JPS5939423B2 - N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造方法 - Google Patents
N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は血液凝固系に関与する重要なたんぱく質分解酵
素の一つであるトロンビンに対し強い阻害作用を有する
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類または
その酸付加塩の製造方法に関する。
素の一つであるトロンビンに対し強い阻害作用を有する
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類または
その酸付加塩の製造方法に関する。
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミドまたはそ
の酸付加塩はトロンビンの阻害剤として強い抗トロンビ
ン作用を示し、医薬上血液凝固を抑制する特異な生理活
生物質であり、抗トロンビン作用が持続的であるという
特徴を有する。
の酸付加塩はトロンビンの阻害剤として強い抗トロンビ
ン作用を示し、医薬上血液凝固を抑制する特異な生理活
生物質であり、抗トロンビン作用が持続的であるという
特徴を有する。
本発明はこのように有用なN2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド類の製法を提供することを目的とする
ものであり、この目的は下記一般式(I)(上記一般式
(I)中でRは一般式(1)−N/R”\R。
アルギニンアミド類の製法を提供することを目的とする
ものであり、この目的は下記一般式(I)(上記一般式
(I)中でRは一般式(1)−N/R”\R。
(式中でR1およびR2は水素原子、アルキル基、シク
ロアルキルアルキル基またはアルコキシ基もしくはアル
コキシカルボニル基で置換されたアルキル基を表わす。
ロアルキルアルキル基またはアルコキシ基もしくはアル
コキシカルボニル基で置換されたアルキル基を表わす。
)または一般式(2)−NZ(式中ゝ−ノでZはメチレ
ン基−CH2−およびモノ置換メチレン基−C−(R3
はアルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキ
シカルボニル基を表わす。
ン基−CH2−およびモノ置換メチレン基−C−(R3
はアルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキ
シカルボニル基を表わす。
)から選択される2以上の基ならびにオキシ基−0−、
チオ基−5−、シクロアルキレン基、アルキル置換イミ
ノ基 l(R6はアルキル基0=C=R7 を表わす。
チオ基−5−、シクロアルキレン基、アルキル置換イミ
ノ基 l(R6はアルキル基0=C=R7 を表わす。
)、アシル置換イミノ基 1
(R7はアルキル基を表わす。
)およびフェニレン基oから選択される0または1以上
の基が任意の順序に結合した2価基を表わす。
の基が任意の順序に結合した2価基を表わす。
)で表わされる。)で表わされるアルギニンアミドまた
はその酸付加塩に下記一般式(■)R’−SO2X(■
) (上記一般式(■)中でR’は1−ナフチル基;2−ナ
フチル基;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくは
アルキル基で置換された1−ナフチル基または2−ナフ
チル基を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。
はその酸付加塩に下記一般式(■)R’−SO2X(■
) (上記一般式(■)中でR’は1−ナフチル基;2−ナ
フチル基;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくは
アルキル基で置換された1−ナフチル基または2−ナフ
チル基を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。
ただし、5−(ジメチルアミノ)−1−ナフチル基を除
く。)で表わされるナフタレンスルホニルハロゲニドま
たは置換ナフタレンスルホニルハロゲニドを反応させて
下記一般式(■)(上記一般式(1)中でRは一般式(
1卜N/i:C′1\R9(式中でR1およびR2は水
素原子、アルキル基、シクロアルキルアルキル基または
アルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置換さ
れたアルキル基を表わす。
く。)で表わされるナフタレンスルホニルハロゲニドま
たは置換ナフタレンスルホニルハロゲニドを反応させて
下記一般式(■)(上記一般式(1)中でRは一般式(
1卜N/i:C′1\R9(式中でR1およびR2は水
素原子、アルキル基、シクロアルキルアルキル基または
アルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置換さ
れたアルキル基を表わす。
)または一般式(2)−】多(式中でZはメチレン基−
CH2− およびモノ置換メチレン基−C−(R3はア
ルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基を表わす。)から選択される2以上の基なら
びにオキシ基−0−、チオ基−S−、シクロアルキレン
基、魯▼υアルキル置換イミノ基 (R6はアルキ
ル基を表わす。
CH2− およびモノ置換メチレン基−C−(R3はア
ルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基を表わす。)から選択される2以上の基なら
びにオキシ基−0−、チオ基−S−、シクロアルキレン
基、魯▼υアルキル置換イミノ基 (R6はアルキ
ル基を表わす。
)、アシル置換イミノ基(R7はアルキル基を表わす。
)およびフエニレン基]〔?〕−から選択されるOまた
は1以上の基が任意の順序に結合した2価基を表わす。
)で表わされる。)で表わされるアルギニンアミドまた
はその酸付加塩に下記一般式()(上記一般式()中で
R5は1−ナフチル基;2−ナフチル基;ノ叩ゲン原子
、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ジアルキ
ルアミノ基、シアノ基もしくはアルキル基で置換された
1−ナフチル基または2−ナフチル基を表わし、Xはハ
ロゲン原子を表わす。
は1以上の基が任意の順序に結合した2価基を表わす。
)で表わされる。)で表わされるアルギニンアミドまた
はその酸付加塩に下記一般式()(上記一般式()中で
R5は1−ナフチル基;2−ナフチル基;ノ叩ゲン原子
、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ジアルキ
ルアミノ基、シアノ基もしくはアルキル基で置換された
1−ナフチル基または2−ナフチル基を表わし、Xはハ
ロゲン原子を表わす。
ただし、5−(ジメチルアミノ)−1−ナフチル基を除
く。)で表わされるナフタレンスルホニルハロゲニドま
たは置換ナフタレンスルホニルハロゲニドを反応させて
下記一般式()(上記一般式()中でRは上記一般式(
1)におけると同じ意義を有し、R′は上記一般式()
におけると同じ意義を有する。
く。)で表わされるナフタレンスルホニルハロゲニドま
たは置換ナフタレンスルホニルハロゲニドを反応させて
下記一般式()(上記一般式()中でRは上記一般式(
1)におけると同じ意義を有し、R′は上記一般式()
におけると同じ意義を有する。
)で表わされるN2−ナフタレンスルホニルアルギニン
アミド類を得ることによつて達成される。本発明を詳細
に説明すると、本発明で原料として用いられるアルギニ
ンアミドは上記一般式()で表わされるが、上記一般式
中のRを例示すれば次の通りである。
アミド類を得ることによつて達成される。本発明を詳細
に説明すると、本発明で原料として用いられるアルギニ
ンアミドは上記一般式()で表わされるが、上記一般式
中のRを例示すれば次の通りである。
R,およびR2は水素原子、通常炭素数10以下のアル
キル基、通常炭素数15以下のシクロアルキルアルキル
基、または通常炭素数10以下のアルコキシ基もしくは
通常炭素数10以下のアルコキシカルボニル基で置換さ
れた通常炭素数10以下のアルキル基を表わす。
キル基、通常炭素数15以下のシクロアルキルアルキル
基、または通常炭素数10以下のアルコキシ基もしくは
通常炭素数10以下のアルコキシカルボニル基で置換さ
れた通常炭素数10以下のアルキル基を表わす。
さらに具体的にはメチル基、エチル基、nプロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペ
ンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基などのアル
キル基、シクロヘキシルメチル基、3−シクロヘキシル
プロピル基などのシクロアルキルアルキル基、またはメ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシエチル
基、エトキシカルボニルメチル基、2−エトキシカルボ
ニルエチル基、3−エトキシカルボニルプロピル基など
のアルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置換
されたアルキル基等を挙げることができる。
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペ
ンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基などのアル
キル基、シクロヘキシルメチル基、3−シクロヘキシル
プロピル基などのシクロアルキルアルキル基、またはメ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシエチル
基、エトキシカルボニルメチル基、2−エトキシカルボ
ニルエチル基、3−エトキシカルボニルプロピル基など
のアルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置換
されたアルキル基等を挙げることができる。
zはメチレン基−CH2− およびモノ置換メチレン基
C−(R3は通常炭素数10以下の アルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシ
カルボニル基を表わす。
C−(R3は通常炭素数10以下の アルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシ
カルボニル基を表わす。
)から選択される2以上の基、ならびにオキシ基−0−
、チオ基−S−、通常炭素数10以下のシクロアルキレ
ン基、アルキル置換イミノ基 ( (R6 は通常炭素数10以下のアルキル基を表わす。
、チオ基−S−、通常炭素数10以下のシクロアルキレ
ン基、アルキル置換イミノ基 ( (R6 は通常炭素数10以下のアルキル基を表わす。
)、アシル置換イミ2ノ基(R7は通常炭
素数10以下のアルキル基を表わす。
)およびフエニレン基{:〕卜から選択されるOまたは
1以上の基が任意の順序に結合した2価基を表わし、上
記の結合する基の数ば通常20以下である。さらに具体
的には上記Rは1−アジリジニル基、1−アゼチジニル
基、3−メトキシ−1アゼチジニル基、3−エトキシ−
1−アゼチジニル基、1−ピロリジニル基、1−ピペリ
ジノ基、4−メチル−1−ピペリジノ基、4−エチル−
1−ピペリジノ基、4−(n−プロピル)一1−ピペリ
ジノ基、4−イソプロピル−1ピペリジノ基、2−メチ
ル−1−ピペリジノ基、3−メチル−1−ピペリジノ基
、2−エトキシカルボニル−1−ピロリジニル基、4−
メトキシ−1−ピペリジノ基、4−アセチル−1−ピペ
リジノ基、4−メトキシカルボニル−1−ピペリジノ基
、1−ヘキサメチレンイミニル基、1−オクタメチレン
イミニル基などの1−ポリメチレンイミニル基またはそ
の誘導体、3−オキサゾリジニル基、3−チアゾリジニ
ル基などのオキサゾール、チアゾール系の基、2−イソ
オキサゾリジニル基、2−イソチアゾリジニル基などの
イソオキサゾール、イソチアゾール系の基、4−モルフ
オリノ基、2・6−ジメチル4−モルフオリノ基、3−
(テトラヒトロー1・3−オキサジニル)基などのオキ
サジン系の基、4−(テトラヒトロー1・4−チアジル
)基などのチアジン系の基、4−メチル−1−ピペラジ
ニル基、4−アセチル−1−ピペラジニル基、2−イソ
インドリニル基、1−インドリニル基、1・2・3・4
−テトラヒトロー2−イソキノリル基、3−アザピング
ロー〔3・2・2〕ノン−3−イル基、1・2・3・4
−テトラヒトロー1−キノリル基等である。本発明方法
によつて得られるN2−ナフタレンスルホニルアルギニ
ンアミド類は上記一般式()によつて表わされる。
1以上の基が任意の順序に結合した2価基を表わし、上
記の結合する基の数ば通常20以下である。さらに具体
的には上記Rは1−アジリジニル基、1−アゼチジニル
基、3−メトキシ−1アゼチジニル基、3−エトキシ−
1−アゼチジニル基、1−ピロリジニル基、1−ピペリ
ジノ基、4−メチル−1−ピペリジノ基、4−エチル−
1−ピペリジノ基、4−(n−プロピル)一1−ピペリ
ジノ基、4−イソプロピル−1ピペリジノ基、2−メチ
ル−1−ピペリジノ基、3−メチル−1−ピペリジノ基
、2−エトキシカルボニル−1−ピロリジニル基、4−
メトキシ−1−ピペリジノ基、4−アセチル−1−ピペ
リジノ基、4−メトキシカルボニル−1−ピペリジノ基
、1−ヘキサメチレンイミニル基、1−オクタメチレン
イミニル基などの1−ポリメチレンイミニル基またはそ
の誘導体、3−オキサゾリジニル基、3−チアゾリジニ
ル基などのオキサゾール、チアゾール系の基、2−イソ
オキサゾリジニル基、2−イソチアゾリジニル基などの
イソオキサゾール、イソチアゾール系の基、4−モルフ
オリノ基、2・6−ジメチル4−モルフオリノ基、3−
(テトラヒトロー1・3−オキサジニル)基などのオキ
サジン系の基、4−(テトラヒトロー1・4−チアジル
)基などのチアジン系の基、4−メチル−1−ピペラジ
ニル基、4−アセチル−1−ピペラジニル基、2−イソ
インドリニル基、1−インドリニル基、1・2・3・4
−テトラヒトロー2−イソキノリル基、3−アザピング
ロー〔3・2・2〕ノン−3−イル基、1・2・3・4
−テトラヒトロー1−キノリル基等である。本発明方法
によつて得られるN2−ナフタレンスルホニルアルギニ
ンアミド類は上記一般式()によつて表わされる。
アルギニンアミドまたはN2−ナフタレンスルホニルア
ルギニンアミド類の酸付加塩としては塩酸塩、臭化水素
塩、P−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、酢酸塩などの
無機酸塩、有機酸塩を挙げることができる。
ルギニンアミド類の酸付加塩としては塩酸塩、臭化水素
塩、P−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、酢酸塩などの
無機酸塩、有機酸塩を挙げることができる。
本発明で原料として用いられるN2−アルギニンアミド
またはその酸付加塩はアルギニンのグアニジノ基および
α−アミノ基をニトロ化、アセチル化、ホルミル化、プ
タロール化、トリフルオロアセチル化、P−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル化、ベンゾイル化、ベンジルオ
キシカルボニル化あるいはトリチル化等によつて保護し
て、これを上記一般式(1)のRに対応するRHで表わ
されるアミンと酸塩化物法、酸アジド法、混合酸無水物
法、活性エステル化法、カルボジイミド法等、常法に従
つて縮合させた後保護基を脱離させることによつて得ら
れる。
またはその酸付加塩はアルギニンのグアニジノ基および
α−アミノ基をニトロ化、アセチル化、ホルミル化、プ
タロール化、トリフルオロアセチル化、P−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル化、ベンゾイル化、ベンジルオ
キシカルボニル化あるいはトリチル化等によつて保護し
て、これを上記一般式(1)のRに対応するRHで表わ
されるアミンと酸塩化物法、酸アジド法、混合酸無水物
法、活性エステル化法、カルボジイミド法等、常法に従
つて縮合させた後保護基を脱離させることによつて得ら
れる。
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類または
その酸付加塩のもう一つの原料であるナフタレンスルホ
ニルハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲ
ニドは上記一般式()で表わされるが一般式()中でR
′は1−ナフチル基;2−ナフチル基;ハロゲン原子、
ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ジアルキル
アミノ基、シアノ基もしくはアルキル基で置換された1
−ナフチル基または2−ナフチル基を表わす。
その酸付加塩のもう一つの原料であるナフタレンスルホ
ニルハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲ
ニドは上記一般式()で表わされるが一般式()中でR
′は1−ナフチル基;2−ナフチル基;ハロゲン原子、
ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ジアルキル
アミノ基、シアノ基もしくはアルキル基で置換された1
−ナフチル基または2−ナフチル基を表わす。
具体的には、ナフタレン環の置換基はCl,.Br等の
ハロゲン原子;ニトロ基;メトキシカルボニルオキシ基
、エトキシカルボニルオキシ基等の通常炭素数5以下の
低級アルコキシカルボニルオキシ基;ジメチルアミノ基
、ジエチルアミノ基等の通常炭素数10以下のジアルキ
ルアミノ基;シアノ基;メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基
、t−ブチル基等の通常炭素数10以下、好ましくは炭
素数5以下のアルキル基等である。なお、5(ジメチル
アミノ)−1−ナフチル基は除く。またXはCl.Br
等の・・ロゲン原子を表わすが、通常ナフタレンスルホ
ニルハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲ
ニドとしては、ナフタレンスルホニルクロリドまたは置
換ナフタレンスルホニルクロリドが用いられる。アルギ
ニンアミドまたはその酸付加塩とナフタレンスルホニル
ハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲニド
の反応は通常塩基の存在下行われる。
ハロゲン原子;ニトロ基;メトキシカルボニルオキシ基
、エトキシカルボニルオキシ基等の通常炭素数5以下の
低級アルコキシカルボニルオキシ基;ジメチルアミノ基
、ジエチルアミノ基等の通常炭素数10以下のジアルキ
ルアミノ基;シアノ基;メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基
、t−ブチル基等の通常炭素数10以下、好ましくは炭
素数5以下のアルキル基等である。なお、5(ジメチル
アミノ)−1−ナフチル基は除く。またXはCl.Br
等の・・ロゲン原子を表わすが、通常ナフタレンスルホ
ニルハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲ
ニドとしては、ナフタレンスルホニルクロリドまたは置
換ナフタレンスルホニルクロリドが用いられる。アルギ
ニンアミドまたはその酸付加塩とナフタレンスルホニル
ハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲニド
の反応は通常塩基の存在下行われる。
塩基は反応で生成するハロゲン化水素を捕捉し反応を促
進する。塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
カリウム等の一般的な無機塩基を挙げることができる。
進する。塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
カリウム等の一般的な無機塩基を挙げることができる。
無機塩基は通常水溶液として用いられる。塩基はアルギ
ニンアミドに対し通常当量以上使用される。
ニンアミドに対し通常当量以上使用される。
原料としてアルギニンアミドの酸付加塩を使用する場合
、アルギニンアミドの酸付加塩をアルギニンアミドに変
えるに十分な量の塩基を過剰に用いることが好ましい。
ナフタレンスルホニルハロゲニドまたは置換ナフタレン
スルホニルハロゲニドは通常等モルのアルギニンアミド
またはその酸付加塩と反応させる。
、アルギニンアミドの酸付加塩をアルギニンアミドに変
えるに十分な量の塩基を過剰に用いることが好ましい。
ナフタレンスルホニルハロゲニドまたは置換ナフタレン
スルホニルハロゲニドは通常等モルのアルギニンアミド
またはその酸付加塩と反応させる。
アルギニンアミドまたはその酸付加塩とナフタレンスル
ホニルハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロ
ゲニドの反応は一般には溶媒中で行われる。溶媒として
は水:塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などの
塩素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、テトラヒドロピランなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン系溶媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチル尿素、N−メチルピロリドン、ピリジ
ン、キノリンなどの塩基性溶媒または2以上のこれら溶
媒の混合物が用いられる。塩基性溶媒を用いると、これ
ら溶媒は酸受溶剤として作用するので、塩基を添加する
必要はない。
ホニルハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロ
ゲニドの反応は一般には溶媒中で行われる。溶媒として
は水:塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などの
塩素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、テトラヒドロピランなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン系溶媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチル尿素、N−メチルピロリドン、ピリジ
ン、キノリンなどの塩基性溶媒または2以上のこれら溶
媒の混合物が用いられる。塩基性溶媒を用いると、これ
ら溶媒は酸受溶剤として作用するので、塩基を添加する
必要はない。
反応温度は使用するアルギニンアミドおよび塩基によつ
て異なるが、一般にはO℃から溶媒の沸点までの温度か
ら選ばれる。反応時間は使用するアルギニンアミドによ
つて異なるが、通常10分から15時間の範囲から選ば
れる。
て異なるが、一般にはO℃から溶媒の沸点までの温度か
ら選ばれる。反応時間は使用するアルギニンアミドによ
つて異なるが、通常10分から15時間の範囲から選ば
れる。
反応終了後生成した塩類を水洗して除去し、溶媒を留去
後、水および/または溶媒で生成物を洗浄するとN2−
ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類が得られる。
後、水および/または溶媒で生成物を洗浄するとN2−
ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類が得られる。
またこうして得られたN2ナフタレンスルホニルアルギ
ニンアミド類にエーテルおよび酸(たとえば塩酸、P−
トルエンスルホン酸など)を加え、生成したN2−ナフ
タレンスルホニルアルギニンアミド類の酸付加塩を単離
することもできる。次に本発明の方法によつて得られる
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類の薬理
効果を説明する。
ニンアミド類にエーテルおよび酸(たとえば塩酸、P−
トルエンスルホン酸など)を加え、生成したN2−ナフ
タレンスルホニルアルギニンアミド類の酸付加塩を単離
することもできる。次に本発明の方法によつて得られる
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類の薬理
効果を説明する。
既述の通りN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミ
ド類は抗トロンビン作用を有するが、既知の抗トロンビ
ン剤であるTAME(N2−(Pトリルスルホニル)−
L−アルギニン、メチルエステノ(ハ)とN2−ナフタ
レンスルホニルアルギニンアミド類の抗トロンビン作用
をフイブリノーゲン凝固時間を測定して比較した。
ド類は抗トロンビン作用を有するが、既知の抗トロンビ
ン剤であるTAME(N2−(Pトリルスルホニル)−
L−アルギニン、メチルエステノ(ハ)とN2−ナフタ
レンスルホニルアルギニンアミド類の抗トロンビン作用
をフイブリノーゲン凝固時間を測定して比較した。
試1験は次のようにして行つた。牛フイブリノーゲン(
コーン フラクシヨン1(COllnFractiOn
l)、アーマ一(ArmOur)社製)150即を40
m1のボレート サラインバツJャA(BOrateSa
llneBuffer(PH7.4))に溶解した溶液
0,8m1と0.1m1のボレート サライン バツフ
ア(対照試料)または試料溶液を氷冷下で混和し、さら
に5units/mlのトロンビン(持田製薬(株)製
試薬)0.1m1を氷冷下で添加してよく混和し直ちに
25℃の恒温槽に移す。
コーン フラクシヨン1(COllnFractiOn
l)、アーマ一(ArmOur)社製)150即を40
m1のボレート サラインバツJャA(BOrateSa
llneBuffer(PH7.4))に溶解した溶液
0,8m1と0.1m1のボレート サライン バツフ
ア(対照試料)または試料溶液を氷冷下で混和し、さら
に5units/mlのトロンビン(持田製薬(株)製
試薬)0.1m1を氷冷下で添加してよく混和し直ちに
25℃の恒温槽に移す。
恒温槽に入れた瞬間にストツプウオツチを始動させ、フ
イプリン系を認めた時までの時間を測定した。試料無添
加の場合(対照実験)の凝固時間は5055秒であつた
。実験結果を表−1に示す。
イプリン系を認めた時までの時間を測定した。試料無添
加の場合(対照実験)の凝固時間は5055秒であつた
。実験結果を表−1に示す。
表−1で凝固時間を2倍に延長する濃度とは、対照実験
での凝固時間50−55秒を凝固時間100−110秒
に延長するのに必要な濃度を表わす。TAMEについて
は、その凝固時間を2倍に延長する濃度は1100μM
であつた。
での凝固時間50−55秒を凝固時間100−110秒
に延長するのに必要な濃度を表わす。TAMEについて
は、その凝固時間を2倍に延長する濃度は1100μM
であつた。
なお、下記表−1においてN2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド類は、表中のRsR′および付加物を
特定することによつて表わす。
アルギニンアミド類は、表中のRsR′および付加物を
特定することによつて表わす。
次に本発明を実施例にて具体的に説明するが、その要旨
を超えない限り本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例 1 4−メチル−1−(L−アルギニル)ピペリジン1.0
7(0.0039モル)を炭酸カリウム0.65y(0
.0047モル)およびH2OlOmlからなる溶液に
懸濁させ、0℃に冷却する。
を超えない限り本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例 1 4−メチル−1−(L−アルギニル)ピペリジン1.0
7(0.0039モル)を炭酸カリウム0.65y(0
.0047モル)およびH2OlOmlからなる溶液に
懸濁させ、0℃に冷却する。
この懸濁液に激しく攪拌しながら、1−ナフタレンスル
ホニルクロリド1.17(0.0047モル)を100
m1のジオキサンに溶解した溶液を30分かけて滴下す
る。室温で5時間攪拌後、析出物をr去し、溶媒を減圧
留去する。10%酢酸含有クロロホルムを加え、不溶物
を▲去後溶媒を留去すると、粉体状の4−メチル−1−
(N2−(1ナフタレンスルホニル)−L−アルギニル
)ピペリジン・酢酸塩を得る。
ホニルクロリド1.17(0.0047モル)を100
m1のジオキサンに溶解した溶液を30分かけて滴下す
る。室温で5時間攪拌後、析出物をr去し、溶媒を減圧
留去する。10%酢酸含有クロロホルムを加え、不溶物
を▲去後溶媒を留去すると、粉体状の4−メチル−1−
(N2−(1ナフタレンスルホニル)−L−アルギニル
)ピペリジン・酢酸塩を得る。
メタノール−エーテルより再沈澱して精製する。収率6
1%元素分析;C22H3,O3N5S−CH3COO
Hとして実施例 24−(L−アルギニル)モルホリン
1.0y(0.0041モル)にクロロホルム100m
1およびトリエチルアミン0.52f(0.0052モ
ル)を加える。
1%元素分析;C22H3,O3N5S−CH3COO
Hとして実施例 24−(L−アルギニル)モルホリン
1.0y(0.0041モル)にクロロホルム100m
1およびトリエチルアミン0.52f(0.0052モ
ル)を加える。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I )(上記一般
式( I )中でRは一般式(1)▲数式、化学式、表等
があります▼(式中でR_1およびR_2は水素原子、
アルキル基、シクロアルキルアルキル基またはアルコキ
シ基もしくはアルコキシカルボニル基で置換されたアル
キル基を表わす。 )または一般式(2)−NZ(式中でZはメチレン基−
CH_2−およびモノ置換メチレン基▲数式、化学式、
表等があります▼(R_3はアルキル基、アシル基、ア
ルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表わす。)
から選択される2以上の基ならびにオキシ基−O−、チ
オ基−S−、シクロアルキレン基、アルキル置換イミノ
基▲数式、化学式、表等があります▼(R_6はアルキ
ル基を表わす。)、アシル置換イミノ基▲数式、化学式
、表等があります▼(R_7はアルキル基を表わす。 )およびフェニレン基▲数式、化学式、表等があります
▼から選択される0または1以上の基が任意の順序に結
合した2価基を表わす。)で表わされる。)で表わされ
るアルギニンアミドまたはその酸付加塩と下記一般式(
II)R′−SO_2X(II) (上記一般式(II)中でR′は1−ナフチル基;2−ナ
フチル基;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくは
アルキル基で置換された1−ナフチル基または2−ナフ
チル基を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。 ただしR′は5−(ジメチルアミノ)−1−ナフチル基
を除く。)で表わされるナフタレンスルホニルハロゲニ
ドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲニドを反応さ
せることを特徴とする下記一般式(III)▲数式、化学
式、表等があります▼(III)(上記一般式(III)中で
Rは上記一般式( I )におけると同じ意義を有し、R
′は上記一般式(II)におけると同じ意義を有する。 )で表わされるN^2−ナフタレンスルホニルアルギニ
ンアミド類またはその酸付加塩の製造方法。
Priority Applications (50)
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|---|---|---|---|
| JP50023635A JPS5939423B2 (ja) | 1975-02-26 | 1975-02-26 | N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造方法 |
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| FR7534105A FR2290193A1 (fr) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | Derives de n2-naphtalenesulfonyl-l-arginine, leur preparation et compositions pharmaceutiques les contenant |
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| DE19752550088 DE2550088A1 (de) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | N hoch 2 -naphtalinsulfonyl-l-argininester und -amide |
| NO753733A NO753733L (ja) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | |
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| US05/653,217 US4055651A (en) | 1974-11-08 | 1976-01-28 | N2 -alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/656,014 US4041156A (en) | 1974-11-08 | 1976-02-06 | N2 -alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
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| US05/671,568 US4049645A (en) | 1974-11-08 | 1976-03-29 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
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| US05/713,486 US4073914A (en) | 1974-11-08 | 1976-08-11 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/723,474 US4096255A (en) | 1974-11-08 | 1976-09-14 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides, and pharmaceutical salts, compositions and methods |
| US05/728,051 US4104392A (en) | 1974-11-08 | 1976-09-30 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof, and antithrombotic compositions and methods employing them |
| US05/760,677 US4069317A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
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| US05/760,587 US4072757A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 alkoxynaphthylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/760,745 US4066773A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/760,673 US4125619A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
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| US05/760,744 US4072743A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
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| US05/776,195 US4097591A (en) | 1974-11-08 | 1977-03-10 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
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| US05/804,334 US4125604A (en) | 1974-11-08 | 1977-06-07 | N2-Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/804,331 US4140681A (en) | 1974-11-08 | 1977-06-07 | N2 -Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
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| US05/829,483 US4139529A (en) | 1974-11-08 | 1977-08-31 | N2 -Naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
| US05/844,181 US4168307A (en) | 1974-11-08 | 1977-10-21 | N2 -Naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
| US05/844,196 US4154828A (en) | 1974-11-08 | 1977-10-21 | N2 -Naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
| US05/844,188 US4117127A (en) | 1974-11-08 | 1977-10-21 | N2 -Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/902,855 US4173630A (en) | 1974-11-08 | 1978-05-04 | N2 Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| US05/938,711 US4201863A (en) | 1974-11-08 | 1978-08-31 | N2 -Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
| UA2814248A UA8371A1 (uk) | 1974-11-08 | 1979-08-30 | СПОСІБ ОДЕРЖАННЯ N2-АРІЛ-СУЛЬФОНІЛ-alРha АРГІНІНАМІДІВ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50023635A JPS5939423B2 (ja) | 1975-02-26 | 1975-02-26 | N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51125263A JPS51125263A (en) | 1976-11-01 |
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Family
ID=12116026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50023635A Expired JPS5939423B2 (ja) | 1974-11-08 | 1975-02-26 | N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5939423B2 (ja) |
-
1975
- 1975-02-26 JP JP50023635A patent/JPS5939423B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51125263A (en) | 1976-11-01 |
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