JPS5935384B2 - ブテンジオ−ルジアセタ−トの製法 - Google Patents

ブテンジオ−ルジアセタ−トの製法

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JPS5935384B2
JPS5935384B2 JP51106860A JP10686076A JPS5935384B2 JP S5935384 B2 JPS5935384 B2 JP S5935384B2 JP 51106860 A JP51106860 A JP 51106860A JP 10686076 A JP10686076 A JP 10686076A JP S5935384 B2 JPS5935384 B2 JP S5935384B2
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    • C07C67/04Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパラジウム及び(又は)白金並びにテルル及び
(又は)アンチモンを含有する固状触媒を使用して液状
相にてブタジエンと酸素及び醋酸とを反応せしめること
に依りブテンー1−ジオールー3・4−ジアセタート及
び(又は)ブテン−2−ジオールー1・4−ジアセター
トを製造する方法に係る。
パラジウム含有固状触媒の存在に於て液状醋酸中にてブ
タジエンと酸素とを反応せしめてブテンジオールジアセ
タートを生ぜしめ、この場合ブタジエン及び酸素が瓦斯
としても存在することは公知である(独乙国特許公報第
2217452号)。
促進剤としてアルカリ塩を含有するパラジウム含有触媒
を使用して瓦斯相にてブタジエンと酸素及び醋酸とを反
応せしめることは、独乙国特許公開公報第220012
4号より公知である。最初に述べた作業方法の欠点は、
低い反応速度である。経験に依れば、従来瓦斯相に於け
る公知の反応に於ては望ましからぬ副生成物例えば1−
アセトキシ−1・3−ブタジエンが形成され、且つ触媒
の活性を害しないためには、反応を低いブタジエン濃度
にて行わなければならない。酸素とブタジエンとを反応
せしめる従来公知の総ての変形方法に於ける技術的欠点
は、特に故障の場合に、即ち何等かの理由から反応が衰
退する場合に爆発的瓦斯混合物が生ずることである。
然るに反応を場合に依り固定配置された触媒を使用して
瓦斯相の回避の下に行わしめる時は、前記の方法が高い
選択性を以て、長時間に亘り、極めて高い時空収率(R
aum−Zeit−Ausbeuten)〔註:触媒の
毎Ccにつき毎時の収率をグラムで表わす〕にて危険な
しに且つ望ましからぬ副生成物の形成なしに実施され得
ることが知られた。前記の方法の改善、従て本発明は、
触媒に供給される瓦斯量を常に完全に溶解するに充分な
ような液体量にて触媒が負荷される点に存する。 》
〈 工業的には(1)圧力下にて作業し (2)反応室より分離された混合装置中に於て酸素を(
できる限り速かに)液体中に溶解し、且つ必要な場合に
は(3)時に生ずる瓦斯を自動的に去らしめる反応室を
使用する。
ことに依り、反応室中に於て瓦斯相が生ずることを確実
に抑圧することができる瓦斯(場合に依りブタジエン及
びどの場合にも酸素)を反応液に混和するためには、関
係普通装置に立返ることができる;例えば噴射ノズル又
は大なる表面を有する物質にて充填されている流動管を
使用することができる。
操業条件下にて反応溶液中に精々溶解され得る酸素量は
溶解率に依り決定される。本発明の実際的成果を明示す
るために、次に醋酸及びブテン−2−ジオール−1・4
−ジアセタート中に於ける種々の温度に於ける酸素及び
ブタジエンの溶解度を記載する。
勿論反応混合物の全成分は、その溶解度に於て互に影響
を及ぼし、従て総ての考慮し得る場合に対して適する記
載は不可能である。前記の量に関する記載に基づき本発
明にて可能な反応一或は時空一収率は後記の9牡り明ら
かである。
可能な反応装置は添附図面に図示されている。
反応器は20詣の内径を有する長さ4mの二重套鋼管よ
り成る。外部套に依り、制御された蒸気供給を介して反
応温度が調節される。原料物質は選択的に上方より又は
下方より供給されることができる。
添附の図面は供給が上方より行われる実施形を示す。生
成物導管1a,1bを経て醋酸及び液状ブタジエンが、
別々の貯器よりポンプに依り反応系中に導入される。
原料物質が直接分離器7中に流入することを阻止するた
めに、1と7との間に逆止弁8が存在している。生成物
導管2を通して液状使用混合物がポンプ3の吸引側に導
かれる。ポンプ3の圧縮側には、瓦斯状酸素4の供給が
行われる。導入される酸素が完全に使用混合物中に溶解
することを確実ならしめる混合装置5は、充填体を充填
された長い管より成る。酸素が完全に溶解されたかどう
かを制御するために、混合装置の後方に覗き硝子及び普
通の方法にて瓦斯状物質の分離を許容する制御装置が存
在している。反応器6より流出する生成物混合物は、緩
衝容器(分離器)7中に達する;圧力保持に依り流出は
制御される。
流出する生成物の一部は、場合に依り循環に於て設備中
に送環されることができる。勿論水平反応器も使用され
ることができる。前述の直立反応器は下方より上方に向
つて操業されるのが特に有利である。この際場合に依り
機械的手段にて、触媒堆積が浮遊することを防止しなけ
ればならない。反応器形は、程度の差はあるが、ずんぐ
りした塔の形に限定されるものではなく、例えばループ
管又は蛇管より成ることができることは勿論である。連
続的操業方法は利点を有するけれども、公知の装置に於
て断続的作業されることもできる。反応温度は一般に6
0〜120殊に70〜110℃である。
勿論60℃以下の温度も原則的には可能であるが、時空
収率は急速に低下する。同様に120℃以上の温度も可
能ではあるが、副生成物形成が増加する。反応圧は方法
様式に応じて、一般に大気圧と約300バールとの間に
在る。
5〜50バールの圧力が殊に有利である。
触媒を製造するためには、担体上に於ける金属触媒用の
普通の製造方法が使用されることができる。
触媒は例えばパラジウム一、白金−、テルル或はアンチ
モン化合物を適当な溶剤中に溶解することに依り得られ
た1つ又は順次に多くの溶液中に担体を附与することに
依り製造されることができる,次に有効成分を担体上に
沈澱せしめるために溶剤を溜別し、且つこのように準備
された触媒を水素流中にて又は還元性化合物例えばヒド
ラジン、メタノール又はフオルマリンに依り還元する。
担体を有効成分の適当な溶液中に懸濁し、成分を適当な
方法にて沈澱せしめ、続いて還元することに依ても触媒
を製造することができる。更に成分を担体上に溶液より
直接に還元剤例えばヒドラジンにて被着することに依り
、触媒を製造することもできる。
成分は前述のように同時に又は順次に担体上に沈澱せし
めることができる。
触媒を製造するために使用されるパラジウム化合物は、
費用の点からハロゲン化パラジウム化合物例えば塩化パ
ラジウム又は塩化ナトリウム,パラジウムが適当である
けれども、特に決定的なことではない。
然かも勿論他のパラジウム化合物例えば硫酸ナトリウム
パラジウム、醋酸パラジウム、硝酸バラジウム、酸化パ
ラジウムも使用されることができる。製造のために使用
される白金化合物も特に限定されない。
例えば塩化白金、醋酸白金、硝酸白金、酸化白金及び他
の白金化合物例えばヘキサクロル白金酸、硫酸ナトリウ
ム白金を使用することができる。パラジウム及び白金は
夫々単独にて有効であるが、混合物としても有効である
触媒を製造するための更に他の成分はテルル及び(又は
)アンチモンである:その硝酸塩、・・ロゲン化物、硫
酸塩、酸化物又は他の斯かる化合物は極めて有効な触媒
を製造するために役立つことができる。担体上に於ける
パラジウム或は白金の濃度は普通0.1乃至20重量%
であるが、更に高い又は低い濃度も可能である。
補助物質と認められるテルル或はアンチモンの濃度も広
い範囲に於て変化されることができる。一般に濃度は0
.5〜10重量%である。触媒を製造するためには、原
則的に担体例えば活性炭、珪酸ゲル、珪酸、アルミナ、
粘土、ボーキサイト、マグネシア、珪藻土、軽石等を使
用することができる。
担体は普通の方法に依り、例えば酸にて処理することに
依り活性化されていることができる。活性炭は特に適当
な担体であることが判明した。触媒の粒大は一般に0.
1〜10mmであつて、夫自体公知の方法にて夫々の技
術的方法規定に依り左右される。本発明方法に依り製造
できるブテンジオールジアセタートは、例えばブタンジ
オール−1・4、テトラヒドロフラン及びビタミンAを
製造するための価値ある中間生成物である。
次に本発明を次の諸例に依り詳細に説明するが、これ等
諸例は単に説明のために役立つだけであつて、本発明を
限定するものではない。
例1 塩化パラジウム53.3t及び二酸化テルル12.0f
7を6N塩酸4000m1中に溶解する;これに予め1
5%硝酸と共に煮沸された活性炭(0.2〜0.4m7
7!φ)5007を添加し、且つ湯浴上にて乾燥するま
で徐々に蒸発する。
管中に於ける触媒中を20時間瓦斯状窒素流を150℃
に於て通過せしめることに依り更に乾燥せる後、室温に
於てメタノールにて飽和された瓦斯状窒素流を、毎分5
01の速度を以て10時間200℃に於て且つ10時間
400℃に於て導入することに依り物質を還元する。斯
くして製造された触媒0.5eを(図面参照)、耐圧反
応管6(長4000mm、直径20JzU)中に充填す
る。
触媒の上にはなお硝子環が充填される。次に30バール
及び90℃に於て毎時間液状ブタジエン1a0.751
、醋酸1b61及び酸素420N1を混合装置5(40
00×6mm管、金属螺旋にて充填)中に導入する。酸
素が完全に溶解されているように制御するために、混合
装置の上部に図面には省略されている覗き硝子が存在し
ている。斯くして得たる溶液をポンプ3の圧力に依り上
方より反応器6中に導く。
流出する反応生成物を分離器7中に導き、そこから連続
的に設備より排出する〔反応生成物の一部は場合に依り
返環される;逆止弁8〕。148時間の時間に亘つて、
時空収率(7ジアセタート/l触媒・h)は平均250
である。
ジアセタート一般出物は8.9%までブテン−1−ジオ
ール−3・4−ジアセタートより成り、89.8%まで
ブテン−2−ジオール−1・4−ジアセタートより成る
。例2 塩化白金18.17、二酸化テルル10.8t及び塩化
アンチモン3.97を6N塩酸41中に溶解する,これ
に予め15%硝酸と共に煮沸された活性炭(直径2mm
)0.751(3407)を添加し、且つ湯浴上にて徐
々に乾燥するまで蒸発する。
5時間150℃に於て乾燥せる後、触媒を例1に於ける
ように19時間200℃に於て且つ40時間400℃に
於て還元する。
このようにして製造された触媒0.5eを例1に於て説
明された装置中に充填し、且つ95℃及び30バールに
於て、醋酸10.01?/h、ブタジエン700mZ/
h及び酸素20Ne/hを使用して反応を前述のように
実施する。
200時間の時間に亘つて、ジアセタートは1107/
e−hの平均時空収率を以て得られる。
この場合生成物は19.3%までブテン−1−ジオール
−3・4−ジアセタートより成り、79.4%までブテ
ン−2ジオール−1・4−ジアセタートより成る。次に
本発明方法が従来の方法より優れたものであることを実
験例を提示して説明する。実験例 1 (従来の方法) 120tの活性炭素粒(径4詣)が360m1の15%
硝酸溶液中に加えられ、その混合物は4時間還流に附さ
れた。
塩化パラジウム65ミリモルと酸化テルル13ミリモル
が6N塩酸450m1中に溶解され、そしてそこに前記
活性炭が加えられた。
次いでその溶液は攪拌蒸発器中で乾燥のため蒸発された
。得られた触媒は完全に乾燥するため150℃で2時間
窒素気流中で乾燥され、その後メタノール含有窒素気流
中に200℃で16時間、ついで400℃で4時間導入
することにより還元された。さらに触媒は300℃で4
時間2%の酸素を含む窒素中を通すことによつて酸化条
件の支配を受ける。製造された触媒の100y(270
m1)が垂直のガラス製反応管(内径25m77!)中
に満たされ、氷醋酸200m11時間、プタジエン91
/時間そして酸素91/時間が、本質的に大気圧下にお
いて、継続的に反応を継続するような温度即ち85℃で
、反応管の上から通された。反応開始後適当な間隔をお
いて測定した触媒の時間当り、l当り製造されたジアセ
トキシブテンの量(それは瓦斯クロマトグラフと分別蒸
溜の双方によつて決定される)は第2図にグラフとして
示す通りである。
グラフに示すように反応開始から400時間後の反応収
率は反応開始当初の約25y/f時から10f/e時以
下に減少した。実験例 2(従来方法) 実験1記載の方法により製造された触媒の2.51が鋼
製反応管(長さ2m、内径40關)に充填され、この反
応管に、温度85℃、圧力Jャoールで、時間当り1.2
1(20モル)の氷醋酸、215m1(2.4モル)の
液体ブタジエン及び411(1.8モル)の瓦斯状酸素
を通した。
反応開始後適当な間隔をおいて測定した触媒の時間当り
、l当り得られたジアセトキシプテンの量は第3図にグ
ラフとして示す通りである。実験1におけると同様、触
媒活性は非常に短い反応時間の後減退した、即ち300
時間の後には最初の生成量のに以下に減少した。実験例
3 (上記実験1、及び2と対応する本発明方法)実験1に
したがつて製造された触媒400m1(1457:粒径
0.3〜1.0詣の活性炭上に3.8%のパラジウムと
1,0%のテルルを担持させたもの)が第4図の工程図
において符号9で示す耐圧ステンレススチール反応管(
長さ4m、内径20V!L)に装填され、その上にはガ
ラスリングが置かれた。
ついで反応管9には図示するように5.2eの醋酸(H
OAc)、500m1の液体ブタジエン(C4)そして
標準状態で201?の酸素(02)が時間当り工程へ導
入された。酸素と醋酸は金属製の渦巻状充填物が満たさ
れた混合装置10(管状で長さ4m、内径611tm)
に温度90℃、圧力30バールで導入され、かくしてブ
タジエンと醋酸の混合物中に溶解された酸素よりなる、
瓦斯相のない溶液が反応管9の上部へ供給される。
反応流出物は反応管の底部から継続的に放出される。
反応割合(時間当り、触媒のl当りジアセテートの7で
表わす時空収率)は第5図のグラフで示すように平均6
50y/l−hであり、触媒活性の減少は見られなかつ
た。
以上の次第で本発明方法によるときは、反応を液相にお
いて、完全に瓦斯相を回避しつつ行うことにより長時間
に亘り時空収率の優れた状態で危険なしに反応を実施す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法の実施例を示すフローダイヤグラム
である。 第2図及び第3図は実験例1及び2の時空収率を示すグ
ラフである。第4図は実験例3のフローダイヤグラムで
ある。第5図は実験例3の時空収率を示すグラフである
。符号の説明、1a,1b,2・・・・・・導管、3・
・・・・・ポンプ、4・・・・・・瓦斯状酸素、5・・
・・・・混合装置、6・・・・・・反応器、7・・・・
・・分離器、8・・・・・・逆止弁、9・・・・・・反
応管、10・・・・・・混合装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 パラジウム及び(又は)白金並びにテルル及び(又
    は)アンチモンを含有する固状触媒を使用して液状相に
    おいてブタジエンと酸素及び醋酸とを反応せしめること
    に依りブテン−2−ジオール−1・4−ジアセタート及
    び(又は)ブテン−1−ジオール−3・4−ジアセター
    トを製造する方法において、瓦斯状反応物のすべてを反
    応室とは別の混合装置において液状反応物中に溶解し、
    その後反応を完全に液体にて充填された反応室中にて瓦
    斯相を回避しつつ実施することを特徴とするブテン−2
    −ジオール−1・4−ジアセタート及び(又は)ブテン
    −1−ジオール−3・4−ジアセタートの製法。 2 反応室として直立反応管を使用することを特徴とす
    る特許請求の範囲1記載の方法。 3 酸素が反応室中に流入する前に反応室とは別の混合
    装置において液状反応物中及び(又は)送環された反応
    生成物中に溶解されることを特徴とする特許請求の範囲
    2記載の方法。 4 5〜50バールの操業圧を維持することを特徴とす
    る特許請求の範囲1記載の方法。 5 温度が60〜120℃であることを特徴とする特許
    請求の範囲1記載の方法。 6 触媒として、担体としての活性炭上に被着されたパ
    ラジウム−又は白金−触媒を使用することを特徴とする
    特許請求の範囲1記載の方法。
JP51106860A 1975-09-26 1976-09-08 ブテンジオ−ルジアセタ−トの製法 Expired JPS5935384B2 (ja)

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