JPS5933963Y2 - 吸収冷凍機の再生器 - Google Patents
吸収冷凍機の再生器Info
- Publication number
- JPS5933963Y2 JPS5933963Y2 JP1976052801U JP5280176U JPS5933963Y2 JP S5933963 Y2 JPS5933963 Y2 JP S5933963Y2 JP 1976052801 U JP1976052801 U JP 1976052801U JP 5280176 U JP5280176 U JP 5280176U JP S5933963 Y2 JPS5933963 Y2 JP S5933963Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- regenerator
- heat transfer
- heat
- heat exchanger
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は吸収冷凍機の駆動熱源である温水又は蒸気を通
す伝熱管を具有する吸収冷凍機の再生器に係る。
す伝熱管を具有する吸収冷凍機の再生器に係る。
第1図に従来の温水又は蒸気駆動の場合、第2図に直焚
きの場合を示す。
きの場合を示す。
従来の吸収冷凍機の再生器は第1図、第2図に1’a
、 I’bで示す通り、加熱伝熱管14′が溶液16′
中に浸漬された・いわゆる満液式であった。
、 I’bで示す通り、加熱伝熱管14′が溶液16′
中に浸漬された・いわゆる満液式であった。
しかし、このような満液式であると、伝熱管14′の深
層液部と浅層液部では圧力差(溶液のヘッド差)が生じ
、深層液部では溶液の沸騰温度が上昇し、熱伝達が悪い
ばかりでなく、多くの充填導液が必要とされてきた。
層液部と浅層液部では圧力差(溶液のヘッド差)が生じ
、深層液部では溶液の沸騰温度が上昇し、熱伝達が悪い
ばかりでなく、多くの充填導液が必要とされてきた。
第2図のような直焚きの場合(灯油、重油、ガス)はあ
まり影響はないが、第1図のような温水、又は蒸気駆動
の場合は深層液部が過熱度が高くとれないと、サブクー
ルとなり、熱伝達係数が悪くなる。
まり影響はないが、第1図のような温水、又は蒸気駆動
の場合は深層液部が過熱度が高くとれないと、サブクー
ルとなり、熱伝達係数が悪くなる。
第1図、第2図において、15′は溶液入口管、17’
はオーバーフロ一部、18′は溶液出口管、19′は蒸
気出口管、20′は燃焼室である。
はオーバーフロ一部、18′は溶液出口管、19′は蒸
気出口管、20′は燃焼室である。
また、第3図に示す二重効用吸収冷凍機の低圧再生器2
′のように、散布スプレー(13′で示す)式であると
、伝熱管12′に触れずにそのまま落下する溶液が多く
、溶液ポンプ9′より低温、高温熱交換器7’、6’を
通って供給される溶液のみでは、伝熱管12′上での溶
液の濡れ率が低下し、熱交換効率が低下するという欠点
があった。
′のように、散布スプレー(13′で示す)式であると
、伝熱管12′に触れずにそのまま落下する溶液が多く
、溶液ポンプ9′より低温、高温熱交換器7’、6’を
通って供給される溶液のみでは、伝熱管12′上での溶
液の濡れ率が低下し、熱交換効率が低下するという欠点
があった。
なお、第3図において、1′は高圧再生器、3′は凝縮
器、4′は蒸発器、5′は吸収器、8′は分離器、10
′は溶液トラップ、11′は冷媒トラップである。
器、4′は蒸発器、5′は吸収器、8′は分離器、10
′は溶液トラップ、11′は冷媒トラップである。
本考案は再生器の溶液充填量を大幅に少(し、熱伝達係
数を従来の満液式等の場合に比し2〜4倍の値になり、
伝熱面積を減少することを目的とし、吸収冷凍機の駆動
熱源である温水または蒸気を伝熱管に通し、この伝熱管
上に溶液を散布する溶液散布装置に、該散布装置によっ
て散布されて落下した溶液を再循環させる装置を用(・
て繰返し散布させることにより、伝熱管の全表面に充分
な液膜を形成し、膜状蒸発させるようにしたものであり
、温水又は蒸気駆動の一重、二重効用吸収冷凍機、太陽
熱利用の一重、二重効用吸収冷凍機に使用されるもので
ある。
数を従来の満液式等の場合に比し2〜4倍の値になり、
伝熱面積を減少することを目的とし、吸収冷凍機の駆動
熱源である温水または蒸気を伝熱管に通し、この伝熱管
上に溶液を散布する溶液散布装置に、該散布装置によっ
て散布されて落下した溶液を再循環させる装置を用(・
て繰返し散布させることにより、伝熱管の全表面に充分
な液膜を形成し、膜状蒸発させるようにしたものであり
、温水又は蒸気駆動の一重、二重効用吸収冷凍機、太陽
熱利用の一重、二重効用吸収冷凍機に使用されるもので
ある。
本考案を第4図に示された実施例(−重効用機)に基い
て説明する。
て説明する。
再生器1内の加熱伝熱管14(加熱源として吸収冷凍機
の駆動熱源である温水又は蒸気が通っている)上に溶液
スプレー装置24を有し、この溶液スプレー装置24に
より前記伝熱管14上に溶液(溶液ポンプによって送り
こまれた溶液)が散布され、同伝熱管14上に液膜を形
成し、伝熱管の内外で熱交換(内部を流れる温水又は蒸
気と外部に散布される溶液とによる熱交換)が行なわれ
、伝熱管14外の溶液は沸騰し、冷媒を出して濃い溶液
となり、16aで示すように再生器1の底に溜り、溶液
出口管18より出て行く。
の駆動熱源である温水又は蒸気が通っている)上に溶液
スプレー装置24を有し、この溶液スプレー装置24に
より前記伝熱管14上に溶液(溶液ポンプによって送り
こまれた溶液)が散布され、同伝熱管14上に液膜を形
成し、伝熱管の内外で熱交換(内部を流れる温水又は蒸
気と外部に散布される溶液とによる熱交換)が行なわれ
、伝熱管14外の溶液は沸騰し、冷媒を出して濃い溶液
となり、16aで示すように再生器1の底に溜り、溶液
出口管18より出て行く。
19は蒸気出口管である。一方、再生器1の底に溜った
溶液16aは溶液もどり管26を経て溶液再循環装置2
5(エジエクターのようなもので、ポンプにより溶液を
溶液スプレー装置24に送りこむ管に設置される)に至
り、これによって再度繰返し伝熱管14上に散布する様
になっており、この繰返し溶液散布によって伝熱管14
の全表面に溶液をゆきわたらせ、全面液膜を形成して濡
れ率を均一にするようになっている。
溶液16aは溶液もどり管26を経て溶液再循環装置2
5(エジエクターのようなもので、ポンプにより溶液を
溶液スプレー装置24に送りこむ管に設置される)に至
り、これによって再度繰返し伝熱管14上に散布する様
になっており、この繰返し溶液散布によって伝熱管14
の全表面に溶液をゆきわたらせ、全面液膜を形成して濡
れ率を均一にするようになっている。
前に述べたように、従来の満液式(第1図、第2図に示
した)であると、伝熱管14′の深層液部と浅層液部で
は圧力差が生じ、しかも再生器1’a1’b内の圧力は
大気圧に比べ低いために、深層液部と浅層液部とでは溶
液の沸騰温度に大きな差が生ずる。
した)であると、伝熱管14′の深層液部と浅層液部で
は圧力差が生じ、しかも再生器1’a1’b内の圧力は
大気圧に比べ低いために、深層液部と浅層液部とでは溶
液の沸騰温度に大きな差が生ずる。
このため、深層液部では溶液の沸騰温度が上昇し、熱伝
達が悪いばかりでな(、多くの溶液を必要とした。
達が悪いばかりでな(、多くの溶液を必要とした。
また第3図のようなスプレ一式であると、再生器(高圧
)1′よりの溶液は溶液スプレー装置13′によって飛
散され、伝熱管12′には触れずに、そのまま落下する
溶液が多く、再生器1′よりの溶液のみでは伝熱管12
′上での溶液の濡れ率が低下し、熱交換効率が低下する
という欠点があったが、本考案においては上記実施例に
ついて説明したように、吸収冷凍機の駆動熱源である温
水または蒸気を加熱伝熱管14に導入し、この伝熱管上
に溶液を溶液散布装置24によって散布して液膜を形成
すると共に、同溶液散布装置によって散布されて落下し
た溶液16aを、再循環させる装置25によって前記溶
液散布装置24に再度繰返し循環させて、溶液を伝熱管
14の全表面にゆきわたらせて全面液膜を形成し、濡れ
率を均一にするようになっているので、伝熱管14の全
部分が均一の圧力のもとにおかれ、伝熱管内外での熱交
換を著しく向上するので、溶液の蒸発を促進しく従来の
伝熱管の深層液部と浅層液部の圧力差による蒸発阻害を
除去する)、従って運転起動時の立上り時間が短くなる
のみならず、伝熱面積を減少することができ、吸収冷凍
機の小型化が可能となる。
)1′よりの溶液は溶液スプレー装置13′によって飛
散され、伝熱管12′には触れずに、そのまま落下する
溶液が多く、再生器1′よりの溶液のみでは伝熱管12
′上での溶液の濡れ率が低下し、熱交換効率が低下する
という欠点があったが、本考案においては上記実施例に
ついて説明したように、吸収冷凍機の駆動熱源である温
水または蒸気を加熱伝熱管14に導入し、この伝熱管上
に溶液を溶液散布装置24によって散布して液膜を形成
すると共に、同溶液散布装置によって散布されて落下し
た溶液16aを、再循環させる装置25によって前記溶
液散布装置24に再度繰返し循環させて、溶液を伝熱管
14の全表面にゆきわたらせて全面液膜を形成し、濡れ
率を均一にするようになっているので、伝熱管14の全
部分が均一の圧力のもとにおかれ、伝熱管内外での熱交
換を著しく向上するので、溶液の蒸発を促進しく従来の
伝熱管の深層液部と浅層液部の圧力差による蒸発阻害を
除去する)、従って運転起動時の立上り時間が短くなる
のみならず、伝熱面積を減少することができ、吸収冷凍
機の小型化が可能となる。
第1図、第2図は従来の吸収冷凍機の再生器、即ち伝熱
管を溶液中に浸漬する満液式のものの概略図で、第1図
は温水又は蒸気駆動の場合、第2図は直焚きの場合を示
す。 第3図は従来の二重効用吸収冷凍機の回路図で、低圧再
生器内の伝熱管に高圧再生器よりの溶液を散布するスプ
レ一式を用いた場合を示す。 第4図は本考案によるl実施例の再生器の概略図である
。 第4図において、1・・・・・・再生器、14・・・・
・・伝熱管、24・・・・・・溶液スプレー装置、25
・・・・・・溶液再循環装置、26・・・・・・溶液も
どり管、16a・・・・・・再生器の底に溜った溶液、
18・・・・・・溶液出口管、19・・・・・・蒸気出
口管。
管を溶液中に浸漬する満液式のものの概略図で、第1図
は温水又は蒸気駆動の場合、第2図は直焚きの場合を示
す。 第3図は従来の二重効用吸収冷凍機の回路図で、低圧再
生器内の伝熱管に高圧再生器よりの溶液を散布するスプ
レ一式を用いた場合を示す。 第4図は本考案によるl実施例の再生器の概略図である
。 第4図において、1・・・・・・再生器、14・・・・
・・伝熱管、24・・・・・・溶液スプレー装置、25
・・・・・・溶液再循環装置、26・・・・・・溶液も
どり管、16a・・・・・・再生器の底に溜った溶液、
18・・・・・・溶液出口管、19・・・・・・蒸気出
口管。
Claims (1)
- 吸収冷凍機の駆動熱源である温水または蒸気を導入する
伝熱管上に溶液を散布する溶液散布装置を有する再生器
において、前記散布装置によって散布されて落下した溶
液を同散布装置に繰返し再循環させる装置を具備したこ
とを特徴とする吸収冷凍機の再生器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976052801U JPS5933963Y2 (ja) | 1976-04-27 | 1976-04-27 | 吸収冷凍機の再生器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976052801U JPS5933963Y2 (ja) | 1976-04-27 | 1976-04-27 | 吸収冷凍機の再生器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52143763U JPS52143763U (ja) | 1977-10-31 |
| JPS5933963Y2 true JPS5933963Y2 (ja) | 1984-09-20 |
Family
ID=28511871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1976052801U Expired JPS5933963Y2 (ja) | 1976-04-27 | 1976-04-27 | 吸収冷凍機の再生器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933963Y2 (ja) |
-
1976
- 1976-04-27 JP JP1976052801U patent/JPS5933963Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52143763U (ja) | 1977-10-31 |
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