja) 1982-02-24 1982-02-24 酸希釈装置

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Publication Number Publication Date
JPS58128620U JPS58128620U (ja) 1983-08-31
JPS5933460Y2 true JPS5933460Y2 (ja) 1984-09-18

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