JPS5937586B2 - ソウホガタデンカイコウカソシシユウセキカイロソウチ - Google Patents

ソウホガタデンカイコウカソシシユウセキカイロソウチ

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Publication number
JPS5937586B2
JPS5937586B2 JP50134372A JP13437275A JPS5937586B2 JP S5937586 B2 JPS5937586 B2 JP S5937586B2 JP 50134372 A JP50134372 A JP 50134372A JP 13437275 A JP13437275 A JP 13437275A JP S5937586 B2 JPS5937586 B2 JP S5937586B2
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JP
Japan
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ram
cmos
power
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Application number
JP50134372A
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English (en)
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JPS5258385A (en
Inventor
正明 上野
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS5258385A publication Critical patent/JPS5258385A/ja
Publication of JPS5937586B2 publication Critical patent/JPS5937586B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/80—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integration of IGFETs
    • H10D84/82—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integration of IGFETs of only field-effect components
    • H10D84/83—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integration of IGFETs of only field-effect components of only insulated-gate FETs [IGFET]
    • H10D84/85—Complementary IGFETs, e.g. CMOS

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は相補形電界効果素子集積回路装置に関するも
ので、特に電子式卓上計算機(以下「電卓」)等に用い
得るように改良されたランダムアクセスメモリ(以下「
RAM」)を有する相補形電界効果素子集積回路装置に
関する。
相補形MOS電界効果トランジスタ(以下CMOSと称
す)を用いたRAMが実用に供されているが、よく知ら
れているように、CMOS−RAMはローパワーゆえに
、システムの電源がオフになつた後も、バッテリバック
アップで用いることにより不揮発性のRAMとして使用
される。
しかしながら、この様なRAMは大形コンピュータ等に
用いられるように、高スピードに設計されているので非
常に高価であり、また、電源系等も個別にする必要があ
るため、電卓用等として不適である。ハンディタイプの
プログラム式の電卓等のシステムにおいては、システム
の電源を切つた後も、そのプログラムが消失することな
く、あるいは書き込んでおいたデータが消失することの
ないようにできれば非常にメリットがあり、かつ付加価
値も上るが、これを実現するには不揮発性のRAMが必
要とされる。この場合紫外線によつて書き込んだデータ
を消失させる様なFAMOS等は不適合であり、システ
ムの電源が切れた後もバッテリでバックアップするCM
OS−RAMが適合している。しかしながら、汎用性の
あるCMOS一RAMの電源は、消費電力を減らすため
の目的で1〜2ボルト前後のできるだけ低い電圧で設計
されているが、TTLコンパテイブルな様に5ボルトに
設定しスピードアップを図るためできるだけ低いしきい
値電圧が採用されかつまた、できるだけ多くのシステム
に適合できるように書込および読出のスピードを上げる
べき最大限の努力が払われているのが常である。このた
め、製造歩留りも悪くなりコスト高となる。いうまでも
なく、電卓等のシステムにおいてこのような高価なRA
Mは不必要であり、またシステム自体も最も安価に製造
できるようにするため最も自然にコントロールできるし
きい値電圧(2.5ボルト程度)を選択するのが一般的
であり、従つて電源電圧も5〜6ボルトに選択されるの
が一般的である。このようなシステムと前記のRAMと
を適合させるのは非常に難かしい。しかしながら、この
適合困難なシステムとRAMとをうまく適合させれば、
安価な電卓等に有効に用いられよう。それゆえにこの発
明の主たる目的は上述の困難を解決した、改良されたR
AMを有する相補形電界効果素子集積回路装置を提供す
ることである。
この発明のその他の目的および特徴は図面を参照して行
なう以下の詳細な説明から一層明らかとなろう。概説す
れば、Pチヤンネル電界効果素子およびNチヤンネル電
界効果素子から成るランダムアクセスメモリと、システ
ムとを1チツプ上に形成し、かつ、前記システムの電源
と、前記ランダムアクセスメモリの電源とを切り離して
構成したことを特徴とする。
第1図はこの発明の一実施例のシステムのブロツク図で
ある。
この発明の注目すべき特徴は、CMOS−RAMとCM
OS−RAM以外のシステムSとを1個のチツプCH内
に構成したことである。加えて、CMOS−RAMの不
揮発化を図るために前記システムSとCMOS−RAM
との電源を個別にしたことである。すなわち、外部から
の電源Pは直接CMOS−RAMへ与えられる一方、シ
ステムSへはスイツチSWを介して与えている。もちろ
ん、このスイツチSWは使用時には閉成される。それに
対して、CMOS−RAMへは常時電源が供給されてメ
モリ内容の揮発防止を図つている。このように、1チツ
プ内にRAMをつくりこみ、しかもその電源系を別にす
れば、システムSとRAMのしきい値電圧は1チツプ化
の性質上殆んど同じとなり、前述した入出力の適合は何
ら問題がなく、しかもシステムに適合したスピードのR
AMを設計することができる(周波数マージンに余裕を
とり過ぎているとか、余裕がないとかということがない
。)第2図は第1図のCMOS−RAMの一例のセルフ
リフレツシユのCMOS−RAMである。
この例において留意すべき点は、次のとおりである。す
なわち、RAM以外のシステムSの電源が完全にオフに
なつている状態では、読出し書込み線(データ線)lの
レベルがオープン状態でも外部から電流でフォーシンク
されることはなくかつ従つて予期しない状態が書き込ま
れることはない。しかし、RAM以外のシステムSの電
源がオン時およびオフ時のそれぞれ瞬時において(ある
いは過渡期において)は予期しない状態が書き込まれる
恐れが多分にある。第3図はこのような点を解決するた
めの一例である。すなわち、第3図は、第2図のRAM
の桁選択信号Diを形成するためのデコーダ(図示せず
。
かわりに第3図においてデコーダ出力を示す)の出力を
さらに論理処理する回路を示し、全体としては桁選択信
号Di発生回路を示す。第3図において、RAM以外の
システムの電源。、8が用いられていることにまず注目
されたい。まず、電源オンの瞬時(スイツチSW閉成瞬
時)には、キヤパシタC1の作用により、点N1のレベ
ルは電源電圧8のレベルとなる。この8レベルがNAN
DゲートGの一方入カへ与えられる。NANDゲートG
の他方入カへはデコーダ出力が与えられる。このように
することにより、一義的にDiおよびDiのレベルを決
定することができ、読出しおよび書込みを禁止すること
ができる。時間が経過して、正常な動作を始めれば、点
N1はVOレベルとなり、NANDゲートは能動化され
他のデコーダ出力のレベルによつてのみ桁選択信号Di
,Diを決定することができる。同様に、電源オフ瞬時
には点N1はVsレベルに放電するのでやはり読出しお
よび書込みを禁止することができる。以上説明したよう
にこの発明によれば、CMOS−RAMとそれ以外のシ
ステムとを1チツプ化することにより、安価な、不揮発
性のRAMを有するシステムが得られ、ハンデイタイプ
の電卓等にも用いられる等の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例のシステムの概略図を示す
。 第2図は第1図のCMOS−RAMの一例の回路図であ
る。第3図は第2図の桁選択信号Di,Di発生回路を
示す。図において、SはCMOS−RAM以外のシステ
ム、Pは電源、SWはスイツチを示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 Pチャンネル電界効果素子およびNチャンネル電界
    効果素子から成るランダムアクセスメモリと、演算処理
    等の電子的論理処理を行なうためのシステムとを1個の
    集積回路として形成し、かつ前記ランダムアクセスメモ
    リと前記システムとの付勢電源を分離した相補形電界効
    果素子集積回路装置。
JP50134372A 1975-11-07 1975-11-07 ソウホガタデンカイコウカソシシユウセキカイロソウチ Expired JPS5937586B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP50134372A JPS5937586B2 (ja) 1975-11-07 1975-11-07 ソウホガタデンカイコウカソシシユウセキカイロソウチ

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JP50134372A JPS5937586B2 (ja) 1975-11-07 1975-11-07 ソウホガタデンカイコウカソシシユウセキカイロソウチ

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Publication Number Publication Date
JPS5258385A JPS5258385A (en) 1977-05-13
JPS5937586B2 true JPS5937586B2 (ja) 1984-09-11

Family

ID=15126835

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JP50134372A Expired JPS5937586B2 (ja) 1975-11-07 1975-11-07 ソウホガタデンカイコウカソシシユウセキカイロソウチ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5937656B2 (ja) * 1977-11-05 1984-09-11 松下電器産業株式会社 機器の歯車装置
JPS5769588A (en) * 1980-10-16 1982-04-28 Nec Corp Memort circuit

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JPS5258385A (en) 1977-05-13

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