JPS5935384B2 - ブテンジオ−ルジアセタ−トの製法 - Google Patents
ブテンジオ−ルジアセタ−トの製法Info
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- JPS5935384B2 JPS5935384B2 JP51106860A JP10686076A JPS5935384B2 JP S5935384 B2 JPS5935384 B2 JP S5935384B2 JP 51106860 A JP51106860 A JP 51106860A JP 10686076 A JP10686076 A JP 10686076A JP S5935384 B2 JPS5935384 B2 JP S5935384B2
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- LMNKSQUFMGNXAW-UHFFFAOYSA-N 1-acetyloxybut-1-enyl acetate Chemical compound CCC=C(OC(C)=O)OC(C)=O LMNKSQUFMGNXAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 41
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 35
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 3
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 3
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N trans-but-2-ene Chemical compound C\C=C\C IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N 0.000 claims 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPIPGXGPPPQFEQ-UHFFFAOYSA-N 13-cis retinol Natural products OCC=C(C)C=CC=C(C)C=CC1=C(C)CCCC1(C)C FPIPGXGPPPQFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWWXARALRVYLAE-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxybut-3-enyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC(C=C)OC(C)=O MWWXARALRVYLAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FPIPGXGPPPQFEQ-BOOMUCAASA-N Vitamin A Natural products OC/C=C(/C)\C=C\C=C(\C)/C=C/C1=C(C)CCCC1(C)C FPIPGXGPPPQFEQ-BOOMUCAASA-N 0.000 description 1
- CTUFHBVSYAEMLM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;platinum Chemical compound [Pt].CC(O)=O.CC(O)=O CTUFHBVSYAEMLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- FPIPGXGPPPQFEQ-OVSJKPMPSA-N all-trans-retinol Chemical compound OC\C=C(/C)\C=C\C=C(/C)\C=C\C1=C(C)CCCC1(C)C FPIPGXGPPPQFEQ-OVSJKPMPSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 229910001570 bauxite Inorganic materials 0.000 description 1
- NMQQBXHZBNUXGJ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC=C NMQQBXHZBNUXGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N platinum(2+);dinitrate Chemical compound [Pt+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- WXEPIZIOIIEKPK-UHFFFAOYSA-L sodium;platinum(2+);sulfate Chemical compound [Na+].[Pt+2].[O-]S([O-])(=O)=O WXEPIZIOIIEKPK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019155 vitamin A Nutrition 0.000 description 1
- 239000011719 vitamin A Substances 0.000 description 1
- 229940045997 vitamin a Drugs 0.000 description 1
Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
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- C07C67/05—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds with oxidation
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/04—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はパラジウム及び(又は)白金並びにテルル及び
(又は)アンチモンを含有する固状触媒を使用して液状
相にてブタジエンと酸素及び醋酸とを反応せしめること
に依りブテンー1−ジオールー3・4−ジアセタート及
び(又は)ブテン−2−ジオールー1・4−ジアセター
トを製造する方法に係る。
(又は)アンチモンを含有する固状触媒を使用して液状
相にてブタジエンと酸素及び醋酸とを反応せしめること
に依りブテンー1−ジオールー3・4−ジアセタート及
び(又は)ブテン−2−ジオールー1・4−ジアセター
トを製造する方法に係る。
パラジウム含有固状触媒の存在に於て液状醋酸中にてブ
タジエンと酸素とを反応せしめてブテンジオールジアセ
タートを生ぜしめ、この場合ブタジエン及び酸素が瓦斯
としても存在することは公知である(独乙国特許公報第
2217452号)。
タジエンと酸素とを反応せしめてブテンジオールジアセ
タートを生ぜしめ、この場合ブタジエン及び酸素が瓦斯
としても存在することは公知である(独乙国特許公報第
2217452号)。
促進剤としてアルカリ塩を含有するパラジウム含有触媒
を使用して瓦斯相にてブタジエンと酸素及び醋酸とを反
応せしめることは、独乙国特許公開公報第220012
4号より公知である。最初に述べた作業方法の欠点は、
低い反応速度である。経験に依れば、従来瓦斯相に於け
る公知の反応に於ては望ましからぬ副生成物例えば1−
アセトキシ−1・3−ブタジエンが形成され、且つ触媒
の活性を害しないためには、反応を低いブタジエン濃度
にて行わなければならない。酸素とブタジエンとを反応
せしめる従来公知の総ての変形方法に於ける技術的欠点
は、特に故障の場合に、即ち何等かの理由から反応が衰
退する場合に爆発的瓦斯混合物が生ずることである。
を使用して瓦斯相にてブタジエンと酸素及び醋酸とを反
応せしめることは、独乙国特許公開公報第220012
4号より公知である。最初に述べた作業方法の欠点は、
低い反応速度である。経験に依れば、従来瓦斯相に於け
る公知の反応に於ては望ましからぬ副生成物例えば1−
アセトキシ−1・3−ブタジエンが形成され、且つ触媒
の活性を害しないためには、反応を低いブタジエン濃度
にて行わなければならない。酸素とブタジエンとを反応
せしめる従来公知の総ての変形方法に於ける技術的欠点
は、特に故障の場合に、即ち何等かの理由から反応が衰
退する場合に爆発的瓦斯混合物が生ずることである。
然るに反応を場合に依り固定配置された触媒を使用して
瓦斯相の回避の下に行わしめる時は、前記の方法が高い
選択性を以て、長時間に亘り、極めて高い時空収率(R
aum−Zeit−Ausbeuten)〔註:触媒の
毎Ccにつき毎時の収率をグラムで表わす〕にて危険な
しに且つ望ましからぬ副生成物の形成なしに実施され得
ることが知られた。前記の方法の改善、従て本発明は、
触媒に供給される瓦斯量を常に完全に溶解するに充分な
ような液体量にて触媒が負荷される点に存する。 》
〈 工業的には(1)圧力下にて作業し (2)反応室より分離された混合装置中に於て酸素を(
できる限り速かに)液体中に溶解し、且つ必要な場合に
は(3)時に生ずる瓦斯を自動的に去らしめる反応室を
使用する。
瓦斯相の回避の下に行わしめる時は、前記の方法が高い
選択性を以て、長時間に亘り、極めて高い時空収率(R
aum−Zeit−Ausbeuten)〔註:触媒の
毎Ccにつき毎時の収率をグラムで表わす〕にて危険な
しに且つ望ましからぬ副生成物の形成なしに実施され得
ることが知られた。前記の方法の改善、従て本発明は、
触媒に供給される瓦斯量を常に完全に溶解するに充分な
ような液体量にて触媒が負荷される点に存する。 》
〈 工業的には(1)圧力下にて作業し (2)反応室より分離された混合装置中に於て酸素を(
できる限り速かに)液体中に溶解し、且つ必要な場合に
は(3)時に生ずる瓦斯を自動的に去らしめる反応室を
使用する。
ことに依り、反応室中に於て瓦斯相が生ずることを確実
に抑圧することができる瓦斯(場合に依りブタジエン及
びどの場合にも酸素)を反応液に混和するためには、関
係普通装置に立返ることができる;例えば噴射ノズル又
は大なる表面を有する物質にて充填されている流動管を
使用することができる。
に抑圧することができる瓦斯(場合に依りブタジエン及
びどの場合にも酸素)を反応液に混和するためには、関
係普通装置に立返ることができる;例えば噴射ノズル又
は大なる表面を有する物質にて充填されている流動管を
使用することができる。
操業条件下にて反応溶液中に精々溶解され得る酸素量は
溶解率に依り決定される。本発明の実際的成果を明示す
るために、次に醋酸及びブテン−2−ジオール−1・4
−ジアセタート中に於ける種々の温度に於ける酸素及び
ブタジエンの溶解度を記載する。
溶解率に依り決定される。本発明の実際的成果を明示す
るために、次に醋酸及びブテン−2−ジオール−1・4
−ジアセタート中に於ける種々の温度に於ける酸素及び
ブタジエンの溶解度を記載する。
勿論反応混合物の全成分は、その溶解度に於て互に影響
を及ぼし、従て総ての考慮し得る場合に対して適する記
載は不可能である。前記の量に関する記載に基づき本発
明にて可能な反応一或は時空一収率は後記の9牡り明ら
かである。
を及ぼし、従て総ての考慮し得る場合に対して適する記
載は不可能である。前記の量に関する記載に基づき本発
明にて可能な反応一或は時空一収率は後記の9牡り明ら
かである。
可能な反応装置は添附図面に図示されている。
反応器は20詣の内径を有する長さ4mの二重套鋼管よ
り成る。外部套に依り、制御された蒸気供給を介して反
応温度が調節される。原料物質は選択的に上方より又は
下方より供給されることができる。
り成る。外部套に依り、制御された蒸気供給を介して反
応温度が調節される。原料物質は選択的に上方より又は
下方より供給されることができる。
添附の図面は供給が上方より行われる実施形を示す。生
成物導管1a,1bを経て醋酸及び液状ブタジエンが、
別々の貯器よりポンプに依り反応系中に導入される。
成物導管1a,1bを経て醋酸及び液状ブタジエンが、
別々の貯器よりポンプに依り反応系中に導入される。
原料物質が直接分離器7中に流入することを阻止するた
めに、1と7との間に逆止弁8が存在している。生成物
導管2を通して液状使用混合物がポンプ3の吸引側に導
かれる。ポンプ3の圧縮側には、瓦斯状酸素4の供給が
行われる。導入される酸素が完全に使用混合物中に溶解
することを確実ならしめる混合装置5は、充填体を充填
された長い管より成る。酸素が完全に溶解されたかどう
かを制御するために、混合装置の後方に覗き硝子及び普
通の方法にて瓦斯状物質の分離を許容する制御装置が存
在している。反応器6より流出する生成物混合物は、緩
衝容器(分離器)7中に達する;圧力保持に依り流出は
制御される。
めに、1と7との間に逆止弁8が存在している。生成物
導管2を通して液状使用混合物がポンプ3の吸引側に導
かれる。ポンプ3の圧縮側には、瓦斯状酸素4の供給が
行われる。導入される酸素が完全に使用混合物中に溶解
することを確実ならしめる混合装置5は、充填体を充填
された長い管より成る。酸素が完全に溶解されたかどう
かを制御するために、混合装置の後方に覗き硝子及び普
通の方法にて瓦斯状物質の分離を許容する制御装置が存
在している。反応器6より流出する生成物混合物は、緩
衝容器(分離器)7中に達する;圧力保持に依り流出は
制御される。
流出する生成物の一部は、場合に依り循環に於て設備中
に送環されることができる。勿論水平反応器も使用され
ることができる。前述の直立反応器は下方より上方に向
つて操業されるのが特に有利である。この際場合に依り
機械的手段にて、触媒堆積が浮遊することを防止しなけ
ればならない。反応器形は、程度の差はあるが、ずんぐ
りした塔の形に限定されるものではなく、例えばループ
管又は蛇管より成ることができることは勿論である。連
続的操業方法は利点を有するけれども、公知の装置に於
て断続的作業されることもできる。反応温度は一般に6
0〜120殊に70〜110℃である。
に送環されることができる。勿論水平反応器も使用され
ることができる。前述の直立反応器は下方より上方に向
つて操業されるのが特に有利である。この際場合に依り
機械的手段にて、触媒堆積が浮遊することを防止しなけ
ればならない。反応器形は、程度の差はあるが、ずんぐ
りした塔の形に限定されるものではなく、例えばループ
管又は蛇管より成ることができることは勿論である。連
続的操業方法は利点を有するけれども、公知の装置に於
て断続的作業されることもできる。反応温度は一般に6
0〜120殊に70〜110℃である。
勿論60℃以下の温度も原則的には可能であるが、時空
収率は急速に低下する。同様に120℃以上の温度も可
能ではあるが、副生成物形成が増加する。反応圧は方法
様式に応じて、一般に大気圧と約300バールとの間に
在る。
収率は急速に低下する。同様に120℃以上の温度も可
能ではあるが、副生成物形成が増加する。反応圧は方法
様式に応じて、一般に大気圧と約300バールとの間に
在る。
5〜50バールの圧力が殊に有利である。
触媒を製造するためには、担体上に於ける金属触媒用の
普通の製造方法が使用されることができる。
普通の製造方法が使用されることができる。
触媒は例えばパラジウム一、白金−、テルル或はアンチ
モン化合物を適当な溶剤中に溶解することに依り得られ
た1つ又は順次に多くの溶液中に担体を附与することに
依り製造されることができる,次に有効成分を担体上に
沈澱せしめるために溶剤を溜別し、且つこのように準備
された触媒を水素流中にて又は還元性化合物例えばヒド
ラジン、メタノール又はフオルマリンに依り還元する。
モン化合物を適当な溶剤中に溶解することに依り得られ
た1つ又は順次に多くの溶液中に担体を附与することに
依り製造されることができる,次に有効成分を担体上に
沈澱せしめるために溶剤を溜別し、且つこのように準備
された触媒を水素流中にて又は還元性化合物例えばヒド
ラジン、メタノール又はフオルマリンに依り還元する。
担体を有効成分の適当な溶液中に懸濁し、成分を適当な
方法にて沈澱せしめ、続いて還元することに依ても触媒
を製造することができる。更に成分を担体上に溶液より
直接に還元剤例えばヒドラジンにて被着することに依り
、触媒を製造することもできる。
方法にて沈澱せしめ、続いて還元することに依ても触媒
を製造することができる。更に成分を担体上に溶液より
直接に還元剤例えばヒドラジンにて被着することに依り
、触媒を製造することもできる。
成分は前述のように同時に又は順次に担体上に沈澱せし
めることができる。
めることができる。
触媒を製造するために使用されるパラジウム化合物は、
費用の点からハロゲン化パラジウム化合物例えば塩化パ
ラジウム又は塩化ナトリウム,パラジウムが適当である
けれども、特に決定的なことではない。
費用の点からハロゲン化パラジウム化合物例えば塩化パ
ラジウム又は塩化ナトリウム,パラジウムが適当である
けれども、特に決定的なことではない。
然かも勿論他のパラジウム化合物例えば硫酸ナトリウム
パラジウム、醋酸パラジウム、硝酸バラジウム、酸化パ
ラジウムも使用されることができる。製造のために使用
される白金化合物も特に限定されない。
パラジウム、醋酸パラジウム、硝酸バラジウム、酸化パ
ラジウムも使用されることができる。製造のために使用
される白金化合物も特に限定されない。
例えば塩化白金、醋酸白金、硝酸白金、酸化白金及び他
の白金化合物例えばヘキサクロル白金酸、硫酸ナトリウ
ム白金を使用することができる。パラジウム及び白金は
夫々単独にて有効であるが、混合物としても有効である
。
の白金化合物例えばヘキサクロル白金酸、硫酸ナトリウ
ム白金を使用することができる。パラジウム及び白金は
夫々単独にて有効であるが、混合物としても有効である
。
触媒を製造するための更に他の成分はテルル及び(又は
)アンチモンである:その硝酸塩、・・ロゲン化物、硫
酸塩、酸化物又は他の斯かる化合物は極めて有効な触媒
を製造するために役立つことができる。担体上に於ける
パラジウム或は白金の濃度は普通0.1乃至20重量%
であるが、更に高い又は低い濃度も可能である。
)アンチモンである:その硝酸塩、・・ロゲン化物、硫
酸塩、酸化物又は他の斯かる化合物は極めて有効な触媒
を製造するために役立つことができる。担体上に於ける
パラジウム或は白金の濃度は普通0.1乃至20重量%
であるが、更に高い又は低い濃度も可能である。
補助物質と認められるテルル或はアンチモンの濃度も広
い範囲に於て変化されることができる。一般に濃度は0
.5〜10重量%である。触媒を製造するためには、原
則的に担体例えば活性炭、珪酸ゲル、珪酸、アルミナ、
粘土、ボーキサイト、マグネシア、珪藻土、軽石等を使
用することができる。
い範囲に於て変化されることができる。一般に濃度は0
.5〜10重量%である。触媒を製造するためには、原
則的に担体例えば活性炭、珪酸ゲル、珪酸、アルミナ、
粘土、ボーキサイト、マグネシア、珪藻土、軽石等を使
用することができる。
担体は普通の方法に依り、例えば酸にて処理することに
依り活性化されていることができる。活性炭は特に適当
な担体であることが判明した。触媒の粒大は一般に0.
1〜10mmであつて、夫自体公知の方法にて夫々の技
術的方法規定に依り左右される。本発明方法に依り製造
できるブテンジオールジアセタートは、例えばブタンジ
オール−1・4、テトラヒドロフラン及びビタミンAを
製造するための価値ある中間生成物である。
依り活性化されていることができる。活性炭は特に適当
な担体であることが判明した。触媒の粒大は一般に0.
1〜10mmであつて、夫自体公知の方法にて夫々の技
術的方法規定に依り左右される。本発明方法に依り製造
できるブテンジオールジアセタートは、例えばブタンジ
オール−1・4、テトラヒドロフラン及びビタミンAを
製造するための価値ある中間生成物である。
次に本発明を次の諸例に依り詳細に説明するが、これ等
諸例は単に説明のために役立つだけであつて、本発明を
限定するものではない。
諸例は単に説明のために役立つだけであつて、本発明を
限定するものではない。
例1
塩化パラジウム53.3t及び二酸化テルル12.0f
7を6N塩酸4000m1中に溶解する;これに予め1
5%硝酸と共に煮沸された活性炭(0.2〜0.4m7
7!φ)5007を添加し、且つ湯浴上にて乾燥するま
で徐々に蒸発する。
7を6N塩酸4000m1中に溶解する;これに予め1
5%硝酸と共に煮沸された活性炭(0.2〜0.4m7
7!φ)5007を添加し、且つ湯浴上にて乾燥するま
で徐々に蒸発する。
管中に於ける触媒中を20時間瓦斯状窒素流を150℃
に於て通過せしめることに依り更に乾燥せる後、室温に
於てメタノールにて飽和された瓦斯状窒素流を、毎分5
01の速度を以て10時間200℃に於て且つ10時間
400℃に於て導入することに依り物質を還元する。斯
くして製造された触媒0.5eを(図面参照)、耐圧反
応管6(長4000mm、直径20JzU)中に充填す
る。
に於て通過せしめることに依り更に乾燥せる後、室温に
於てメタノールにて飽和された瓦斯状窒素流を、毎分5
01の速度を以て10時間200℃に於て且つ10時間
400℃に於て導入することに依り物質を還元する。斯
くして製造された触媒0.5eを(図面参照)、耐圧反
応管6(長4000mm、直径20JzU)中に充填す
る。
触媒の上にはなお硝子環が充填される。次に30バール
及び90℃に於て毎時間液状ブタジエン1a0.751
、醋酸1b61及び酸素420N1を混合装置5(40
00×6mm管、金属螺旋にて充填)中に導入する。酸
素が完全に溶解されているように制御するために、混合
装置の上部に図面には省略されている覗き硝子が存在し
ている。斯くして得たる溶液をポンプ3の圧力に依り上
方より反応器6中に導く。
及び90℃に於て毎時間液状ブタジエン1a0.751
、醋酸1b61及び酸素420N1を混合装置5(40
00×6mm管、金属螺旋にて充填)中に導入する。酸
素が完全に溶解されているように制御するために、混合
装置の上部に図面には省略されている覗き硝子が存在し
ている。斯くして得たる溶液をポンプ3の圧力に依り上
方より反応器6中に導く。
流出する反応生成物を分離器7中に導き、そこから連続
的に設備より排出する〔反応生成物の一部は場合に依り
返環される;逆止弁8〕。148時間の時間に亘つて、
時空収率(7ジアセタート/l触媒・h)は平均250
である。
的に設備より排出する〔反応生成物の一部は場合に依り
返環される;逆止弁8〕。148時間の時間に亘つて、
時空収率(7ジアセタート/l触媒・h)は平均250
である。
ジアセタート一般出物は8.9%までブテン−1−ジオ
ール−3・4−ジアセタートより成り、89.8%まで
ブテン−2−ジオール−1・4−ジアセタートより成る
。例2 塩化白金18.17、二酸化テルル10.8t及び塩化
アンチモン3.97を6N塩酸41中に溶解する,これ
に予め15%硝酸と共に煮沸された活性炭(直径2mm
)0.751(3407)を添加し、且つ湯浴上にて徐
々に乾燥するまで蒸発する。
ール−3・4−ジアセタートより成り、89.8%まで
ブテン−2−ジオール−1・4−ジアセタートより成る
。例2 塩化白金18.17、二酸化テルル10.8t及び塩化
アンチモン3.97を6N塩酸41中に溶解する,これ
に予め15%硝酸と共に煮沸された活性炭(直径2mm
)0.751(3407)を添加し、且つ湯浴上にて徐
々に乾燥するまで蒸発する。
5時間150℃に於て乾燥せる後、触媒を例1に於ける
ように19時間200℃に於て且つ40時間400℃に
於て還元する。
ように19時間200℃に於て且つ40時間400℃に
於て還元する。
このようにして製造された触媒0.5eを例1に於て説
明された装置中に充填し、且つ95℃及び30バールに
於て、醋酸10.01?/h、ブタジエン700mZ/
h及び酸素20Ne/hを使用して反応を前述のように
実施する。
明された装置中に充填し、且つ95℃及び30バールに
於て、醋酸10.01?/h、ブタジエン700mZ/
h及び酸素20Ne/hを使用して反応を前述のように
実施する。
200時間の時間に亘つて、ジアセタートは1107/
e−hの平均時空収率を以て得られる。
e−hの平均時空収率を以て得られる。
この場合生成物は19.3%までブテン−1−ジオール
−3・4−ジアセタートより成り、79.4%までブテ
ン−2ジオール−1・4−ジアセタートより成る。次に
本発明方法が従来の方法より優れたものであることを実
験例を提示して説明する。実験例 1 (従来の方法) 120tの活性炭素粒(径4詣)が360m1の15%
硝酸溶液中に加えられ、その混合物は4時間還流に附さ
れた。
−3・4−ジアセタートより成り、79.4%までブテ
ン−2ジオール−1・4−ジアセタートより成る。次に
本発明方法が従来の方法より優れたものであることを実
験例を提示して説明する。実験例 1 (従来の方法) 120tの活性炭素粒(径4詣)が360m1の15%
硝酸溶液中に加えられ、その混合物は4時間還流に附さ
れた。
塩化パラジウム65ミリモルと酸化テルル13ミリモル
が6N塩酸450m1中に溶解され、そしてそこに前記
活性炭が加えられた。
が6N塩酸450m1中に溶解され、そしてそこに前記
活性炭が加えられた。
次いでその溶液は攪拌蒸発器中で乾燥のため蒸発された
。得られた触媒は完全に乾燥するため150℃で2時間
窒素気流中で乾燥され、その後メタノール含有窒素気流
中に200℃で16時間、ついで400℃で4時間導入
することにより還元された。さらに触媒は300℃で4
時間2%の酸素を含む窒素中を通すことによつて酸化条
件の支配を受ける。製造された触媒の100y(270
m1)が垂直のガラス製反応管(内径25m77!)中
に満たされ、氷醋酸200m11時間、プタジエン91
/時間そして酸素91/時間が、本質的に大気圧下にお
いて、継続的に反応を継続するような温度即ち85℃で
、反応管の上から通された。反応開始後適当な間隔をお
いて測定した触媒の時間当り、l当り製造されたジアセ
トキシブテンの量(それは瓦斯クロマトグラフと分別蒸
溜の双方によつて決定される)は第2図にグラフとして
示す通りである。
。得られた触媒は完全に乾燥するため150℃で2時間
窒素気流中で乾燥され、その後メタノール含有窒素気流
中に200℃で16時間、ついで400℃で4時間導入
することにより還元された。さらに触媒は300℃で4
時間2%の酸素を含む窒素中を通すことによつて酸化条
件の支配を受ける。製造された触媒の100y(270
m1)が垂直のガラス製反応管(内径25m77!)中
に満たされ、氷醋酸200m11時間、プタジエン91
/時間そして酸素91/時間が、本質的に大気圧下にお
いて、継続的に反応を継続するような温度即ち85℃で
、反応管の上から通された。反応開始後適当な間隔をお
いて測定した触媒の時間当り、l当り製造されたジアセ
トキシブテンの量(それは瓦斯クロマトグラフと分別蒸
溜の双方によつて決定される)は第2図にグラフとして
示す通りである。
グラフに示すように反応開始から400時間後の反応収
率は反応開始当初の約25y/f時から10f/e時以
下に減少した。実験例 2(従来方法) 実験1記載の方法により製造された触媒の2.51が鋼
製反応管(長さ2m、内径40關)に充填され、この反
応管に、温度85℃、圧力Jャoールで、時間当り1.2
1(20モル)の氷醋酸、215m1(2.4モル)の
液体ブタジエン及び411(1.8モル)の瓦斯状酸素
を通した。
率は反応開始当初の約25y/f時から10f/e時以
下に減少した。実験例 2(従来方法) 実験1記載の方法により製造された触媒の2.51が鋼
製反応管(長さ2m、内径40關)に充填され、この反
応管に、温度85℃、圧力Jャoールで、時間当り1.2
1(20モル)の氷醋酸、215m1(2.4モル)の
液体ブタジエン及び411(1.8モル)の瓦斯状酸素
を通した。
反応開始後適当な間隔をおいて測定した触媒の時間当り
、l当り得られたジアセトキシプテンの量は第3図にグ
ラフとして示す通りである。実験1におけると同様、触
媒活性は非常に短い反応時間の後減退した、即ち300
時間の後には最初の生成量のに以下に減少した。実験例
3 (上記実験1、及び2と対応する本発明方法)実験1に
したがつて製造された触媒400m1(1457:粒径
0.3〜1.0詣の活性炭上に3.8%のパラジウムと
1,0%のテルルを担持させたもの)が第4図の工程図
において符号9で示す耐圧ステンレススチール反応管(
長さ4m、内径20V!L)に装填され、その上にはガ
ラスリングが置かれた。
、l当り得られたジアセトキシプテンの量は第3図にグ
ラフとして示す通りである。実験1におけると同様、触
媒活性は非常に短い反応時間の後減退した、即ち300
時間の後には最初の生成量のに以下に減少した。実験例
3 (上記実験1、及び2と対応する本発明方法)実験1に
したがつて製造された触媒400m1(1457:粒径
0.3〜1.0詣の活性炭上に3.8%のパラジウムと
1,0%のテルルを担持させたもの)が第4図の工程図
において符号9で示す耐圧ステンレススチール反応管(
長さ4m、内径20V!L)に装填され、その上にはガ
ラスリングが置かれた。
ついで反応管9には図示するように5.2eの醋酸(H
OAc)、500m1の液体ブタジエン(C4)そして
標準状態で201?の酸素(02)が時間当り工程へ導
入された。酸素と醋酸は金属製の渦巻状充填物が満たさ
れた混合装置10(管状で長さ4m、内径611tm)
に温度90℃、圧力30バールで導入され、かくしてブ
タジエンと醋酸の混合物中に溶解された酸素よりなる、
瓦斯相のない溶液が反応管9の上部へ供給される。
OAc)、500m1の液体ブタジエン(C4)そして
標準状態で201?の酸素(02)が時間当り工程へ導
入された。酸素と醋酸は金属製の渦巻状充填物が満たさ
れた混合装置10(管状で長さ4m、内径611tm)
に温度90℃、圧力30バールで導入され、かくしてブ
タジエンと醋酸の混合物中に溶解された酸素よりなる、
瓦斯相のない溶液が反応管9の上部へ供給される。
反応流出物は反応管の底部から継続的に放出される。
反応割合(時間当り、触媒のl当りジアセテートの7で
表わす時空収率)は第5図のグラフで示すように平均6
50y/l−hであり、触媒活性の減少は見られなかつ
た。
表わす時空収率)は第5図のグラフで示すように平均6
50y/l−hであり、触媒活性の減少は見られなかつ
た。
以上の次第で本発明方法によるときは、反応を液相にお
いて、完全に瓦斯相を回避しつつ行うことにより長時間
に亘り時空収率の優れた状態で危険なしに反応を実施す
ることができる。
いて、完全に瓦斯相を回避しつつ行うことにより長時間
に亘り時空収率の優れた状態で危険なしに反応を実施す
ることができる。
第1図は本発明方法の実施例を示すフローダイヤグラム
である。 第2図及び第3図は実験例1及び2の時空収率を示すグ
ラフである。第4図は実験例3のフローダイヤグラムで
ある。第5図は実験例3の時空収率を示すグラフである
。符号の説明、1a,1b,2・・・・・・導管、3・
・・・・・ポンプ、4・・・・・・瓦斯状酸素、5・・
・・・・混合装置、6・・・・・・反応器、7・・・・
・・分離器、8・・・・・・逆止弁、9・・・・・・反
応管、10・・・・・・混合装置。
である。 第2図及び第3図は実験例1及び2の時空収率を示すグ
ラフである。第4図は実験例3のフローダイヤグラムで
ある。第5図は実験例3の時空収率を示すグラフである
。符号の説明、1a,1b,2・・・・・・導管、3・
・・・・・ポンプ、4・・・・・・瓦斯状酸素、5・・
・・・・混合装置、6・・・・・・反応器、7・・・・
・・分離器、8・・・・・・逆止弁、9・・・・・・反
応管、10・・・・・・混合装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 パラジウム及び(又は)白金並びにテルル及び(又
は)アンチモンを含有する固状触媒を使用して液状相に
おいてブタジエンと酸素及び醋酸とを反応せしめること
に依りブテン−2−ジオール−1・4−ジアセタート及
び(又は)ブテン−1−ジオール−3・4−ジアセター
トを製造する方法において、瓦斯状反応物のすべてを反
応室とは別の混合装置において液状反応物中に溶解し、
その後反応を完全に液体にて充填された反応室中にて瓦
斯相を回避しつつ実施することを特徴とするブテン−2
−ジオール−1・4−ジアセタート及び(又は)ブテン
−1−ジオール−3・4−ジアセタートの製法。 2 反応室として直立反応管を使用することを特徴とす
る特許請求の範囲1記載の方法。 3 酸素が反応室中に流入する前に反応室とは別の混合
装置において液状反応物中及び(又は)送環された反応
生成物中に溶解されることを特徴とする特許請求の範囲
2記載の方法。 4 5〜50バールの操業圧を維持することを特徴とす
る特許請求の範囲1記載の方法。 5 温度が60〜120℃であることを特徴とする特許
請求の範囲1記載の方法。 6 触媒として、担体としての活性炭上に被着されたパ
ラジウム−又は白金−触媒を使用することを特徴とする
特許請求の範囲1記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19752542925 DE2542925A1 (de) | 1975-09-26 | 1975-09-26 | Verfahren zur herstellung von butendioldiacetat |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5253808A JPS5253808A (en) | 1977-04-30 |
| JPS5935384B2 true JPS5935384B2 (ja) | 1984-08-28 |
Family
ID=5957488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51106860A Expired JPS5935384B2 (ja) | 1975-09-26 | 1976-09-08 | ブテンジオ−ルジアセタ−トの製法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4122285A (ja) |
| JP (1) | JPS5935384B2 (ja) |
| BE (1) | BE846575A (ja) |
| DE (1) | DE2542925A1 (ja) |
| FR (1) | FR2325633A1 (ja) |
| GB (1) | GB1554651A (ja) |
| IT (1) | IT1070568B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2847068A1 (de) * | 1978-10-28 | 1980-05-08 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von butendioldiacetaten und von butandiol |
| US4237312A (en) * | 1979-04-02 | 1980-12-02 | Phillips Petroleum Company | Oxidation process including recovery and recycle of catalyst |
| DE3309168A1 (de) * | 1983-03-15 | 1984-09-20 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von diacyloxibutenen |
| JP2530333B2 (ja) * | 1987-04-23 | 1996-09-04 | 三菱化学株式会社 | 不飽和グリコ−ルジエステルの製造方法 |
| WO2002030864A1 (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing diacetoxybutene |
| CN106461331B (zh) * | 2014-01-31 | 2018-09-18 | 达涅利机械设备股份公司 | 用于熔炼厂的加热及运送多种金属材料的装置以及包含所述装置的熔炼厂 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5212686B2 (ja) * | 1973-05-22 | 1977-04-08 | ||
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-
1976
- 1976-08-13 US US05/714,003 patent/US4122285A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-09-08 JP JP51106860A patent/JPS5935384B2/ja not_active Expired
- 1976-09-22 IT IT27515/76A patent/IT1070568B/it active
- 1976-09-23 FR FR7628589A patent/FR2325633A1/fr active Granted
- 1976-09-24 BE BE170928A patent/BE846575A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-09-24 GB GB39689/76A patent/GB1554651A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2325633A1 (fr) | 1977-04-22 |
| IT1070568B (it) | 1985-03-29 |
| FR2325633B1 (ja) | 1980-02-15 |
| DE2542925A1 (de) | 1977-04-21 |
| GB1554651A (en) | 1979-10-24 |
| JPS5253808A (en) | 1977-04-30 |
| BE846575A (fr) | 1977-03-24 |
| US4122285A (en) | 1978-10-24 |
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