JPS5942671Y2 - ダブルモノクロメ−タ - Google Patents
ダブルモノクロメ−タInfo
- Publication number
- JPS5942671Y2 JPS5942671Y2 JP16074176U JP16074176U JPS5942671Y2 JP S5942671 Y2 JPS5942671 Y2 JP S5942671Y2 JP 16074176 U JP16074176 U JP 16074176U JP 16074176 U JP16074176 U JP 16074176U JP S5942671 Y2 JPS5942671 Y2 JP S5942671Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- width
- cam
- double monochromator
- slits
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はダブルモノクロメータ、特にダブルモノクロメ
ータにおけるスリット機構に関するものである。
ータにおけるスリット機構に関するものである。
ダブルモノクロメータにおいては、入口、中間、出口に
それぞれ入射スリット、中間スリット、出射スリットの
各スリット機構を有しているが、これらの各スリット巾
を常に同じ巾に連動制御すると、光学系の誤差、スペク
トル像の湾曲等により光量のロスをまねき分解能の低下
をきたす等の離点かあり、ダブルモノクロメータの利用
効果が十分発揮されない。
それぞれ入射スリット、中間スリット、出射スリットの
各スリット機構を有しているが、これらの各スリット巾
を常に同じ巾に連動制御すると、光学系の誤差、スペク
トル像の湾曲等により光量のロスをまねき分解能の低下
をきたす等の離点かあり、ダブルモノクロメータの利用
効果が十分発揮されない。
本考案は例えば中間スリットに他のスリットと相違する
スリット巾を簡単な機構で与えるとともに、全てのスリ
ット機構を連動制御し、上記のごとき欠点を防止せんと
したものであり、入射スリット、中間スリット、出射ス
リットの各スリット機構と、これらの各スリット機構の
連動駆動機構と、少なくとも一つのスリット機構に設け
られたスリット開度調節機構とを有するとともに、この
スリット開度調節機構は連動駆動機構によるスリット巾
の駆動に対して重畳的にスリット巾を調節でき、このス
リット巾を他のスリット巾よりも常に一定の巾だけ相違
した状態で連動制御し得るようにしたことを特徴とする
。
スリット巾を簡単な機構で与えるとともに、全てのスリ
ット機構を連動制御し、上記のごとき欠点を防止せんと
したものであり、入射スリット、中間スリット、出射ス
リットの各スリット機構と、これらの各スリット機構の
連動駆動機構と、少なくとも一つのスリット機構に設け
られたスリット開度調節機構とを有するとともに、この
スリット開度調節機構は連動駆動機構によるスリット巾
の駆動に対して重畳的にスリット巾を調節でき、このス
リット巾を他のスリット巾よりも常に一定の巾だけ相違
した状態で連動制御し得るようにしたことを特徴とする
。
以下図面の実施例に従って本案を説明する。
第1図は公知のキャリー型ダブルモノクロメータで、入
射スリット11から入射した光はコリメーティングミラ
ー12で収斂させられて分散子13に導びかれ、ここで
分散された光はカメラミン−14によって集光され、中
間スリット15を通ってコリメーティングミラー16に
入り、平行光線となって分散子17に導かれ、そこから
の分散光はカメラミラー18によって出射スリット19
によって集光されてモノクロメータ室20の外部に取出
される。
射スリット11から入射した光はコリメーティングミラ
ー12で収斂させられて分散子13に導びかれ、ここで
分散された光はカメラミン−14によって集光され、中
間スリット15を通ってコリメーティングミラー16に
入り、平行光線となって分散子17に導かれ、そこから
の分散光はカメラミラー18によって出射スリット19
によって集光されてモノクロメータ室20の外部に取出
される。
このダブルモノクロメータにおいては波長に応じてスリ
ット巾を調節する必要があるが、このとき入射、中間、
出射の各スリット巾を常に同じように連動制御したので
は、上記のようなスペクトル像の湾曲等により光量のロ
スを招き分解能の低下をきたす。
ット巾を調節する必要があるが、このとき入射、中間、
出射の各スリット巾を常に同じように連動制御したので
は、上記のようなスペクトル像の湾曲等により光量のロ
スを招き分解能の低下をきたす。
第2図は上記のようなダブルモノクロメータに利用する
こ゛とができる本考案のスリット機構の一実施例を示す
もので、第1図と同一符号は対応する素子を示す。
こ゛とができる本考案のスリット機構の一実施例を示す
もので、第1図と同一符号は対応する素子を示す。
図において入射スリット11、中間スリット15、出射
スリット19を構成する2枚のスリット刃の!方は支持
枠21に、他方は支持枠22にそれぞれ図示のように支
持されている。
スリット19を構成する2枚のスリット刃の!方は支持
枠21に、他方は支持枠22にそれぞれ図示のように支
持されている。
ただ、中間スリット15の一方のスリット刃は支持枠2
2上に摺動自在に取付けられたスベリ台23に固定され
ている。
2上に摺動自在に取付けられたスベリ台23に固定され
ている。
これらの枠21.22はそれぞれ逆方向にバネ24.2
5で付勢されており、常時は図から明らかなようにスリ
ットは閉じている。
5で付勢されており、常時は図から明らかなようにスリ
ットは閉じている。
26はスリット機構駆動用のカムで、このカム26は、
6枠21,22から延びるアーム21゜28上の触子2
9に接触しており、従ってこのカム26が軸30によっ
て回転させられると、支持枠21.22はバネ24.2
5に抗して移動し、スリン)11,15.19が開閉動
作される。
6枠21,22から延びるアーム21゜28上の触子2
9に接触しており、従ってこのカム26が軸30によっ
て回転させられると、支持枠21.22はバネ24.2
5に抗して移動し、スリン)11,15.19が開閉動
作される。
このスリット開閉動作は全てのスリットに一様に及び、
従ってカム26が回動しないときに全てのスリットが閉
じていたとすると、カムの回動によって全てのスリット
は一様に同じ比率で開くこととなる。
従ってカム26が回動しないときに全てのスリットが閉
じていたとすると、カムの回動によって全てのスリット
は一様に同じ比率で開くこととなる。
つまり、1:1:1の関係になる。しかしながら前もっ
て中間スリット15のスリット刃をスベリ台230手段
によってずらしてΔWの開きを与えておけば、カム26
0回動によって各スリット巾の比率はl:1:1+ΔW
となる。
て中間スリット15のスリット刃をスベリ台230手段
によってずらしてΔWの開きを与えておけば、カム26
0回動によって各スリット巾の比率はl:1:1+ΔW
となる。
すなわち入射スリット・出射スリットのスリット巾と中
間スリットのスリット巾の関係は中間スリットの巾が常
に一定の巾ΔWだけ広い状態となり第3図のグラフの実
線のような直線関係となる。
間スリットのスリット巾の関係は中間スリットの巾が常
に一定の巾ΔWだけ広い状態となり第3図のグラフの実
線のような直線関係となる。
なお、点線は全てのスリットのスリット巾が等しいとき
の関係を示す。
の関係を示す。
この第2図の構成にあっては各スリット11゜15.1
9は、支持枠21,22およびカム26等のスリット機
構の連動駆動機構によって操作され、スリット15に設
けられたスベリ台23は、スリット開度調節機構として
連動駆動機構によるスリット巾の駆動に対して重畳的に
スリット巾を調節できるのである。
9は、支持枠21,22およびカム26等のスリット機
構の連動駆動機構によって操作され、スリット15に設
けられたスベリ台23は、スリット開度調節機構として
連動駆動機構によるスリット巾の駆動に対して重畳的に
スリット巾を調節できるのである。
つぎに第4図は第2図のごとくスリットが直線的に配置
されるものではなく、ある程度自由な位置にスリットを
配置することができる他の実施例である。
されるものではなく、ある程度自由な位置にスリットを
配置することができる他の実施例である。
図において40.41は一対の回転軸であり、この回転
軸の一端には各々スリット刃42.43が固定されて両
者間でスリットを構成している。
軸の一端には各々スリット刃42.43が固定されて両
者間でスリットを構成している。
一方この回転軸40.41の他端にはやはり一対の回転
レバー44.45が各々固定され、この回転レバー44
.45上には、回転円板46.47が設けられ、これら
回転円板は常に接触して回転レバー44.45間の間隔
が変化しないようにスペーサの役目をはたしている。
レバー44.45が各々固定され、この回転レバー44
.45上には、回転円板46.47が設けられ、これら
回転円板は常に接触して回転レバー44.45間の間隔
が変化しないようにスペーサの役目をはたしている。
48は上記レバー駆動用のカムであり、このカム板48
およびこのカム48の上方に同軸で設けられるスリット
目盛板49を介して回動させることにより、レバー44
.45は軸40.41を回転させ、その結果スリット刃
42.43は回転軸40.41を中心に互いに反対方向
に移動し、スリット巾は大きくあるいは小さくなる。
およびこのカム48の上方に同軸で設けられるスリット
目盛板49を介して回動させることにより、レバー44
.45は軸40.41を回転させ、その結果スリット刃
42.43は回転軸40.41を中心に互いに反対方向
に移動し、スリット巾は大きくあるいは小さくなる。
なお、50はローラーで、一方のレバー上に設けられて
カム48と摺接してカム面形状に沿ってレバーを軸40
.41を中心にして回動させるものである。
カム48と摺接してカム面形状に沿ってレバーを軸40
.41を中心にして回動させるものである。
また51はレバーをカムへ付勢するためのバネである。
このようなスリット機構をダブルモノクロメータの入射
スリット、中間スリット、出射スリットの各部に設け、
各部のこのスリット機構のスリット目盛板49あるいは
カム48を連動駆動機構(図示せず)、例えば歯車ある
いはベルト等から構成するもので連動することにより、
各スリットを同時に同じスリット巾に調節駆動すること
ができる。
スリット、中間スリット、出射スリットの各部に設け、
各部のこのスリット機構のスリット目盛板49あるいは
カム48を連動駆動機構(図示せず)、例えば歯車ある
いはベルト等から構成するもので連動することにより、
各スリットを同時に同じスリット巾に調節駆動すること
ができる。
このように連動駆動機構を歯車あるいはベルト等から構
成し得るので、第2図のごときスリットの配置と相違し
、かなり自由に適当な位置にスリットを配置することが
できる。
成し得るので、第2図のごときスリットの配置と相違し
、かなり自由に適当な位置にスリットを配置することが
できる。
つまり光学的配置の自由がこのタイプのものには存在す
るのである。
るのである。
この実施例の構成において、中間スリット機構のロー、
7−50を他の入射、出射スリット機構のローラーより
小さいものに取換えることにより、第2図の実施例と同
じく中間スリット巾を他のスリット巾よりも常に一定の
巾だけ広くしておくことが可能となる。
7−50を他の入射、出射スリット機構のローラーより
小さいものに取換えることにより、第2図の実施例と同
じく中間スリット巾を他のスリット巾よりも常に一定の
巾だけ広くしておくことが可能となる。
なお、この実施例においてカム位置がレバーに対して反
対位置にあるときは、ローラーは他のスリット機構のロ
ーラよりも大きいものを使用することどなる。
対位置にあるときは、ローラーは他のスリット機構のロ
ーラよりも大きいものを使用することどなる。
また、この第4図の構成のスリット機構と、第2図の構
成のスリット機構を組み合わせて利用することも可能で
ある。
成のスリット機構を組み合わせて利用することも可能で
ある。
このときは、第2図の軸30の動きを適当な手段を介し
て第4図のカム48に伝えることによって、例えば、こ
の第4図の構成のスリット機構を中間スリットとして利
用することができる。
て第4図のカム48に伝えることによって、例えば、こ
の第4図の構成のスリット機構を中間スリットとして利
用することができる。
以上のように本考案においては、例えば中Mスリットの
光学的配置の自由なしかも極めて迷光の少ナイダブルモ
ノクロメータが容易に実現でき、三つのスリットの連動
を簡単な機構で行なうことができ、そのための調整に要
する時間を大巾に短縮できる。
光学的配置の自由なしかも極めて迷光の少ナイダブルモ
ノクロメータが容易に実現でき、三つのスリットの連動
を簡単な機構で行なうことができ、そのための調整に要
する時間を大巾に短縮できる。
また装置に必要な任意の精度のスリット巾が実現でき、
例えばプリズム・グレーティング方式の分光器において
は、中間スリットを一定の巾だけ入射、出射スリットに
対して広くしておくことにより、スペクトル像の湾曲等
により発生する光量のロスからくる性能の悪化を防ぐこ
とができ、かつ迷光や収差の少ない光分な高性能を持つ
ダブルモノクロメータを得ることができる。
例えばプリズム・グレーティング方式の分光器において
は、中間スリットを一定の巾だけ入射、出射スリットに
対して広くしておくことにより、スペクトル像の湾曲等
により発生する光量のロスからくる性能の悪化を防ぐこ
とができ、かつ迷光や収差の少ない光分な高性能を持つ
ダブルモノクロメータを得ることができる。
なお、上記の実施例においては中間スリット巾が他のス
リット巾より一定の巾だけ広いスリット巾が得られる構
成につき説明したが、中間スリット機構と同じような手
段をもちいて、他のスリット、例えば入射スリット巾が
他のスリット巾よりも一定量広い巾をもつように構成す
ることも可能である。
リット巾より一定の巾だけ広いスリット巾が得られる構
成につき説明したが、中間スリット機構と同じような手
段をもちいて、他のスリット、例えば入射スリット巾が
他のスリット巾よりも一定量広い巾をもつように構成す
ることも可能である。
またタープルモノクロメータの分散子として回折格子を
使用した実施例を第1図に示したが本考案は分散子とし
てプリズムを利用するものにも十分利用できる。
使用した実施例を第1図に示したが本考案は分散子とし
てプリズムを利用するものにも十分利用できる。
さらに、上記の実施例においては、あるスリット巾より
も常に一定の巾だけ相違した状態で連動制御し得る構成
について説明したが、スリット開度調節機構を他の構成
にすることにより、この一定の巾だけでなく変化する巾
をもたすこともできる。
も常に一定の巾だけ相違した状態で連動制御し得る構成
について説明したが、スリット開度調節機構を他の構成
にすることにより、この一定の巾だけでなく変化する巾
をもたすこともできる。
なお説明の便宜上、上記では各スリット巾を1:1:1
+ΔWとして連続駆動制御すると説明したが、カムの形
状によって各スリットの巾の比率を1:1:1+△W以
外に連動変化させうろことは従来の通りである。
+ΔWとして連続駆動制御すると説明したが、カムの形
状によって各スリットの巾の比率を1:1:1+△W以
外に連動変化させうろことは従来の通りである。
第1図は一般のダブルモノクロメータの一例の概略図、
第2図は本考案のスリット構成を示す図、第3図は本考
案による入射、中間、出射スリット巾の関係を説明する
図、第4図は本考案の他のスリット構成を示す図である
。 11.15,19・・・・・・スリット、21 .22
・・・・・・支持枠、23・・・・・・すべり台、26
・・・・・・カム、42.43・・・・・・スリット刃
、44,45・・・・・・レバー 48・・・・・・
カム、50・・・・・・ローラー。
第2図は本考案のスリット構成を示す図、第3図は本考
案による入射、中間、出射スリット巾の関係を説明する
図、第4図は本考案の他のスリット構成を示す図である
。 11.15,19・・・・・・スリット、21 .22
・・・・・・支持枠、23・・・・・・すべり台、26
・・・・・・カム、42.43・・・・・・スリット刃
、44,45・・・・・・レバー 48・・・・・・
カム、50・・・・・・ローラー。
Claims (1)
- モノクロメータを二つ連続に組み合わせたものにおいて
、入射スリット、中間スリット、出射スリットの各スリ
ット機構と、これらの各スリット機構の連動駆動機構と
、少なくとも一つのスリット機構に設けられたスリット
開度調節機構とを有するとともに、このスリット開度調
節機構は連動駆動機構によるスリット巾の駆動に対して
重畳的にスリット巾を調節でき、このスリット巾を他の
スリット巾よりも常に一定の巾だけ相違した状態で連動
制御し得るようにしたダブルモノクロメータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16074176U JPS5942671Y2 (ja) | 1976-11-30 | 1976-11-30 | ダブルモノクロメ−タ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16074176U JPS5942671Y2 (ja) | 1976-11-30 | 1976-11-30 | ダブルモノクロメ−タ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5376946U JPS5376946U (ja) | 1978-06-27 |
| JPS5942671Y2 true JPS5942671Y2 (ja) | 1984-12-14 |
Family
ID=28768599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16074176U Expired JPS5942671Y2 (ja) | 1976-11-30 | 1976-11-30 | ダブルモノクロメ−タ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942671Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN119689649A (zh) * | 2018-05-31 | 2025-03-25 | 赛默飞世尔科学印度私人有限公司 | 光源组合件、光纤原子吸收光谱仪和双光束光纤原子吸收光谱仪 |
| WO2022039266A1 (ja) | 2020-08-20 | 2022-02-24 | 三洋化成工業株式会社 | 粘度指数向上剤組成物及び潤滑油組成物 |
-
1976
- 1976-11-30 JP JP16074176U patent/JPS5942671Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5376946U (ja) | 1978-06-27 |
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