JPS5934143Y2 - 真空チヤツクの吸着部 - Google Patents

真空チヤツクの吸着部

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JPS5934143Y2
JPS5934143Y2 JP15185781U JP15185781U JPS5934143Y2 JP S5934143 Y2 JPS5934143 Y2 JP S5934143Y2 JP 15185781 U JP15185781 U JP 15185781U JP 15185781 U JP15185781 U JP 15185781U JP S5934143 Y2 JPS5934143 Y2 JP S5934143Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
vacuum chuck
porous ceramic
ceramic plate
seal layer
Prior art date
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Expired
Application number
JP15185781U
Other languages
English (en)
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JPS5856441U (ja
Inventor
淳平 鈴木
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NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は多孔質セラミックスを用いた真空チャックの吸
着部に関するものである。
従来の多孔質セラミックスを用いた真空チャックの吸着
部は第１図に示すように、多孔質セラミックス１の外周
縁に金属、ガラス、特殊な場合にゴムよりなるシール層
２が設けられており、外周と両端面が所定の寸法形状に
仕上げられ、真空ポンプに接続された取り付は台３に固
定され、Ｏリング４で気密性が保たれ、被加工物５を吸
着するようにしている。
このような真空チャックは、例えばシリコンウェハのよ
うな硬くて脆い結晶基板の研削にしばしば用いられてい
る。
その際研削工具としてダイヤモンド砥石が用いられ、そ
の目立であるいは目直しと、吸着面の平面出しを兼ねて
、外周シールされた多孔質セラミックス板の吸着面を僅
かに研削してから被加工物を吸着して被加工物を研削す
る方法がとられている。
上記のように吸着面を研削するとき、外周シール層２が
、多孔質セラミックスより軟質で展延性が大きいもので
ある金属の場合、ダイヤモンド砥石は目づまりを起し、
またその目づまりのため砥石が被研削面から逃げたり、
反対に研削面に食いついたりして吸着面の平面精度が出
にくがった。
一方また、外周シール層２として多孔質セラミックスよ
り加工され易いガラス等を用いた場合、外周シール層２
の方が多孔質セラミックス板１面より数１０μｍ低くな
る段差ができ、被加工物を吸着加工する場合に吸着力が
低下するのみでなく、加工中に被加工物の破損を引き起
こすことがあった。
さらに、外周シール層２を弾性が大きいゴム等にした場
合、ガラスシール材の場合と反対に多孔質セラミックス
板面が数百μｍも低くなるような大きな段差ができ、大
きな吸着力が得られるが、被加工物の平面度、平行度の
精度が得難い等の欠点があった。
本考案は上記の点にかんがみ、吸着面の平面出し時に、
外周シール層面と多孔質セラミックス板面との間に生ず
る段差が極めて小さくなるようにした真空チャックの吸
着部を提供するものであって、以下図面について詳細に
説明する。
第２図は本考案の実施例を示し、１１は従来と同様の多
孔質セラミックス板、１２はアルミナ粉末８０重量パー
セント混合エポキシ樹脂よりなる外周シール層であって
、成形型を用い多孔質セラミックス板１１の外周に流し
込むことによって形成できる。
このように構成された吸着部を第１図に示したと同様に
取付は台に固定し、Φ４００のダイヤモンド砥石の日立
、目直しを目的として吸着面を僅かに研削したときの吸
着面の拡大図を示すと第３図のようになる。
この図でａで示す範囲は外周シール層１２、ｂで示す範
囲は多孔質セラミックス板１１である。
多孔質セラミックス板１１は気孔が多いため、表面部の
凹凸が多いが、その凸部と外周シール層１２との平均段
差は５μｍ以下で、多孔質セラミックス板１１の方が凹
んでいる。
その際砥石の目立て、目直しも行なわれた。
またラップにおいても同様に段差が極めて小さくなる。
このような吸着部により、直径７６ｍｍ、厚さ０．４ｍ
ｍのシリコンウェハを吸着して研削した結果、この被加
工物が破損することなく平行度２μｍ以下が得られた。
なお、アルミナ粉末混合エポキシ樹脂を前述のように成
形室により外周シール層１２として形成するので、その
成形後に外周寸法が取付台の凹穴に合うよう、また端面
を多孔質セラミックス１１と共にほは゛平面にするため
のバイト等による切削を必要とするが、このような形状
加工は容易にできる。
また本考案の真空チャックの吸着部は前記例示のような
結晶基板の加工のみならず、他の被加工材の加工のため
の吸着保持用としても用い得ることは勿論である。
以上のように本考案吸着部は、研削用砥石による砥石の
目立て、目直しを兼ねる吸着面の平面出しを行なったと
き、砥石の目立て、目直しもでき、多孔質セラミックス
面と外周シール部面との間にできる段差を極めて小さく
できる。
またラップにおいても同様に段差を極めて小さくできる
。
従って吸着させる被加工物を大きな吸着力で吸着するこ
とができ、被加工物の高精度な加工を行ない得る。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の真空チャックの断面図、第２図は本考案
の実施例の断面図、第３図は本考案吸着部の研削後の吸
着面の拡大図を示す。 １１・・・・・・多孔質セラミックス板、１２・・・・
・・外周シール層。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 多孔質セラミックス板の周縁部に外周シール層を設けて
    なる真空チャックの吸着部において、外周シール層をア
    ルミナ粉末混合エポキシ樹脂で形成したことを特徴とす
    る吸着部。
JP15185781U 1981-10-13 1981-10-13 真空チヤツクの吸着部 Expired JPS5934143Y2 (ja)

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JP15185781U JPS5934143Y2 (ja) 1981-10-13 1981-10-13 真空チヤツクの吸着部

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JP15185781U JPS5934143Y2 (ja) 1981-10-13 1981-10-13 真空チヤツクの吸着部

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Publication Number Publication Date
JPS5856441U JPS5856441U (ja) 1983-04-16
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2651354B2 (ja) * 1994-08-01 1997-09-10 シーケーディ株式会社 真空チャックの吸着板

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JPS5856441U (ja) 1983-04-16

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