JPS5939404B2 - 抗太陽光線性化粧組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特定範囲の紫外線を吸収しうる新規化合物に関
し、化学線の有害な作用から人の皮膚を保護するための
抗太陽光線化粧組成物だけでなく光線波にさらされて変
質あるいは変色を受けやすい化粧品製剤用の保存剤とし
て使用するのに適したものである。

たとえば、日焼けまたは紅斑は太陽光線に人の皮膚を過
度にさらすことによって生ずること、およびしばしば「
紅斑帯」と呼ばれる２８〇−３１５ミＩＪミクロンの範
囲内の光線の波長がそのような日焼けをおこすことは知
られている。

この波長範囲未満では太陽光線はどのような危険もない
。

というのはこの範囲未満の太陽光は大気中のオゾンによ
って濾過されるからである。

しかしながら、望ましい日焼けの原因となりまたはそれ
をおこす紫外線は３１５から４００ミリミクロンの範囲
帯のものである。

従って、太陽光にさらすことを望む場合、紅斑帯の紫外
線を吸収する物質を含有する組成物により皮膚を保護し
て、望ましくない日焼けを避けることが重要である。

しかしながら、その組成物は３１５から４００ミリミク
ロンの範囲内の波長の光線を通して、望ましｔ−Ｂ焼け
を得るものである特に、紅斑をおこさずに皮膚を最高の
褐色化にする３４０ミリミクロン近辺の波長の光線を通
すことが必要である。

従って、保護剤は２８０−３１５ミＩＪミクロンで高い
吸収力および３１５ ミ１，１ ミクロン以上で弱い吸
収力を示さなければならない。

この臨界的吸収力に加えて、保護剤はその他の性質を有
しなげればならず、特に外部要素に対し良好な抵抗性を
発揮しなければならない。

即ち、すぐれた光化学的安定性、すぐれた熱安定性を示
すべきであり、そして発汗によりあるいは少なくとも洗
滌により除去されたり、分解されないような皮膚に対す
る充分な親和性および充分な化学的安定性を有しなげれ
ばならない。

更に、各種の化粧製剤、特に、たとえば毛髪染料および
ラッカー、シャンプーおよび着色へヤーセットローショ
ンのような毛髪用組成物およびたとえば爪エナメル組成
物および着色クリームのようなその他の化粧品にしばし
ば含有されている染料は必ずしも充分な光安定性を有す
るとはかぎらないことも知られている。

これら化粧組成物は溶液、乳液、ゲル、懸濁液または分
散液の形でしばしば供されるが、透明ガラスまたは透明
プラスチック容器中に包装されるので、使用中のみなら
ず保存中にも光線にさらされる。

ヘヤーラッカーは特に消費者が目的の色を見て、選択で
きるように透明気化容器中にしばしば包装される。

この化粧組成物の染料成分の多（は、特にたとえばクリ
スタルバイオレット、メチルバイオレットおよびメチル
グリーンのようなトリフェニルメタン誘導体を使用する
場合に、光線に対する充分な安定性を有しないので、こ
のような化粧組成物は往々にして急速に劣化することも
知られている。

この欠点はまた他の多数の染料で経験され、それらはあ
る濃度条件下では安定であるけれども、比較的低濃度で
使用する場合、顕著な光感受性を示す。

本質的に無色のある化粧組成物、たとえば無色の爪エナ
メルは多少変化し、長時間の露光後に黄色になることも
観察されている。

従って、着色または無色のそのような化粧組成物は、一
般に僅か数週間程度の一定期間のみ貯蔵できることが分
った。

この欠点を克服するために、この組成物中に光線を濾過
しうる化合物を加えることが提案された。

しかしながら、かかる化合物はすぐれた濾過性を示すだ
けでなく、化粧組成物中に通常使用される担体中で安定
性がよくかつ充分な溶解性を有するものでなげればなら
ない。

本発明は上記の欠点を有効に克服する異なった規準を満
たす新規化合物を供する。

従って、本発明の目的は化粧抗体および式■（式中、 Ｒは水素および炭素原子１−１２個を有するアルルキル
を示し、 Ｙは塩素、メチルまたは水素であり、そしてＸはクロラ
イド、パラ−トルエンスルホネート、エチレンスルホネ
ート、メタンスルホネート、カンホスルホネートおよび
メチルサルフェートである）の抗太陽光線剤を少なくと
も１種含有する化粧組成物を提供することにある。

本発明はまた紅斑または日焼けを生じさせる紫外線から
皮膚を保護し、他方同時に皮膚を褐色化させるために皮
膚に局所適用する化粧組成物に関する。

この組成物は、ローション溶液として、クリーム、ゲル
、フオームまたはミルク状の乳液として、あるいはこの
型の化粧製剤に普通に使われている。

たとえばエアゾルとして提供できる。従って、本組成物
は通常の化粧補助剤、たとえば濃化剤、皮膚軟化剤、過
脂肪化剤（ｓｕｐｅｒｆａｔｔｉｎｇａｇｅｎｔｓ ）
軟化剤、湿潤剤、界面活性剤、防腐剤、消泡剤、香料、
および化粧組成物中に通常使用される任意の他の成分を
包含しうる。

本発明の組成物がエアゾルの形で供される場合、好まし
くはハロゲン化炭化水素またはその混合物たとえばトリ
クロロフルオロメタンおよびジクロロジフルオロメタン
である噴射剤ガスの存在において通常のエアゾルボンベ
または容器中に加圧下に包装される。

本発明の組成物中において、上記の抗太陽光線剤は一般
に組成物の０．５−１０重量％の量で存在する。

溶媒または化粧ベヒクルとしては、水、低級アルカノー
ル、低級ポリオールまたは低級アルカノールの水溶液が
使用できる。

低級アルカノールまたは低級ポリオールは、たとえばエ
タノール、イソプロパツール、グロピレングリコール、
クリセロールまたはソルビトートでよい。

本発明の組成物はしばしば無色であるが、着色していて
もよい。

従って、本発明はまた、組成物の全重量に基づき０．０
０１−０．０１％程度の非常に低い濃度で一般に存在す
る紫外線に対し感受性の１種もしくはそれ以上の成分、
特に１種もしくはそれ以上の光感受性染料を包含する化
粧組成物の提供を目的とする。

このような組成物は紫外線に対する保護剤として式（■
）の化合物１種もしくはそれ以上を組成物の全重量に基
づき約０．０５−５％の量において含有する。

染料および式（Ｉ物化合物に加えて、そのような組成物
はまた次の化粧補助剤の１種もしくはそれ以上を包含し
うる：界面活性剤、膨潤剤、濃化剤、軟化剤、過脂肪化
剤、漂白剤、膜形成剤、化粧用樹脂、湿潤剤、泡形成剤
、防腐剤、香料あるいは化粧組成物中に通常使用される
任意の征の成分。

紫外線用濾過剤として式（Ｉ）の化合物を含有する代表
的な化粧組成物は毛管組成物、特にヘヤーラッカー、可
塑化ヘヤーセットローション、処理または解きほぐしく
ｔｒｅａｔｉｎｇ ｏｒ’ ｕｎｔａｎｇｌｉｎｇ
）ヘアーローション、シャンプー、ダイ・シャンプー
、毛染め溶液、爪エナメル、スキンクリームおよびダイ
ファンデーションを包含する。

それら組成物はまた上記のように透明ガラスまたは透明
プラスチック容器に通常包装され、またエアゾルの形で
供しうる。

更に、本発明はまた組成物中に式（■）０化合物を組成
物の重量に基づき約０．０５−５％の量に加えることか
らなる、光線によって変質または劣化をうけやすい化粧
組成物を保護する方法に関する。

本発明はまた、それ自体光線の良好なフィルターであり
、かつフランス特許第２００４１４２号明細書に記載さ
れている式但） のベンジリデンカンファーの誘導体と考えうる式■の化
合物に関する。

式（Ｉ）の化合物は非常に興味深い溶解性を示し、成る
種の媒質またはベヒクル中で式（Ｉ）の化合物はベンジ
リデンカンファーよりもかなりよい溶解性を有する。

たとえば、通常の化粧ベヒクルと公知の濾過剤との使用
は、その濾過剤の溶解性が不十分なために、しばしば制
限されることが知られている。

しかしながら多数の式■の化合物は、水または水−アル
コール媒質への溶解性が通常使用されている濾過剤より
もかなり優れているので、特に有効である。

この点を説明するために、次の表により次の化合物の水
、エタノール、および５０：５０水−エタノール混合物
における溶解度の値を示す： （４）４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン）メチル
クーフェニルトリメチルアンモニウムメチルサルフェー
ト（式■の化合物）、 （Ｂ）４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン）メチル
クーフェニルトリメチルアンモニウムｐ−トルエンスル
ホネート（式■の化合物）、（Ｃ）４−（（２−オキソ
−３−ボルニリデン）メチルクーフェニルトリメチルア
ンモニウムメタンスルホネート（式■の化合物）、 （Ｄ）４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン）メチル
クーフェニルトリメチルアンモニウムクロライド（式■
の化合物）、および （Ｅ） １・７・７−ドリメチルー３−ベンジリチン
〔２・２・１〕ビシクロ−２−ヘプタノン（ベンジリデ
ンカンファー一式■の化合物、通常の抗太陽光線）。

従って、本発明の化合物はベンジリデンカンファーより
も水および５０−５０水−エタノール溶液における溶解
性が一般にすぐれていることが分る。

更に本発明の化合物の溶解性は、皮膚へのそれらの低い
保持水準を伴なわない。

反対に、本発明の化合物は皮膚に対するその親和性 −（５ｕｂｓｔａｎｔｉｖｉｔｙ ）に著しい改善を示
す。

本発明の式（Ｉ）の化合物が非常に望ましい光線吸収性
を示すことは、式（Ｉ）＝）下記の代表化合物の各エタ
ノール（９６° タイター）等モル濃度溶液中、厚さ０
．０１ｍｍにおける％透過率データを示す以下の表から
分る。

更に、式（Ｉ）の化合物はすぐれた熱安定性および光化
学安定性を有することが分った。

たとえば、紫外線太陽灯に３時間露出するか、あるいは
６０℃に１週間光に露出しても、透過曲線を変化させな
かった。

更に、皮膚毒性試験の結果から、この化合物の無害性を
確認した。

式（Ｉ）の化合物はへラー（Ｈａｌｌｅｒ ）の方法に
従従い、置換または非置換のｐ−ジメチルアミノベンズ
アルデヒドを、カンファーとナトリウムまたは強塩基た
とえばナトリウムアルコレート、ナトリウムアミドまた
はナトリウムナトリドとの反応によって製造したカンフ
ァーのナトリウム塩と、不活性溶媒たとえばベンゼン、
トルエン、エーテル、ジメチルホルムアミドおよびジメ
トキシエタン中で縮合することによって製造できる。

生成物はついで四級化または造塩に付す。

例１ 式■ を有する１・７・７−ドリメチルー４−ジメチルアミノ
−３−ベンジリデン（２・２・１）ビシクロ−２−ヘプ
タノン、即ち４−ジメチルアミノベンジリデンカンファ
ーの製造 合成カンファー５７７．５Ｐ（３，８モル）およびナト
リウムメチレート２０５ｆを無水トルエン中３０分間還
流加熱する。

室温まで冷却した後、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデ
ヒド５６６Ｐを一度に加える。

生成した混合物をついで４時間還流加熱し、その後、そ
れを室温まで冷却する。

反応混合物を水で抽出し、トルエン層を回収し、そして
蒸発乾固して、固体の黄色残渣１０１３Ｐが生成する。

この残渣をついで無水エタノールから再結晶して、融点
１１０℃の輝黄色結晶７１１グが生成する。

元素分析： 式（Ｉ）の化合物は例１で製造された式（ホ）の４−ジ
メチルアミノベンジリデンカンファーから出発し引続く
四級化または造塩によって得られる。

゛使用できる代表的な四級化剤は次の通りである
：（ａ） アルキルサルフェート、たとえばメチルサ
ルフエートマたはエチルサルフェート； （ｂ）アルキル置換アルキルスルホネート、たとえばメ
チルメタンスルホネート、および （Ｃ） アルキル置換アリールスルホネート、たとえ
ばメチル−ｐ−４ルエンスルホネ−トーｔｔ、＝ハメチ
ルブロモベンゼンスルホネート。

構造式（Ｉ）のアニオンＸ−はまたアニオン交換により
、たとえば式（Ｉ）の化合物をＸ−以外のアニオンを含
有するアニオン交換樹脂に通過させることによって得る
ことができる。

本発明の組成物には、式（■陸水溶性保護剤の１種もし
くはそれ以上を、他の濾過剤たとえば他の水溶性濾過剤
または抗太陽光線剤の１種もしくはそれ以上、あるいは
脂溶性抗太陽光線剤の１種もしくはそれ以上と一緒に含
有させてもよい。

本発明の組成物が乳液の形で供される場合、水溶性およ
び脂溶性の抗太陽光線剤の両方の存在は、保護が乳液の
水性層および油性層の両方に同時に得られるので非常に
有利である。

更に、皮膚に対する本発明の組成物の高度に望ましい親
和性は、本発明の組成物よりも皮膚に対する親和性に劣
る他の水溶性抗太陽光線剤を含有する場合でも改善しう
ろことが観察された。

次の例は一１＝ＱＩ）の化合物の製造および適用を示す
：製造例 例２ 次式 ％式％） フェートの製造 ４−ジメチルアミノベンジリデンカンファー（例１で製
造した）７５０Ｐおよびメチルサルフエー）３３４Ｐを
酢酸エチル中で徐々に還流加熱する。

発熱性の沈澱が突然生成し、そしてそれが鎮まったとき
、反応混合物を３時間還流加熱する。

淡黄色の固体が沈澱し、それをついで濾過し、酢酸エチ
ルで洗滌し、そしてベンゼン−アセトニトリル混合物中
で再結晶して、融点２１０℃の白色生成物８６６グを生
成する。

の４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン）メチル〕フ
ェニルトリメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネー
トの製造 ４−ジメチルアミノベンジリデンカンファー（例１で製
造した）２８３ｆおよびメチルｐ−）ルエンスルホネー
ト１８６１をトルエン中テヨく攪拌しつつ８時間還流加
熱する。

沈澱した白色固体を濾過し、乾燥して、生成物４１７グ
を得、これをエタノール中で再結晶した後融点３０５℃
を有する白色結晶３６２′ｉＩ′を得る。

の４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン）メチル〕フ
ェニルトリメチルアンモニウムメタンスルホネートの製
造 例１で製造した４−ジメチルアミノベンシリテンカンフ
ァー２８．３ｆおよびメチルメタンスルホネー）１６．
５？の混合物をトルエン５０１ｒＬｌ中でよく攪拌しつ
ら１０時間還流加熱する。

生成した沈澱を濾過上、そしてトルエンで洗滌し、つい
でベンゼンおよびアセトニトリルの混液中で結晶化して
、融点２６５°Ｃの白色結晶２６．１’が生成する。

例５ 次式 ％式％） 例２で製造した抗太陽光線剤１０グの水２０ｍ１溶液を
クロライドイオン形のアニオン交換樹脂に被着させる。

この樹脂をついで水で溶離し、そして生成した溶離液を
減圧下乾燥により濃縮する。

得られた固体残渣をエタノールおよびベンゼンの混液中
で結晶化して、融点２４０℃の白色結晶６．４１を回収
する。

元素分析’ Ｃ２０Ｈ２８ＣＩＮＯ 例６ ３−メチル−４−４：（２−オキソ−３−ボルニリデン
）メチル〕フェニルトリメチルアンモニウムメチルサル
フェートの製造 工程（ａ）：次式 ％式％ ビシクロ−２−ヘプタノンの製造。

ナトリウム２．３２を沸騰トルエン１００ｍ１中で激し
く振盪する。

ついでトルエンを傾斜し、そし】・て生成したナトリウ
ム粒を無水硫酸エーテル１００ｍ１で回収する。

ついで回収されたナトリウム粒に、振盪しそして冷却に
より温度を２５℃に維持しながら、カンファー１５．２
？を加える。

すべてのナトリウムが反応したとき（４ないし５時間）
、反応混合物を０℃に冷却する。

４−ジメチルアミノ−２−メチルベンズアルデヒド１６
．３ｆをついで加え、そして生成した混合物を先ず０℃
で３時間、ついでエーテルの還流下３０分間振盪する。

反応混合物をついで冷却し、その時点で水１００ｍ１を
それに加える。

エーテル層をついで分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
その後エーテルを蒸発する。

生成した油状残渣を分画し、そして１ｍｙｎＨｇ下に２
４３℃で蒸留する両分（２３，ｌ’）を回収し、そして
硫酸エーテル中で結晶化して精製し、融点１１５℃の黄
色結晶を供する。

の３−メチル−４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン
）メチル〕−フェニルトリメチノＪアンモニウムメチル
サルフェートの製造。

工Ｑａ）で製造した化合物１４．９Ｐおよびメチルサル
フェート６、３ Ｐを酢酸エチル中で３時間徐々に還流
加熱する。

生成した白色固体を濾過し、そして酢酸エチルで洗滌し
て、融点２４５℃の白色結晶１２グを得る。

例７ ３−クロロ−４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン）
メチル〕フェニルトリメチルアンモニウムメチルサルフ
ェートの製造 工程（ａ）二次式 ％式％ （２２ １〕−ビシクロ−２−ヘプタノンの製造 乾燥トルエン１５０ｍ１中のカンファー７６グおよびナ
トリウムアミド１９．Ｅｌ’の混合物を３時間還流下振
盪する。

室温に冷却した後、Ｏ−クロロ−ｐ−ジメチルアミノベ
ンズアルデヒド９２グを加える。

生成した混合物を５時間還流加熱する。その後、混合物
を冷却し、そして冷却された混合物に本釣４００ｍ１を
加える。

ついでトルエン層を分離し、乾燥し、そして濃縮乾固す
る。

生成した残渣をイソプロパツール中で結晶化して、融点
；１２８℃の黄色結晶８２グが生成する。

元素分析：Ｃ１９Ｈ２４ＮＯＣＩ の３−クロロ−４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン
）メチルローフェニルトリメチルアンモニウムメチルサ
ルフェートの製造。

アセトニトリル４． ＯＯｒｕｌ、中の工程（ａ）の生
成物４２グおよびメチルサルフェート１５．２９の混合
物を１２時間還流加熱する。

生成した沈澱を濾過し、そしてベンゼンおよびアセトニ
トリルの混液中で結晶化して、融点２１０℃の淡黄色板
状晶が生成する。

例８ 次式 ％式％） ルホネートの製造 ４−ジメチルアミノ−ベンジリデン−カンファー（例１
で製造した）５６．１’およびメチルカンファースルホ
ネー） ４．９．２ Ｐを酢酸エチル３００ｍ１中、よ
く攪拌しつつ１５時間還流加熱する。

室温まで冷却した後、沈澱を濾過し、そして酢酸エチル
で洗滌し、ついでトルエン−アセトニトリル混液中で再
結晶して、融点２６５℃の雪白色結晶７３グが生成する
。

例９ 次式 の４−［（２−オキソ−３−ボルニリデン）メチルＪ−
フェニルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェー
トの製造 ４−ジメチルアミノ−ベンジリデン−カンファー（例１
で製造した）１４グおよびジエチルサルフェート８グを
酢酸エチル１００ｒｒＬｌ中でよく攪拌しつつ６時間還
流加熱する。

室温に冷却した後、沈澱を濾過し、そして酢酸（エチル
で洗滌して、融点１２６−１２７°Ｃの潮解性白色結晶
９．９２が生成する。

例１０ 次式 ％式％） 一トルエンスルホネートノ製造 ４−ジメチルアミノ−ベンジリデン−カンファー（例１
で製造した）２．８Ｐおよびラウリルトシレート３．４
１を１３０−１４０℃の温度で６．５時間加熱する。

全反応混合物を充分量のインプロパツールに溶かし、つ
いでインプロパツールを蒸発して、融点１３５℃の上記
式の生成物の白色結晶４，６りが生成する。

Ｒが水素原子を示す化合物は、式（Ｉ）の化合物に対応
する第三級アミンのプロトン化、たとえば強酸との反応
によって得られる。

使用例 例１１ 抗太陽光線ローションを次のように製造する：ラノリン
２．５２ブチルヒドロキシ
アニソール ０．０２５Ｐブチルヒドロキシトルエ
ン ０．０２５Ｓ’オクチルガレート
０．０１２５１炭素原子８−１２個を有する
４０ １１旨肪酸のトリグリセライド 香料 １．２５ １ ４−（（２−オキソ−３−ボ ４１ ルニリデン）メチル〕−フェ ニルトリメチルアンモニウム メチルサルフェート エタノール（９６°タイター）、 全量所要量
１００ １例１２ 抗太陽光線ローションを次のように製造する：グリセリ
ン ５ グポリエチレングリコ
ール（分子 ０．５１量−４００） エトキシル化ラノリン １ ノ香料（
可溶性） ２ グ４−（（２−
オキソ−３−ポル ２ グニリテン）メチル〕
−フェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート エチルアルコール（９６°タイ ５０ ゲタ−） 水、所要量 全量１００１例１３ 抗太陽光線エアゾル調合物を次のように製造する： 無水エチルアルコール ３０グイソプ
ロピルミリステート ２０１リシン油（
Ｒｉｃｉｎ ｏｉｌ ） ２ ？
う／リン ５グ香料
１１ ４−（（２−オキソ−３−ボルニリデン） ２グメチ
ル〕−フェニルトリメチルアンモニ ウムメチルサルフェート ジクロロジフルオロメタン ４０グ上記組
成物を通常のエアゾル容器中に加圧下に包装する。

例１４ 抗太陽光線エアゾルフオーム組成物を次のように製造す
るニ ジポールワックス（５ｉｐｏｌ ３．５
？ｗａｘ ） ワセリン油 ６ グ
イソプロピルミリステート ３ グ防腐剤
〔ニパ（Ｎｉｐａ）エステ ０．３グル８２５
２１，１（ヒドキシ安息 香酸のメチル、エチル、ブチル、 およびベンジルエステル混合物） グリセリン １０ グ香料
０，３グ ４、−（（２−オキソ−３−ポル ２．５グニ
リテン）メチルクーフェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート 水、所要量 全量１００ ｇ′ジクロ
ロジフルオロメタン １５ グ上記組成物を
通常のエアゾル容器中に加圧下に包装した。

例１５ 抗太陽光線クリームを次のように製造する：セチルステ
アリルアルコール ２ ググリセロールモノ
ステアレート ４ グセチルアルコール
４ グワセリン油
５ グブチルステアレート
５ グプロピレングリコール
７ グシリコン油 ０．
１２５１商標名ｒＰＯＬＹＯＸＪ として販 ３
５ グ売されている分子量１０００００ 〜１００００００を有するエチ レンオキサイドポリマー 防腐剤にバエステル ０．３ １８２５
２１） 香料 ０．４１ ４−（（２−オキソ−３−ポル ４ グニリテ
ン）メチルクーフェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート 水、所要量 全量 １００ １ 例１６ 抗太陽光線乳液を次のように製造するニ ジボールワックス ５ グワセリ
ン油 ６ グイソプロピル
ミリステート ３ グシリコン油
１ グセチルアルコール
ＩＩ？グリセリン
２０１防腐剤［ニパエステル ０．
３グ８２５２１Ｊ 香料 ０．３１ ４−（（２−オキソ−３−ポル ３ グニリテ
ン）メチルクーフェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート 水、所要量 全量１００ ′？例１
７ 着色へヤーセットローションを次のように製造する： ビニールピロリドン−ビニール ２ グアセテ
ート（７０７３０）のコ ポリマー（分子量４００００） ダイ−ブルー・ビクトリア ０．００１Ｐ（Ｄ
ｙｅ −Ｂｌｕｅ Ｖｉｃｔｏｒｉａ ）ＢＳＡ、
ＣＩ４４０４５ エチルアルコール ５０ １トリエタ
ノールアミン、所要量 ｐＨ７ ４−（（２−オキソ−３−ポル ０．２ グニ
リテン）メチルクーフェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート 水、所要量 全量 １００ ｒａｌ 例１８ 着色へヤーセットローションを次のように製造する二 クロトン酸−ビニールアセテート ２ グ（１０
／９０）のコポリマー（分 重量５００００）（テトラクロロ エタン中の５重量％溶液中で３５ ℃において７−９ ｃｐｓの粘度をす る） 染料−ＣＩベーシック・バイオレ ０．０ＩＰツト
（Ｂａ５ｉｃ Ｖｉｏｌｅｔ ） ４３、Ｃｌ４２
５５５ エチルアルコール ５０ １トリエタ
ノールアミン、所要量 ｐＨ７４−（（２−オキソ−
３−ボルニ ０．２１リチン）メチルクーフェニル
トリ メチルアンモニウムｐ−）ルエン スルホネート 水、所要量 全量 １００ ｒｒｔｌ。

例１９ 中程度の保護作用を有する抗太陽光線乳液を次のように
製造する： エチレンオキサイド２５モルと ５１縮合した
セチルステアリルアル コール セチルアルコール １ グ２−オ
クチルドデシルアルコ−１５Ｌ？ ル 「ＣｏｄｅＸ」型ワセリン油 ５１ル
ーサンの不ケン化物 ０．２１ベンジ
リデン−カンファー １１４−（（２−オ
キソ−３−ポル ２．５グニリテン）メチルク
ーフェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート 防腐剤［ニパエステル８２５２１１ ２．５Ｐ
（ｐ−ヒドロキシ安息香酸のメ チル、エチル、ブチルおよびベ ンジルーエステルノ混合物） 香料 ０．５１ 水、所要量 全量１００１例２０ 強い保護作用を有する抗太陽光線クリームを次のように
製造する： 水素化ポリオキシエチレン化パ ５ ゲーム油 エチレンオキサイド１５モルと ５２縮合した
セチルステアリルアル コール ラノリン ３ グラノリ
ンのアルコール １ グターネソー
ル油（Ｔｕｒｎｅｓｏｌ ５ Ｓ’ｏ
ｉｌ ） ワセリン油 １０ グベンジ
リデンカンファ−２，５１ ４−（：（２−オキソ−３−ポル ４ グニリ
テン）メチルクーフェニル トリメチルアンモニウムメチル サルフェート 防腐剤「ニパエステル８２５２１ｊ 適 量プロ
ピレングリコール ５ グ香料
０．５１ 水、所要量 全量１００１式（０の
各化合物または化合物の混合物は例１１から２０の化粧
組成物の各１つ中に該組成物の重量に基づき０．０５−
１０％の量において使用できる。

例２１ （１）例３．４および７の化合物のエタノール（９６°
タイター）１．５％溶液について、厚さ０．０１ｍｍ
における透過率テークは次の通りである。

（２）例３．４および６の化合物の溶解度は次の通りで
ある。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 次式 （式中、 Ｒは水素および炭素原子１−１２個を有するアルキルで
   あり、 Ｙは塩素、メチルおよび水素であり、そしてＸはクロラ
   イド、パラ−トルエンスルホネート、エチルスルホネー
   ト、メタンスルホネート、カンホスルホネートおよびメ
   チルサルフェートである）を有する抗太陽光線剤の溶液
   を含有する化粧組成物。